1200C Drei-Zonen-Rohrofen für CVD OTF-1200X-III-HVC-LD Beschreibung
Der Ofenarbeitsplatz der Serie OTF-1200X-III-HVC umfasst einen Drei-Zonen-Rohrofen der Serie OTF-1200X-III, eine Präzisionsmassendurchfluss-Gasregelstation, eine Hochvakuumstation und weitere wichtige Komponenten. Diese Arbeitsstation hat eine maximale Arbeitstemperatur von 1200°C und kann mit der mitgelieferten Dichtungseinheit ein Endvakuum von 10^-4 Torr erreichen. Die Massendurchfluss-Gaskontrollstation mischt mehrere Gasarten und leitet das gemischte Gas in ein Quarzglasrohr im Inneren des Ofens ein. Er ist ideal für die Durchführung von Experimenten wie chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Diffusion und andere thermische Behandlungen unter Vakuumbedingungen mit Schutzgas. Der Ofen verfügt außerdem über eine 4-Kanal-Digital-LED-Anzeige zur Kontrolle des Massendurchflusses für ein präzises Gasmanagement.
1200C Drei-Zonen-Rohrofen für CVD OTF-1200X-III-HVC-LD Spezifikationen
Rohrofender Serie OTF-1200X
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Aufbau des Ofens
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- Doppellagiges Stahlgehäuse mit Luftkühlung.
- Eingebauter Thermostat zur automatischen Steuerung der Kühlung bei Temperaturen über 55°C.
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Verarbeitung Rohr
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- Material: Geschmolzenes Quarzrohr
- Ein Prozessrohr ist im Lieferumfang des Ofens enthalten.
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Leistung
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7KW, 208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Arbeitstemp.
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- Max. Temperatur: 1200℃ (1 Std.); 1100℃ (kontinuierlich)
- Aufheizgeschwindigkeit: ≤20℃/min
- Temperaturgenauigkeit: ±1,0℃
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Länge der Heizzone
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Gesamte Heizzone: 900mm (300mm + 300mm + 300mm)
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Heizelemente
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Fe-Cr-Al-Legierung dotiert mit Mo
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Temp. Regler
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- Drei Präzisions-Temperaturregler zur separaten Steuerung von drei Zonen.
- Automatische PID-Regelung mit 30 programmierbaren Segmenten.
- Temperaturgenauigkeit: ±1°C
- Thermoelement: Typ K im Ofen eingebaut
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Vakuumdichtung
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- Ein Paar Vakuumflansche aus rostfreiem Stahl mit:
einem mechanischen Manometer
zwei Nadelventilen
einem KF-40-Anschluss für die Hochvakuumstation
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Abmessungen
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1100(L) x 450(B) x 670(H), mm
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Nennspannung
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208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Hochvakuum-Station
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Aufbau
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Größe des mobilen Wagens: 600 (L) x 600 (B) x 700(H), mm
Max. Belastung: 600 Lbs auf der Oberseite
Bedienfeld der Molekularpumpe: LCD digital
Innen: Vakuumpumpe
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Volumenstrom
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Stickstoff N2: 33 L/s
Helium He: 39 L/s (2340L/Minute)
Wasserstoff H2: 32 L/s
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Arbeitsbereich
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Von 1000 mbar bis <1E-7 mbar
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Enddruck
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<1E-8 mbar (ohne Leckage)
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Spannung und Leistung
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110VAC oder 220VAC, 110W
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Massendurchfluss-Gassteuerung
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Aufbau
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- 2-9-Kanal-Gaskontrollsystem mit PLC-Touchpanel und PC-Betriebssoftware
- LED-Anzeige
- 4-Kanal-MFC aus Edelstahl 316 mit Gasdurchflussbereich wie unten:
Regler 1: 0~100SCCM
Regler 2: 1~199 SCCM
Regler 3: 1~199 SCCM
Regler 4: 1~499 SCCM
- 4 Kanal Gas geht durch einen Gasmischbehälter: Φ80X120mm
- Abmessungen: 600(L) x 745(B) x 700(H), mm
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Leistung
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18W pro Kanal
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Nennspannung
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AC 208-240V, einphasig, 50/60Hz
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Versand & Garantie
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Versandabmessungen
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Insgesamt drei Paletten: (#1: 60" x 45" x 40"; #2: 48" x 40" x 42"; #3: 48" x 40" x 42")
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Versandgewicht
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850 Pfund
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Garantie
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Ein Jahr beschränkte Garantie
(Verschleißteile wie Verarbeitungsrohre, O-Ringe und Heizelemente sind von der Garantie ausgenommen, bitte bestellen Sie den Ersatz bei den entsprechenden Produkten unten).
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Konformität
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CE-zertifiziert
NRTL- oder CSA-Zertifizierung gegen Aufpreis.
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Warnung
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Die Rohröfen mit Quarzrohr sind für den Einsatz unter Vakuum und niedrigem Druck < 0,2 bar / 3 psi ausgelegt.
Achtung! Für einen sicheren Betrieb muss ein zweistufiger Druckregler an der Gasflasche installiert werden, um den Druck auf unter 3 PSI zu begrenzen.
Die Durchflussrate für Gase sollte auf < 200 SCCM (oder 200 ml/min) begrenzt werden, um thermische Schocks auf das Rohr zu reduzieren.
Definition der Vakuumgrenze für alle Quarzrohröfen: * Der Vakuumdruck darf nur bis zu 1000°C sicher verwendet werden.
