ST9138 Hochreines Titan-Sputtering-Target (4N5)

Hochreines Titan-Sputtering-Target (4N5) Beschreibung

Unser High Purity Titanium Sputtering Target (4N5) wurde entwickelt, um außergewöhnliche Leistungen bei fortschrittlichen Dünnschichtabscheidungsprozessen zu erzielen. Mit einem Reinheitsgrad von 99,995 % gewährleistet es minimale Verunreinigungen und konsistente, qualitativ hochwertige Ergebnisse bei einer Reihe kritischer Anwendungen. Jedes Target wird strengen Qualitätskontrollmaßnahmen unterzogen, einschließlich einer präzisen Mikrostrukturanalyse und einer Prüfung auf Metallspuren, um eine einheitliche Zusammensetzung und hervorragende Hafteigenschaften zu gewährleisten.

Dieses Sputtertarget eignet sich ideal für Halbleiter-, Optik- und Datenspeicheranwendungen, bei denen es auf hervorragende Schichtintegrität und Zuverlässigkeit ankommt. Die hochreine Titanzusammensetzung fördert eine stabile, wiederholbare Leistung und ermöglicht eine präzise Kontrolle der Schichtdicke und der elektrischen Eigenschaften. Von F&E-Labors bis hin zu großen Fertigungsanlagen setzen unsere 4N5-Titan-Sputter-Targets neue Maßstäbe für Qualität, Konsistenz und Langlebigkeit.

Hochreines Titan-Sputtering-Target (4N5) Anwendungen

Dieses hochreine Titan-Sputtering-Target (4N5) zeichnet sich durch einen bemerkenswerten Reinheitsgradvon 99,995 % aus und bietet eine erhöhte Korrosionsbeständigkeit, hervorragende Leitfähigkeit und zuverlässige Schichthaftung. Diese Eigenschaften machen es unverzichtbar für die fortschrittliche Fertigung, wissenschaftliche Projekte und hochwertige Verbraucherprodukte. Seine präzise Leistung hilft bei der Herstellung gleichmäßiger Beschichtungen und haltbarer dünner Filme, die in vielen Branchen breite Anwendung finden.

1. industrielle Anwendungen

-Anwendung 1: Schutzbeschichtung für Teile der Luft- und Raumfahrt: Minimiert die Oxidation bei hohen Temperaturen und verlängert die Lebensdauer der Ausrüstung.

-Anwendung 2: Moderne Automobilkomponenten: Verbessert die Härte und Verschleißfestigkeit, um Ausfallzeiten bei der Wartung zu verringern.

2. forschungsanwendungen

-Anwendung 1: Experimentelle Dünnschichtstudien: Ermöglicht eine präzise Kontrolle der Schichtdicke und -zusammensetzung für die Erforschung neuer Materialien.

-Anwendung 2: Halbleiterentwicklung: Gewährleistet hervorragende Leitfähigkeit für die zuverlässige Herstellung von mikroelektronischen und photonischen Geräten.

3. kommerzielle Anwendungen

-Anwendung 1: Unterhaltungselektronik: Erzeugt robuste und kratzfeste Oberflächen für Smartphones und tragbare Geräte.

-Anwendung 2: Architektonische Glasbeschichtungen: Bietet reflektierende und korrosionsbeständige Schichten zur Verbesserung der Langlebigkeit von Fenstern und Fassaden.

Hochreines Titan Sputtering Target (4N5) Verpackung

Diese hochreinen Titan-Sputter-Targets (4N5) werden sorgfältig in vakuumversiegelten Kunststoffbeuteln versiegelt und in robusten, schaumstoffgepolsterten Kartons verpackt, um physische Schäden und Verunreinigungen zu vermeiden. Für eine optimale Aufbewahrung sollten sie in einer sauberen, trockenen Umgebung mit stabiler Temperaturkontrolle gelagert werden. Eine zusätzliche Schutzschicht minimiert die Witterungseinflüsse und gewährleistet den Erhalt der Reinheit. Maßgeschneiderte Verpackungsgrößen und spezielle Gehäuse sind erhältlich, um spezifische Projektanforderungen zu erfüllen und bieten zusätzliche Flexibilität für verschiedene Einsatzszenarien.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Häufig gestellte Fragen zum hochreinen Titan-Sputtering-Target (4N5)

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von High Purity Titanium Sputtering Target (4N5)?

