ST0012 Dysprosium (Dy) Sputtering Target

Dysprosium (Dy) Sputtering Target Beschreibung

Dysprosium (Dy) Sputtering Target wird mit hervorragender Reinheit (≥99%) hergestellt, um die strengen Anforderungen der Dünnschichtabscheidung und Oberflächenbeschichtung zu erfüllen. Dieses auf Präzision und Zuverlässigkeit ausgelegte Produkt bietet eine hervorragende Leistung für Anwendungen in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen und in der Spitzenforschung. Seine anpassbaren Formen, die als Standardscheiben oder maßgeschneiderte Designs erhältlich sind, gewährleisten die Kompatibilität mit verschiedenen Sputtersystemen. Der Einsatz der DC-Sputtertechnologie garantiert eine gleichmäßige Abscheidung, was dieses Target zu einer idealen Wahl für Branchen macht, die gleichbleibende und hochwertige Schichten benötigen.

Dysprosium (Dy) Sputtering Target Anwendungen

- Halbleiterherstellung: Für die Abscheidung hochwertiger Dünnschichten in der Mikroelektronik und für integrierte Schaltungen.
- Optische Beschichtungen: Ideal zur Verbesserung der Reflexions- und Durchlässigkeitseigenschaften in optischen Geräten.
- Display-Technologien: Anwendung in Plasmabildschirmen und ähnlichen fortschrittlichen Anzeigesystemen.
- Solarzellen: Trägt zur Entwicklung effizienter, leistungsstarker photovoltaischer Schichten bei.
- Forschung und Entwicklung: Perfekt für Versuchsaufbauten und spezielle Sputterprozesse in der Materialwissenschaft.

Dysprosium (Dy) Sputtering Target Packing

Unser Dysprosium (Dy) Sputtering Target wird während der Lagerung und des Transports mit äußerster Sorgfalt behandelt. Es wird vakuumversiegelt und sicher verpackt, um seine Unversehrtheit und Leistung zu erhalten. Die Verpackungsoptionen können je nach Kundenwunsch angepasst werden, um einen optimalen Schutz während des Transports zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen

F: Für welche Anwendungen ist das Dysprosium (Dy) Sputtering Target am besten geeignet?
A: Das Target ist ideal für die Halbleiterherstellung, optische Beschichtungen, Displaytechnologien, Solarzellen und verschiedene Forschungsanwendungen in der Materialwissenschaft.

F: Wie wird die hohe Reinheit (≥99%) des Targets sichergestellt?
A: Unser Produktionsprozess unterliegt strengen Qualitätskontrollstandards und nutzt fortschrittliche Reinigungstechnologien, um einen gleichbleibend hohen Reinheitsgrad zu erreichen und zu erhalten.

F: Sind kundenspezifische Formen für das Dysprosium (Dy) Sputtering Target erhältlich?
A: Ja, wir bieten maßgeschneiderte Optionen für spezifische Design- und Anwendungsanforderungen, die über die Standardscheibenform hinausgehen.

F: Welche Art von Sputtering-Prozess wird mit diesem Target verwendet?
A: Das Dysprosium-Target ist für das DC-Sputtern optimiert und gewährleistet ein stabiles Plasma und eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung.

F: Wie sollte das Dysprosium (Dy) Sputtering Target gelagert werden, um seine Qualität zu erhalten?
A: Das Target sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung gelagert und gemäß unseren Verpackungsanweisungen vorsichtig gehandhabt werden, um Verunreinigungen und Schäden zu vermeiden.