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1200C Drei-Zonen-Rohrofen für CVD OTF-1200X-III-HVC-LD Anwendungen
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD):
- Abscheidung von dünnen Schichten und Beschichtungen auf Substraten.
- Wird bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und photovoltaischen Zellen verwendet.
- Erleichtern die Bewegung von Atomen oder Molekülen in Festkörpern.
- Wesentlich für die Entwicklung und Verarbeitung von Halbleitermaterialien.
- Thermische Behandlungen unter Vakuum:
- Ermöglicht Glühen, Sintern und andere Wärmebehandlungen in einer kontrollierten Vakuumumgebung.
- Verringert Verschmutzung und Oxidation und verbessert die Materialeigenschaften.
- Ermöglicht Experimente, die inerte oder reduzierende Atmosphären erfordern.
- Schützt die Proben während der Verarbeitung vor Oxidation und anderen atmosphärischen Einflüssen.
1200C Drei-Zonen-Rohrofen für CVD OTF-1200X-III-HVC-LD-Verpackung
Unser 1200C Drei-Zonen-Rohrofen für CVD OTF-1200X-III-HVC-LD wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
Spezifikation
OTF-1200X Serie Rohrofen
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Aufbau des Ofens
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- Zweischichtiges Stahlgehäuse mit Luftkühlung.
- Eingebauter Thermostat zur automatischen Steuerung der Kühlung bei Temperaturen über 55°C.
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Verarbeitung Rohr
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- Material: Geschmolzenes Quarzrohr
- Ein Prozessrohr ist im Lieferumfang des Ofens enthalten.
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Leistung
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7KW, 208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Arbeitstemp.
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- Max. Temp.: 1200℃ (1 Std.); 1100℃ (kontinuierlich)
- Aufheizgeschwindigkeit: ≤20℃/min
- Temperaturgenauigkeit: ±1,0℃
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Länge der Heizzone
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Gesamte Heizzone: 900mm (300mm + 300mm + 300mm)
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Heizelemente
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Fe-Cr-Al-Legierung dotiert mit Mo
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Temp. Regler
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- Drei Präzisions-Temperaturregler zur separaten Steuerung von drei Zonen.
- Automatische PID-Regelung mit 30 programmierbaren Segmenten.
- Temperaturgenauigkeit: ±1°C
- Thermoelement: Typ K im Ofen eingebaut
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Vakuumdichtung
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- Ein Paar Vakuumflansche aus rostfreiem Stahl mit:
einem mechanischen Manometer
zwei Nadelventilen
einem KF-40-Anschluss für die Hochvakuumstation
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Abmessungen
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1100(L) x 450(B) x 670(H), mm
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Nennspannung
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208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Hochvakuum-Station
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Aufbau
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Größe des mobilen Wagens: 600 (L) x 600 (B) x 700(H), mm
Max. Belastung: 600 Lbs auf der Oberseite
Bedienfeld der Molekularpumpe: LCD digital
Innen: Vakuumpumpe
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Volumenstrom
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Stickstoff N2: 33 L/s
Helium He: 39 L/s (2340L/Minute)
Wasserstoff H2: 32 L/s
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Arbeitsbereich
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Von 1000 mbar bis <1E-7 mbar
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Enddruck
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<1E-8 mbar (ohne Leckage)
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Spannung und Leistung
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110VAC oder 220VAC, 110W
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Massendurchfluss Gassteuerung
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Aufbau
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- 2-9-Kanal-Gaskontrollsystem mit PLC-Touchpanel und PC-Betriebssoftware
- LED-Anzeige
- 4-Kanal-MFC aus 316er Edelstahl mit Gasdurchflussbereich wie unten:
Regler 1: 0~100SCCM
Regler 2: 1~199 SCCM
Regler 3: 1~199 SCCM
Regler 4: 1~499 SCCM
- 4 Kanal Gas geht durch einen Gasmischbehälter: Φ80X120mm
- Abmessungen: 600(L) x 745(B) x 700(H), mm
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Leistung
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18W pro Kanal
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Nennspannung
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AC 208-240V, einphasig, 50/60Hz
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Versand & Garantie
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Versandabmessungen
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Insgesamt drei Paletten: (#1: 60" x 45" x 40"; #2: 48" x 40" x 42"; #3: 48" x 40" x 42")
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Versandgewicht
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850 Pfund
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Garantie
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Ein Jahr beschränkte Garantie
(Verschleißteile wie Verarbeitungsrohre, O-Ringe und Heizelemente sind von der Garantie ausgenommen, bitte bestellen Sie den Ersatz bei den entsprechenden Produkten unten).
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Konformität
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CE-zertifiziert
NRTL- oder CSA-Zertifizierung gegen Aufpreis.
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Warnung
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Die Rohröfen mit Quarzrohr sind für den Einsatz unter Vakuum und niedrigem Druck < 0,2 bar / 3 psi ausgelegt.
Achtung! Für einen sicheren Betrieb muss ein zweistufiger Druckregler an der Gasflasche installiert werden, um den Druck auf unter 3 PSI zu begrenzen.
Die Durchflussrate für Gase sollte auf < 200 SCCM (oder 200 ml/min) begrenzt werden, um thermische Schocks auf das Rohr zu reduzieren.
Definition der Vakuumgrenze für alle Quarzrohröfen: * Der Vakuumdruck darf nur bis zu 1000°C sicher verwendet werden.
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