1200C Mini-CVD-Rohrofen OTF-1200X-S50-2F Beschreibung
Der 1200C Mini-CVD-Rohrofen OTF-1200X-S50-2F ist ein CE-zertifizierter, geteilter Rohrofen zum Erhitzen von Proben auf bis zu 1200°C. Er verfügt über einen KF25-Gasauslass und ein digitales Vakuummeter, das im rechten Flansch installiert ist und den Anschluss an eine mechanische Pumpe mit 226 l/min (einschließlich eines Pumpenfilters) ermöglicht. Der linke Flansch wird über eine 1/4"-Gasleitung an eine 2-Kanal-Gasmischstation angeschlossen. Der Präzisionstemperaturregler bietet 30 Segmente von Heiz- und Kühlstufen mit einer Genauigkeit von ±1°C.
Dieses Ofensystem umfasst auch ein korrosionsbeständiges Pirani-Kapazitätsmembranmanometer für genaue Vakuummessungen mit aggressiven Gasen. Darüber hinaus liefert das digitale Vakuummeter präzise Druckmesswerte für alle Mischgase und gewährleistet so eine optimale Kontrolle und Messung während Ihrer Experimente.
1200C Mini-CVD-Rohrofen OTF-1200X-S50-2F Spezifikationen
Rohrofender Serie OTF-1200X
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Aufbau des Ofens
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- Hochbelastbares Stahlgehäuse
- Energieeffiziente Al2O3-Faser-Wärmeisolierung
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Heizelemente
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Fe-Cr-Al-Legierung, dotiert mit Mo
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Leistung
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1,75KW, 208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Arbeitstemp.
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- Max. Temperatur: 1200℃ (1 Std.); 1100℃ (kontinuierlich)
- Aufheizgeschwindigkeit: ≤20℃/min
- Temperaturgenauigkeit: ±1,0℃
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Heizzone
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Gesamtlänge der Heizzone: 8" (200mm); konstante Temperaturzone: 2,3" (60mm) (+/-1°C) bei 900 °C.
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Verarbeitungsrohr
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Quarzrohr: 50mm OD x 44mm ID x 600mm L
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Temp. Steuerung
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- Automatische PID-Regelung und Auto-Tune-Funktion.
- 30 programmierbare Segmente für die Steuerung von Heiz- und Kühlrate und Verweilzeit.
- Schutz vor Überhitzung und defektem Thermoelement.
- Übertemperaturschutz und Alarm ermöglichen den Betrieb ohne Bediener.
- Temperaturgenauigkeit +/- 1 ºC.
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Andere Teile
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Vakuum-Messgerät
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- Das korrosionsbeständige Kapazitätsmembranmanometer wird am Vakuumflansch (linke Seite) des Rohrofens installiert und bietet einen großen Messbereich (10-5 ~ 1000 Torr).
- Genaue Druckmessung mit beliebigen Mischgasen
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Zwei-Kanal-Gasmischstation
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- Zwei schwimmende Durchflussmesser mit einem Durchflussbereich von 16 bis 100 mL/min
- Drei mechanische Druckmessgeräte (Mischtank): -0,1-0,15 MPa, (0,01 MPa/Größe)
- Vakuum-Nadelventile sind aus SS304 gefertigt
- Drei Rohrverschraubungen für 1/4"-Rohr (Nylon oder Edelstahl) an der Rückwand
- Kompakte Größe: 340Lx300Dx 180H mm (13.4 "x12 "x7")
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Vakuumflansche und Fittings
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- Vakuumanschlüsse im Standardpaket:
ein digitales Vakuummeter mit einem Messbereich von 0,00001 ~ 1000 Torr
ein 1/4" Swagelok-Schlauchanschluss
zwei KF-25 Schnellklemmen
ein 600 mm langer Edelstahl-Vakuumbalg
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Vakuumpumpe
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- Zweistufige Drehschieber-Vakuumpumpe EQ-FYP-Pumpe (156L/m) mit Ölabscheider, Abluftfilter, Faltenbalg & KF-D25 Einlass und KF25 Klemme sind enthalten.
- Der Vakuumdruck kann 1E-2 Torr (50 m-Torr) erreichen.
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Nettogewicht
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100 Pfund
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Produktabmessungen
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- Ofen: 340 x 300 x 400 mm
- Vakuumpumpe: 440 x 160 x 300 mm
- Tankstelle: 340 x 300 x 180 mm
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Versandgewicht
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200 Pfund
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Größe der Lieferung
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45x45x35"
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Garantie
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Eingeschränkte Herstellergarantie von einem Jahr
(Verschleißteile wie Verarbeitungsrohre, O-Ringe und Heizelemente sind von der Garantie ausgenommen, bitte bestellen Sie Ersatz bei den entsprechenden Produkten unten).
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Konformität
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CE-zertifiziert
NTRL- und CSA-Zertifizierung ist auf Anfrage und gegen Aufpreis erhältlich.
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Anwendungshinweise
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Warnung: Rohröfen mit Quarzrohr sind für den Einsatz bei Vakuum und niedrigem Druck < 0,2 bar / 3 psi ausgelegt
Definition der Vakuumgrenze für alle Quarzrohröfen: * Vakuumdrücke dürfen nur bis 1000°C sicher verwendet werden.
Die Durchflussrate für Gase sollte auf < 200 SCCM (oder 200 ml/min) begrenzt werden, um thermische Schocks auf das Rohr zu reduzieren.
Achtung! Für einen sicheren Betrieb muss ein zweistufiger Druckregler an der Gasflasche installiert werden, um den Druck auf unter 3 PSI zu begrenzen.
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1200C Mini-CVD-Rohrofen OTF-1200X-S50-2F Anwendungen
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD):
- Abscheidung von Dünnschichten und Beschichtungen auf Substraten.
- Wird bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und photovoltaischen Zellen verwendet.
- Erleichtern die Bewegung von Atomen oder Molekülen in Festkörpern.
- Wesentlich für die Entwicklung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien.
- Thermische Behandlungen unter Vakuum:
- Ermöglicht Glühen, Sintern und andere Wärmebehandlungen in einer kontrollierten Vakuumumgebung.
- Verringert Verschmutzung und Oxidation und verbessert die Materialeigenschaften.
- Ermöglicht Experimente, die inerte oder reduzierende Atmosphären erfordern.
- Schützt die Proben während der Verarbeitung vor Oxidation und anderen atmosphärischen Einflüssen.
1200C Mini-CVD-Rohrofen OTF-1200X-S50-2F Verpackung
Unser 1200C Mini-CVD-Rohrofen OTF-1200X-S50-2F wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
