ST7970 Molybdän-Niob-Legierung Planar-Target MoNb10

Molybdän-Niob-Legierung Planar Target MoNb10 Beschreibung

Unser Planar-Target aus einer Molybdän-Niob-Legierung (MoNb10) wurde entwickelt, um außergewöhnliche Leistungen in einer Vielzahl anspruchsvoller Anwendungen zu erzielen. Der Zusatz von 10 % Niob zu Molybdän verbessert die mechanische Festigkeit, die thermische Stabilität und die Oxidationsbeständigkeit, wodurch sich diese Legierung ideal für den Einsatz bei der Dünnschichtabscheidung, der Halbleiterherstellung und in fortschrittlichen Forschungsumgebungen eignet. Unsere Kunden können kundenspezifische Abmessungen und Reinheitsgrade angeben, um einzigartige Projektanforderungen zu erfüllen und eine präzise Passform und optimale Leistung für jede Anwendung zu gewährleisten.

Jedes planare MoNb10-Target wird strengen Qualitätskontrollen unterzogen, um eine gleichbleibende Zusammensetzung und höchste Materialreinheit zu gewährleisten. Von der Auswahl des Rohmaterials bis zur Endkontrolle wird jeder Schritt des Herstellungsprozesses nach international anerkannten Standards durchgeführt. Vertrauen Sie auf unser Engagement für Qualität, Zuverlässigkeit und Innovation, damit Sie die Präzision und Leistung erreichen, die Sie für Ihr nächstes innovatives Projekt benötigen.

Molybdän-Niob-Legierung Planar Target MoNb10 Anwendungen

Das planare Target aus einer Molybdän-Niob-Legierung (MoNb10) wird wegen seiner außergewöhnlichen thermischen Stabilität, Korrosionsbeständigkeit und mechanischen Festigkeit sehr geschätzt. Die gleichmäßige Mikrostruktur und die Zuverlässigkeit von MoNb10 sind ideal für die moderne Werkstofftechnik und ermöglichen präzise und effiziente Ergebnisse in komplexen Fertigungsprozessen. In den folgenden Abschnitten werden wichtige Anwendungen hervorgehoben, bei denen die hervorragenden Eigenschaften dieser Legierung sie zu einer ersten Wahl für verschiedene Branchen machen, von der Elektronik bis zur Optik.

1. Anwendungen der Dünnschichtabscheidung

- PVD-Beschichtung: Der hohe Schmelzpunkt und die stabile Zusammensetzung von MoNb10 ermöglichen gleichmäßige und dauerhafte Schutzschichten auf verschiedenen Substraten.

- Magnetron-Zerstäubung: Die hervorragende Sputterausbeute der Legierung gewährleistet eine effiziente Filmbildung und gleichmäßige Dicke in industriellen Beschichtungssystemen.

2. Halbleiteranwendungen

- Integrierte Schaltkreise: Die thermische Stabilität von MoNb10 trägt dazu bei, die Leistung und Langlebigkeit von Bauteilen unter anspruchsvollen Herstellungsbedingungen zu erhalten.

- Elektronische Komponenten: Die Korrosionsbeständigkeit dieser Legierung unterstützt zuverlässige Verbindungen und Kontakte in hochpräzisen elektronischen Baugruppen.

3. Anwendungen für optische Beschichtungen

- Antireflektierende Beschichtungen: Die gleichmäßige Mikrostruktur von MoNb10 sorgt für wirksame optische Beschichtungen, die Blendeffekte reduzieren und die Effizienz von Geräten verbessern.

- Spiegelnde Beschichtungen: Seine robusten mechanischen Eigenschaften und hervorragenden Haftungseigenschaften ermöglichen hochreflektierende Spiegelbeschichtungen für moderne optische Systeme.