A1: High Purity Titanium Sputtering Target (4N5) zeichnet sich durch einen Mindestreinheitsgrad von 99,995% aus, der einen extrem niedrigen Gehalt an metallischen und nichtmetallischen Verunreinigungen gewährleistet. Es weist eine ausgezeichnete Duktilität, Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität auf, was es ideal für die Abscheidung von Dünnschichten macht. Der hohe Reinheitsgrad minimiert auch die Defekte in den abgeschiedenen Schichten, was zu hervorragenden elektrischen und optischen Eigenschaften führt. Darüber hinaus verfügt es über eine gleichmäßige Korngröße und eine einheitliche Mikrostruktur für eine optimale Leistung.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: High Purity Titanium Sputtering Target (4N5) sollte mit sauberen Handschuhen angefasst werden, um eine Verunreinigung durch Öle oder Partikel zu vermeiden. Vermeiden Sie den direkten Kontakt mit bloßen Händen oder Oberflächen, die Verunreinigungen einbringen könnten. Lagern Sie das Target in einer versiegelten, feuchtigkeitsfreien Umgebung mit stabilen Temperaturbedingungen und minimaler Luftfeuchtigkeit. Falls eine Reinigung erforderlich ist, verwenden Sie Ultraschall in einer neutralen Lösung oder Isopropylalkohol. Eine ordnungsgemäße Etikettierung und Bestandsverwaltung gewährleisten zudem eine dauerhafte Qualität und Rückverfolgbarkeit.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für High Purity Titanium Sputtering Target (4N5)?

A3: High Purity Titanium Sputtering Target (4N5) entspricht in der Regel den Spezifikationen der ASTM B348 für chemische Zusammensetzung und mechanische Eigenschaften. Es wird außerdem unter strengen, nach ISO 9001 zertifizierten Qualitätsmanagementsystemen hergestellt, die Rückverfolgbarkeit und Wiederholbarkeit gewährleisten. Jeder Charge kann ein zusätzliches Zertifikat, wie z. B. ein MTR (Mill Test Report), beigefügt werden, um die Reinheit und die Elementaranalyse zu bestätigen. Die Einhaltung der RoHS- und REACH-Bestimmungen ist häufig gewährleistet, so dass Bedenken hinsichtlich eingeschränkter Substanzen minimiert werden.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Durch die Kombination raffinierter metallurgischer Techniken mit einem strengen Reinigungsprotokoll erreicht das High Purity Titanium Sputtering Target (4N5) einen beeindruckenden Titangehalt von 99,995 %. Dieser außergewöhnliche Reinheitsgrad gewährleistet eine minimale Verunreinigung und macht das Target äußerst wertvoll für die Herstellung empfindlicher elektronischer Komponenten, bei denen selbst die kleinste Verunreinigung die Funktionalität beeinträchtigen kann. Neben seiner hohen Reinheit bietet das Target eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, die eine längere Lebensdauer in anspruchsvollen Betriebsumgebungen ermöglicht.

Dieses 4N5-Titantarget bietet eine ausgewogene Kombination aus mechanischer Festigkeit und Duktilität und ermöglicht eine präzise Steuerung der Abscheidungsraten beim Sputtern. Seine gut definierte Kornstruktur, die durch optimierte Prozesse erreicht wird, führt zu gleichmäßigen dünnen Schichten bei Beschichtungsanwendungen. Diese Gleichmäßigkeit ist nicht nur für eine verbesserte Leistung der Geräte entscheidend, sondern auch für die Aufrechterhaltung eines hohen Durchsatzes in der industriellen Produktion, was die erheblichen Vorteile widerspiegelt, die sich aus der Auswahl eines durchweg zuverlässigen Titan-Sputter-Targets ergeben.

2. Anwendungen in fortgeschrittenen Industrien

Das hochreine Titan-Sputter-Target (4N5), das für seine Vielseitigkeit geschätzt wird, ist eine bevorzugte Wahl in Branchen, die hohe Qualitätsstandards verlangen. Halbleiterunternehmen setzen es in Dünnschichtabscheidungsprozessen für Mikrochips ein, wo stabile und gleichmäßige Schichten für die Erzielung präziser elektrischer Eigenschaften unerlässlich sind. Auch in der optoelektronischen Fertigung wird es bei der Herstellung empfindlicher Beschichtungen für Photovoltaikzellen und andere Hochleistungskomponenten bevorzugt.

Renommierte Forschungsinstitute verwenden dieses 4N5-Titantarget in fortschrittlichen Forschungsprojekten, die sich auf die Entwicklung von Materialien der nächsten Generation konzentrieren. Seine bemerkenswerte Leistung unter Hochvakuumbedingungen ermöglicht bahnbrechende Experimente in der Luft- und Raumfahrt sowie in der Biomedizin. Über die unmittelbare industrielle Nutzung hinaus sind die zuverlässig gleichbleibenden Ergebnisse des Targets zu einer Grundlage für neue Technologien geworden, die auf reproduzierbare und fehlerfreie Beschichtungen angewiesen sind.