1200C-Rohrofen für CVD OTF-1200X-HVC3 Beschreibung
Der 1200C-Rohrofen für CVD OTF-1200X-HVC3 besteht aus einem Rohrofen der Serie OTF-1200X, einer Präzisions-Massendurchfluss-Gasregelstation, einer Hochvakuumstation und anderen wichtigen Komponenten. Diese Arbeitsstation hat eine maximale Arbeitstemperatur von 1200°C und kann mit der mitgelieferten Dichtungseinheit ein Endvakuum von 10^-4 Torr erreichen. Die Massendurchfluss-Gasregelstation kann bis zu drei Gasarten mischen und lässt die gemischten Gase in ein Quarzglasrohr im Inneren des Ofens fließen. Dieser Aufbau ist ideal für die Durchführung von Experimenten wie chemische Gasphasenabscheidung (CVD), Diffusion und andere thermische Behandlungen unter Vakuumbedingungen und mit Schutzgas.
1200C-Rohrofen für CVD OTF-1200X-HVC3 Spezifikationen
Rohrofender Serie OTF-1200X
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Aufbau des Ofens
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- Doppellagiges Stahlgehäuse mit Luftkühlung.
- Eingebauter Thermostat zur automatischen Steuerung der Kühlung bei Temperaturen über 55°C.
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Verarbeitung Rohr
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- Material: Geschmolzenes Quarzrohr
- Ein Prozessrohr ist im Lieferumfang des Ofens enthalten.
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Leistung
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2,5KW, 208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Arbeitstemp.
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- Max. Temperatur: 1200℃ (1 Std.); 1100℃ (kontinuierlich)
- Aufheizgeschwindigkeit: ≤20℃/min
- Temperaturgenauigkeit: ±1,0℃
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Länge der Heizzone
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- Gesamte Heizzone: 440mm
- Konstante Temp. Zone: 150mm (±1°C)
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Heizelemente
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Fe-Cr-Al-Legierung dotiert mit Mo
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Temp. Steuerung
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- Automatische PID-Regelung mit 30 programmierbaren Segmenten.
- Temperaturgenauigkeit: ±1°C
- Thermoelement: Typ K im Ofen eingebaut
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Vakuum-Dichtung
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- Ein Paar Vakuumflansche aus rostfreiem Stahl mit:
einem mechanischen Manometer
zwei Nadelventilen
einem KF-25-Anschluss für die Hochvakuumstation
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Leistung
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100-110W
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Nennspannung
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208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Hochvakuum-Station
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Aufbau
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Größe des mobilen Wagens: 600 (L) x 600 (B) x 700(H), mm
Max. Belastung: 600 Lbs auf der Oberseite
Bedienfeld der Molekularpumpe: LCD digital
Innen: Vakuumpumpe
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Volumenstrom
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Stickstoff N2: 33 L/s
Helium He: 39 L/s (2340L/Minute)
Wasserstoff H2: 32 L/s
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Arbeitsbereich
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Von 1000 mbar bis <1E-7 mbar
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Enddruck
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<1E-8 mbar (ohne Leckage)
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Massendurchfluss-Gassteuerung
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Aufbau
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Ventil aus rostfreiem Stahl 316
Gasmischbehälter: Φ80X120mm
600mm(L) x 745mm(B) x 700mm(H)
6" Farb-Touchscreen-Bedienfeld, um die Einstellung der Parameter zu erleichtern.
Touchscreen-Steuerung und PC-Fernbedienung umschaltbar.
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Leistung
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23W pro Kanal
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Nennspannung
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AC 220V/50Hz Einphasig
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1200C-Rohrofen für CVD OTF-1200X-HVC3 Anwendungen
- Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): Zur Abscheidung von dünnen Schichten und Beschichtungen auf Substraten durch Mischen und Reagieren verschiedener Gase bei hohen Temperaturen.
- Diffusionsvorgänge: Erleichtern die Bewegung von Atomen oder Molekülen in Festkörpern, was bei der Herstellung von Halbleitern und anderen Materialwissenschaften unerlässlich ist.
- Ausglühen: Hilft dabei, innere Spannungen abzubauen, die Duktilität zu verbessern und die Mikrostruktur von Werkstoffen zu verfeinern.
- Sintern: Geeignet für die Verdichtung und Formung fester Massen aus pulverförmigen Materialien, ohne diese zu verflüssigen; weit verbreitet in der Keramik und Metallurgie.
- Materialforschung: Ideal für die Untersuchung der thermischen Eigenschaften und des Verhaltens verschiedener Materialien unter kontrollierten atmosphärischen Bedingungen.
1200C-Rohrofen für CVD OTF-1200X-HVC3-Verpackung
Unser 1200C-Rohrofen für CVD OTF-1200X-HVC3 wird während der Lagerung und des Transports sorgfältig behandelt, um die Qualität unseres Produkts in seinem ursprünglichen Zustand zu erhalten.
Spezifikation
OTF-1200X Serie Rohrofen
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Aufbau des Ofens
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- Zweischichtiges Stahlgehäuse mit Luftkühlung.
- Eingebauter Thermostat zur automatischen Steuerung der Kühlung bei Temperaturen über 55°C.
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Verarbeitung Rohr
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- Material: Geschmolzenes Quarzrohr
- Ein Prozessrohr ist im Lieferumfang des Ofens enthalten.
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Leistung
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2,5KW, 208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Arbeitstemp.
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- Max. Temperatur: 1200℃ (1 Std.); 1100℃ (kontinuierlich)
- Aufheizgeschwindigkeit: ≤20℃/min
- Temperaturgenauigkeit: ±1,0℃
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Länge der Heizzone
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- Gesamte Heizzone: 440mm
- Konstante Temp. Zone: 150mm (±1°C)
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Heizelemente
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Fe-Cr-Al-Legierung dotiert mit Mo
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Temp. Steuerung
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- Automatische PID-Regelung mit 30 programmierbaren Segmenten.
- Temperaturgenauigkeit: ±1°C
- Thermoelement: Typ K im Ofen eingebaut
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Vakuumdichtung
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- Ein Paar Vakuumflansche aus rostfreiem Stahl mit:
einem mechanischen Manometer
zwei Nadelventilen
einem KF-25-Anschluss für die Hochvakuumstation
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Leistung
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100-110W
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Nennspannung
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208-240VAC, einphasig, 50/60Hz
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Hochvakuum-Station
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Aufbau
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Größe des mobilen Wagens: 600 (L) x 600 (B) x 700(H), mm
Max. Belastung: 600 Lbs auf der Oberseite
Bedienfeld der Molekularpumpe: LCD digital
Innen: Vakuumpumpe
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Volumenstrom
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Stickstoff N2: 33 L/s
Helium He: 39 L/s (2340L/Minute)
Wasserstoff H2: 32 L/s
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Arbeitsbereich
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Von 1000 mbar bis <1E-7 mbar
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Enddruck
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<1E-8 mbar (ohne Leckage)
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Massendurchfluss-Gassteuerung
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Aufbau
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Ventil aus rostfreiem Stahl 316
Gasmischbehälter: Φ80X120mm
600mm(L) x 745mm(B) x 700mm(H)
6" Farb-Touchscreen-Bedienfeld, um die Einstellung der Parameter zu erleichtern.
Touchscreen-Steuerung und PC-Fernbedienung umschaltbar.
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Leistung
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23W pro Kanal
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Nennspannung
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AC 220V/50Hz Einphasig
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