Molybdän-Niob-Legierung Planar Target MoNb10 Verpackung

Jedes planare Target aus einer Molybdän-Niob-Legierung MoNb10 wird sorgfältig mit einer Polyethylenhülle und einer Schaumstoffpolsterung gesichert, um Oberflächenabrieb zu verhindern. Anschließend wird das Target in einem hochwertigen Vakuumbeutel hermetisch versiegelt, um es vor Oxidation und Verunreinigung während des Transports zu schützen. Ein schützender Umkarton oder eine Kiste sorgt für zusätzliche Stoßfestigkeit. Anti-Oxidationsmaßnahmen sowie die Anpassung von Größe, Form und Beschriftung an spezifische Anforderungen sind möglich.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Molybdän-Niob-Legierung Planar Target MoNb10 FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Molybdän-Niob-Legierung Planar Target MoNb10?

A1: Molybdän-Niob-Legierung Planar Target MoNb10 kombiniert die Hochtemperaturfestigkeit von Molybdän mit der Korrosionsbeständigkeit und Duktilität von Niob. Es zeichnet sich durch einen hohen Schmelzpunkt von über 2.600 °C, eine ausgezeichnete Oxidationsbeständigkeit unter Vakuum oder inerten Atmosphären und einen niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten aus. Seine Mikrostruktur kann fein gesteuert werden, um die Wärmeleitfähigkeit zu optimieren, wodurch es sich für anspruchsvolle Halbleiter- und Dünnschichtanwendungen eignet.

Q2: Wie kann dieses MoNb10-Sputtertarget verarbeitet oder hergestellt werden?

A2: MoNb10-Sputtertargets werden in der Regel durch pulvermetallurgische Verfahren hergestellt, gefolgt von Vakuum-Heißpressen oder heißisostatischem Pressen, um eine gleichmäßige Dichte zu gewährleisten. Nach der Verfestigung wird das Target einer Präzisionsbearbeitung unterzogen, um die gewünschte Oberflächengüte und Maßtoleranzen zu erreichen. Zur Optimierung der mikrostrukturellen Homogenität können zusätzliche Wärmebehandlungen oder Spannungsabbauverfahren eingesetzt werden. Die Qualitätskontrolle umfasst zerstörungsfreie Prüfungen und die Überprüfung der elementaren Zusammensetzung.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für die Molybdän-Niob-Legierung Planar Target MoNb10?

A3: Die Qualität von MoNb10-Targets richtet sich häufig nach Zertifizierungen wie ISO 9001 für die Fertigungskonsistenz, ISO 14001 für das Umweltmanagement und den einschlägigen ASTM-Normen für die chemische Zusammensetzung und die mechanischen Eigenschaften. Die Rückverfolgbarkeit ist während der gesamten Produktion gewährleistet, begleitet von detaillierten Materialprüfberichten. Einige Hersteller wenden auch fortschrittliche Prüfverfahren wie Ultraschall- oder Wirbelstromprüfungen an, um die interne Integrität zu validieren und die strengen branchen- und kundenspezifischen Anforderungen zu erfüllen.

Verwandte Informationen

1. Rohstoffe - MoNb10-Werkstoffe

MoNb10 ist ein wertvolles Material, das in verschiedenen Sputtering-Anwendungen eingesetzt wird. Es wird durch fortschrittliche Verarbeitungsprozesse extrahiert und gereinigt. Stanford Advanced Materials bezieht hochwertige Materialien von zuverlässigen Lieferanten, um die Qualität und Konsistenz unserer Sputtertargetprodukte zu gewährleisten.

2. Sputtertarget-Herstellung

Für die Herstellung von MoNb10-Sputtertargets werden verschiedene Verfahren eingesetzt, darunter auch die Pulvermetallurgie. Jedes Verfahren führt zu unterschiedlichen Targeteigenschaften wie Dichte, Kornstruktur und Oberflächeneigenschaften. Die Auswahl des Herstellungsverfahrens richtet sich nach den vorgesehenen Anwendungsanforderungen und Leistungsspezifikationen.