ST9139 Hochreines Chrom-Sputtering-Target (3N5)

Hochreines Chrom-Sputtering-Target (3N5) Beschreibung

Unser High Purity Chromium Sputtering Target (3N5) wurde mit einem Reinheitsgrad von 99,95 % entwickelt, um außergewöhnliche Leistungen in einer Vielzahl von Dünnschichtabscheidungsprozessen zu erzielen. Seine hervorragende Korrosionsbeständigkeit und mechanische Festigkeit machen es zur idealen Wahl für dekorative Beschichtungen, optische Schichten und mikroelektronische Anwendungen. Durch fortschrittliche Fertigungstechniken gewährleisten wir eine einheitliche Zusammensetzung und einen minimalen Anteil an Verunreinigungen, so dass bei jedem Target die höchsten Standards für die Konsistenz eingehalten werden.

Jedes Target wird einer strengen Qualitätskontrolle unterzogen, um die strengen Industriespezifikationen zu erfüllen. Der geringe Verunreinigungsgrad steigert die Produktivität erheblich und ermöglicht präzise, wiederholbare Ergebnisse in verschiedenen Sputtering-Umgebungen. Dank unseres Engagements in Forschung und Entwicklung ist dieses Chromtarget eine zuverlässige Lösung für anspruchsvolle Projekte, die hochwertige Beschichtungen mit dauerhafter Haltbarkeit und hervorragender Oberflächengüte erfordern.

Hochreines Chrom-Sputtertarget (3N5) Anwendungen

High Purity Chromium Sputtering Target (3N5) ist weithin bekannt für seinen außergewöhnlichen Reinheitsgrad von 99,95 %, der eine zuverlässige Leistung bei der Abscheidung von Dünnschichten und Schutzschichten gewährleistet. Seine hohe Korrosionsbeständigkeit, gute Leitfähigkeit und starken Hafteigenschaften machen es in verschiedenen Branchen unverzichtbar. Dieses Sputtering-Target liefert außerdem eine gleichmäßige Schichtdicke und ist damit ideal für Forschungslabors und Unternehmen, die gleichbleibende Ergebnisse erzielen wollen.

1. industrielle Anwendungen

-Anwendung 1: Schutzbeschichtungen für stark beanspruchte Maschinenteile, die sich durch hervorragende Korrosionsbeständigkeit und stabile Haftung auszeichnen.

-Anwendung 2: Leitende und reflektierende Schichten in Fertigungsprozessen, die eine gleichmäßige Schichtabscheidung erfordern.

2. forschungsanwendungen

-Anwendung 1: Fortgeschrittene Dünnschichtstudien mit Schwerpunkt auf Verschleißfestigkeit und leitfähigen Eigenschaften in akademischen und Unternehmenslabors.

-Anwendung 2: Erforschung von nanostrukturierten Materialien, wobei die hohe Reinheit des Materials eine minimale Verunreinigung bei Experimenten gewährleistet.

3. kommerzielle Anwendungen

-Anwendung 1: Dauerhafte dekorative Beschichtungen für Konsumgüter, die durch gleichmäßige Chromschichten erreicht werden.

-Anwendung 2: Elektronikmodule und Sensorgeräte, die von der gleichmäßigen Leitfähigkeit und den robusten Oberflächeneigenschaften von Chrom profitieren.

Hochreines Chrom-Sputtertarget (3N5) Verpackung

Jedes High Purity Chromium Sputtering Target (3N5) ist einzeln in einem feuchtigkeitsbeständigen Vakuumbeutel versiegelt und mit stoßabsorbierendem Schaumstoff gepolstert, um Beschädigungen zu vermeiden. Um eine maximale Reinheit zu gewährleisten, wird das Target in einer sauberen Umgebung gelagert, geschützt vor Staub und Verunreinigungen aus der Luft. Lagern Sie es an einem kühlen, trockenen Ort, fern von direktem Sonnenlicht. Kundenspezifische Verpackungslösungen sind erhältlich, um projektspezifische Anforderungen zu erfüllen und eine sichere Handhabung während des Transports zu gewährleisten.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Häufig gestellte Fragen zum hochreinen Chrom-Sputtering-Target (3N5)

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von High Purity Chromium Sputtering Target (3N5)?

