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Stanford Advanced Materials
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  • ST0443 Lanthan-Kupfer-Oxid-Sputter-Target, La2CuO4

    • ST0443 Lanthan-Kupfer-Oxid-Sputter-Target, La2CuO4

    Katalog-Nr. ST0443
    Chemische Formel La2CuO4
    Reinheit 99.9%, 99.99%, 99.999%
    Formular Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

    Lanthan-Kupferoxid-Sputter-Targets sind in verschiedenen Formen, Reinheitsgraden, Größen und Preisen erhältlich. Stanford Advanced Materials (SAM) ist in der Lage, kundenspezifische Sputtering-Materialien nach den von Ihnen zur Verfügung gestellten Spezifikationen/Zeichnungen zu liefern.



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      Purity

      99.9%

      • 99.9%
      • 99.5%
      • 99.99%
      • 99.999%
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      Diameter

      2''

      • 2''
      • 3''
      • 4''
      • 5''
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      Thickness

      0.25''

      • 0.25''
      • 0.125''
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