1200C Doppel-Schieberohrofen für CVD OTF-1200X-S2-50SL-CVD Beschreibung
Der 1200C Doppel-Schieberohrofen für CVD OTF-1200X-S2-50SL-CVD ist ein doppelter verschiebbarer Ofen auf einer Schiene, der speziell für die thermische chemische Gasphasenabscheidung (CVD) entwickelt wurde. Er verfügt über ein 2" OD x 55 "L Quarzrohr mit Flanschen und kann eine maximale Arbeitstemperatur von 1200°C erreichen. Dank dieser einzigartigen Konstruktion können zwei 2"-Röhrenöfen entlang der Schiene verschoben werden, was eine optimale Positionierung für die thermische Verdampfung/Sublimation von Ausgangsmaterialien und die Schichtabscheidung ermöglicht.
Das Verschieben des Ofens von einer Seite zur anderen ermöglicht schnelle Aufheiz- und Abkühlraten von bis zu 100°C/min. Zu den optionalen Ausstattungsmerkmalen gehören motorisierte Schieber für eine verbesserte Automatisierung, Mass Flow Controller (MFC) Gaszufuhrsysteme und ein RF-Plasma-Generator. Diese Optionen ermöglichen den Bau eines flexiblen und kostengünstigen thermischen CVD-Systems (TCVD), das sich für eine Vielzahl von Forschungs- und Industrieanwendungen eignet.
1200C Doppel-Schieberohrofen für CVD OTF-1200X-S2-50SL-CVD Spezifikationen
Rohrofender Serie OTF-1200X
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Aufbau des Ofens
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- Doppellagige Stahlkonstruktionen: Beide Öfen bestehen aus doppelschichtigem Stahl, der Temperaturen von bis zu 1200°C standhält.
- Heizzonen und Zonen mit konstanter Temperatur: Jeder Ofen verfügt über eine 200 mm lange Heizzone und eine 60 mm lange Zone mit konstanter Temperatur, die eine präzise thermische Kontrolle gewährleisten.
- Gleitschienensystem: Ausgestattet mit einem Paar Gleitschienen an der Unterseite, die eine manuelle Verstellung von Seite zu Seite mit einem maximalen Gleitabstand von 400 mm ermöglichen, was eine flexible Positionierung und Bedienung erleichtert.
- Gebrauchsfertige Vakuumflansche: Die Vakuumflansche sind für die sofortige Einrichtung und Verwendung vorinstalliert und gewährleisten eine schnelle Integration in Vakuumsysteme für verschiedene Anwendungen.
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Heizelemente
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Fe-Cr-Al-Legierung, dotiert mit Mo
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Leistung
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2,5KW, 208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Arbeitstemp.
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- Max. Temperatur: 1200℃ (1 Std.); 1100℃ (kontinuierlich)
- Aufheizgeschwindigkeit: ≤20℃/min
- Temperaturgenauigkeit: ±1,0℃
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Länge derHeizzone
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200 mm (~8") für jeden Ofen
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Konstante Temperaturzone
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60 mm
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Größe des Verarbeitungsrohrs
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Hochreines Quarzglasrohr
Größe: 50mm Außendurchmesser x 44mm Innendurchmesser x1500 mm Länge
Optional: S310 hochtemperaturbeständiges Rohr ist für höheren Druck (100 PSI) gegen Aufpreis erhältlich
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Temp. Steuerung
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- Zwei Öfen verfügen über eine automatische PID-Regelung mit 30 programmierbaren Segmenten zur präzisen Steuerung von Aufheizrate, Abkühlrate und Verweilzeit.
- Eingebauter Übertemperaturalarm und -schutz ermöglichen den Betrieb ohne Aufsichtspersonal.
- Zwei Thermoelemente vom Typ K sind im Lieferumfang enthalten.
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Vakuum-Flansche
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- Edelstahl-Vakuumflansche mit einem Vakuummeter sind an beiden Enden der Röhre mit einer robusten Halterung angebracht.
- Ein optionaler Flansch mit einem KF25-Vakuumanschluss und einem digitalen Vakuummeter ist gegen Aufpreis erhältlich, ebenso ein Kaltwasserflansch
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Gleitschienen / Tisch
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- Doppelte Gleitschiene aus verchromtem Stahl
- Länge der Schiene: 1200 mm
- Zwei Gleitstoppklemmen sind im Lieferumfang enthalten, um die Position der Öfen zu halten.
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Abmessungen
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- Ofen: 340 x 300 x 400 mm
- Gesamt: 1600 x 430 x 500 mm (Öfen + Rutsche)
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Nettogewicht
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~ etwa 80 kg
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Versandpaket Größe
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70" x 45" x 45" (Zoll)
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Garantie
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Eingeschränkte Herstellergarantie von einem Jahr (Verschleißteile wie Verarbeitungsschläuche, O-Ringe und Heizelemente sind von der Garantie ausgenommen, bitte bestellen Sie Ersatz bei den entsprechenden Produkten unten).
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Konformität
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CE-zertifiziert
NRTL- oder CSA-Zertifizierung ist auf Anfrage und gegen Aufpreis erhältlich.
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Hinweise
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- Rohröfen mit Quarzrohren sind für den Einsatz unter Vakuum und niedrigem Druck < 0,2 bar / 3 psi / 0,02 MPa ausgelegt.
- Achtung! Für einen sicheren Betrieb muss ein zweistufiger Druckregler an der Gasflasche installiert werden, um den Druck auf unter 3 PSI zu begrenzen.
- Die Durchflussrate für Gase sollte auf < 200 SCCM (oder 200 ml/min) begrenzt werden, um thermische Schocks auf das Rohr zu reduzieren.
- Definition der Vakuumgrenze für alle Quarzrohröfen: * Der Vakuumdruck darf nur bis zu 1000°C sicher verwendet werden.
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1200C Doppel-Schieberohrofen für CVD OTF-1200X-S2-50SL-CVD Anwendungen
Ermöglicht die Abscheidung von dünnen Schichten und Beschichtungen auf Substraten durch thermische Prozesse.
Wird bei der Herstellung von Halbleitern, photovoltaischen Zellen und fortschrittlichen Materialien eingesetzt.
Ermöglicht die Synthese von Nanomaterialien wie Nanoröhren und Graphen durch kontrollierte thermische Prozesse.
Unterstützt die Entwicklung von Hochleistungskeramiken und Verbundwerkstoffen.
- Verdampfung/Sublimation von Ausgangsmaterial:
Positioniert zwei Rohröfen auf einer Gleitschiene, um thermische Verdampfungs- oder Sublimationsprozesse für Ausgangsmaterialien zu optimieren.
Ermöglicht eine präzise Positionierung für eine gleichmäßige Schichtabscheidung und Materialverarbeitung.
- Hohe Aufheiz- und Abkühlraten:
Erzielt schnelle Aufheiz- und Abkühlraten von bis zu 100°C/min, was für die Optimierung von Verarbeitungszeiten und Materialeigenschaften entscheidend ist.
- Flexible Systemkonfiguration:
Bietet optionale Funktionen wie motorisierte Schieber, Mass Flow Controller (MFC)-Gaszufuhrsysteme und die Integration von RF-Plasmageneratoren.
Ermöglicht eine einfache Anpassung an spezifische Forschungs- oder Industrieanforderungen.
1200C Doppel-Schieberohrofen für CVD OTF-1200X-S2-50SL-CVD Verpackung
Unser 1200C Dual Sliding Tube Furnace for CVD OTF-1200X-S2-50SL-CVD wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