A1: High Purity Chromium Sputtering Target (3N5) enthält in der Regel 99,95 % reines Chrom mit Spurenverunreinigungen, die weit unter den festgelegten Grenzwerten liegen. Dieses fortschrittliche Material zeichnet sich durch einen hohen Schmelzpunkt (ca. 1857°C), eine ausgezeichnete Härte (8,5 Mohs) und eine gute Korrosionsbeständigkeit aus. Seine Dichte beträgt etwa 7,19 g/cm³, und es weist eine stabile elektrische Leitfähigkeit auf. Aufgrund dieser Eigenschaften eignet es sich für die Abscheidung von Dünnschichten, Halbleiteranwendungen und Schutzbeschichtungen und liefert konsistente und gleichmäßige Ergebnisse.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Zur ordnungsgemäßen Handhabung gehört das Tragen von Schutzhandschuhen und die Verwendung sauberer, fusselfreier Materialien, um eine Verunreinigung der Chromoberfläche zu vermeiden. Lagern Sie das Target in einer kontrollierten Umgebung mit geringen Feuchtigkeits- und Temperaturschwankungen, um das Oxidationsrisiko zu verringern. Halten Sie sie von reaktiven Chemikalien oder korrosiven Substanzen fern. Stellen Sie sicher, dass die Zielscheibe keine Dellen oder Kratzer aufweist, indem Sie eine gepolsterte Verpackung und sichere Transportmethoden verwenden.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das High Purity Chromium Sputtering Target (3N5)?

A3: Hochreine Chrom-Sputter-Targets (3N5) erfüllen in der Regel die ISO 9001-Qualitätsmanagementnormen, die eine konsistente Produktion und die Integrität des Endprodukts gewährleisten. Sie können auch den ASTM-Normen entsprechen, die kritische Materialeigenschaften wie Reinheit, Dichte und Mikrostruktur definieren. Zertifizierungen oder Prüfberichte von Dritten bestätigen häufig die chemische Zusammensetzung und den Gehalt an Spurenverunreinigungen. Die Hersteller führen in der Regel strenge Tests durch, einschließlich optischer Inspektion und Reinheitsanalyse, um die Einhaltung dieser anerkannten globalen Benchmarks zu überprüfen.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

High Purity Chromium Sputtering Target (3N5) ist für seinen außergewöhnlichen Reinheitsgrad bekannt, der es zu einer idealen Wahl für spezielle Dünnschichtanwendungen macht. Mit einem Mindestchromgehalt von 99,95 % gewährleistet es eine stabile atomare Dispersion während des Sputterns, was zu einer gleichmäßigen Schichtdicke und minimalen Verunreinigungen beiträgt.

Konsistente mechanische Eigenschaften sind ein weiteres Merkmal dieses Sputtertargets, das sich aus seiner kontrollierten Mikrostruktur ergibt. Die Anwender profitieren von einer verbesserten Haltbarkeit, einem geringen Oxidationsrisiko und einer langen Lebensdauer, wodurch sie optimale Ergebnisse bei fortschrittlichen Beschichtungsprozessen erzielen können.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Luft- und Raumfahrtingenieure nutzen das High Purity Chromium Sputtering Target (3N5), um die Leistung von Turbinenschaufeln, Satellitenkomponenten und anderen einsatzkritischen Teilen zu verbessern. Seine überlegenen thermischen und mechanischen Eigenschaften erhöhen die Verschleißfestigkeit erheblich und verringern die Auswirkungen korrosiver Elemente unter extremen atmosphärischen Bedingungen.

Auch namhafte Halbleiterhersteller vertrauen auf dieses Sputtertarget, um hochpräzise Schutzschichten in mikroelektronischen Schaltungen zu erzeugen. Mit seiner außergewöhnlichen Leitfähigkeit und dem minimalen Kontaminationsrisiko sorgt es in verschiedenen High-Tech-Sektoren für eine gleichbleibende Leistung und eine zuverlässige Geräteperformance.