ST7959 Molybdän Sputtering Target 99%, Durchmesser. 6 Zoll

Molybdän Sputtering Target 99%, Durchm. 6 Zoll Beschreibung

Unser Molybdän-Sputtering-Target mit einem Reinheitsgrad von 99,0 % bietet eine außergewöhnliche Materialintegrität für Hochleistungs-Dünnschichtabscheidungsanwendungen. Dieses Target mit einem Durchmesser von 6 Zoll besteht aus hochwertigem Molybdän, das für seine herausragende elektrische Leitfähigkeit, seinen hohen Schmelzpunkt und seine hervorragende Korrosionsbeständigkeit bekannt ist. Seine mechanische Festigkeit und thermische Stabilität sorgen für gleichbleibende, zuverlässige Ergebnisse, selbst unter anspruchsvollen Sputterbedingungen.

Dieses unter strengen Qualitätskontrollstandards sorgfältig hergestellte Target weist eine gleichmäßige Kornstruktur auf, die stabile Sputterraten und eine optimale Schichtdickengleichmäßigkeit fördert. Unser Molybdän-Sputter-Target eignet sich ideal für die Halbleiterherstellung, die Produktion von Solarzellen und verschiedene Beschichtungsprozesse und bietet zuverlässige Leistung bei gleichzeitiger Erfüllung anspruchsvoller Industrieanforderungen. Vertrauen Sie auf die hervorragenden Eigenschaften und die gleichbleibende Qualität für eine präzise und effiziente Dünnschichtabscheidung.

Molybdän Sputtering Target 99%, Durchm. 6 Zoll Anwendungen

Dieses Molybdän-Sputtertarget mit einer Reinheit von 99 % und einem Durchmesser von 6 Zoll bietet eine bemerkenswerte mechanische Festigkeit, einen hohen Schmelzpunkt und eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit. Es wird in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt, in denen Präzision und Zuverlässigkeit bei der Dünnschichtabscheidung gefragt sind. Seine Korrosionsbeständigkeit und seine stabilen elektrischen Eigenschaften machen es zu einem unverzichtbaren Bestandteil für hochentwickelte Beschichtungen in der Halbleiter-, Elektronik- und Optikindustrie. Nachfolgend sind einige wichtige Anwendungsbereiche aufgeführt, in denen es eine wichtige Rolle spielt.

1) Anwendungen der Dünnschichtabscheidung

-PVD-Beschichtung: Zur Herstellung gleichmäßiger, hochdichter Beschichtungen mit hervorragender Haftung und Haltbarkeit.

-Magnetron-Zerstäubung: Gewährleistet eine stabile Plasmaerzeugung und gleichmäßige Schichtdicke aufgrund der hohen Temperaturtoleranz von Molybdän.

-Ionenstrahl-Sputtern: Ermöglicht eine präzise Schichtdickenkontrolle und eine hohe Targetausnutzung, wodurch die Produktionskosten gesenkt werden.

2) Halbleiteranwendungen

-Bildung von Gate-Elektroden: Bietet zuverlässige elektrische Leistung und Langlebigkeit dank seiner stabilen Leitfähigkeit.

-Barriereschichten: Bieten eine wirksame Diffusionskontrolle in Bauteilstrukturen und erhöhen die Zuverlässigkeit und Leistung der Komponenten.

-Chip Packaging Elemente: Trägt zu robusten Verpackungslösungen bei, indem es den thermischen Belastungen in Hightech-Geräten standhält.

3. optische Beschichtungsanwendungen

-Laserspiegel: Minimiert thermische Verzerrungen und widersteht laserinduzierten Schäden und gewährleistet so eine zuverlässige Spiegelleistung.

-Strahlteiler: Ermöglicht präzise Reflexions-/Transmissionsverhältnisse durch Nutzung des gleichmäßigen Sputterverhaltens von Molybdän.

-Filterbeschichtungen: Hervorragende optische Klarheit und gleichmäßige Schichtdicke bei Spezialfiltern.

Molybdän-Sputtertarget 99%, Durchm. 6 Zoll Verpackung

Unser Molybdän-Sputter-Target (99 %, 6 Zoll Durchmesser) wird zunächst in eine Plastikfolie mit Trockenmittel eingepackt, um Feuchtigkeit fernzuhalten, und dann zum Schutz vor Stößen mit Polyethylenschaum gepolstert. Anschließend wird es in einem Aluminiumfolienbeutel vakuumversiegelt, um Oxidation und Verunreinigung zu verhindern. Schließlich wird es in einem robusten, gewellten Karton verschickt. Kundenspezifische Beschriftungen, zusätzliche Schutzschichten und alternative Verpackungsmaterialien sind auf Anfrage erhältlich.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Molybdän Sputtering Target 99%, Durchm. 6 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Molybdän Sputtering Target 99%, Dia. 6 Zoll?

A1: Molybdän Sputtering Target 99%, Dia. 6 Zoll zeichnet sich durch einen hohen Schmelzpunkt (~2620°C), eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit und eine hervorragende mechanische Festigkeit bei hohen Temperaturen aus. Mit einem Reinheitsgrad von 99 % weist es geringe Verunreinigungen auf, die eine gleichmäßige Sputterleistung und gleichmäßige Schichtabscheidung unterstützen. Der Durchmesser von 6 Zoll bietet eine große Oberfläche für effiziente Beschichtungsprozesse und verlängert die Lebensdauer des Targets, so dass es seltener ausgetauscht werden muss.

Q2: Wie kann dieses Mo-Sputtertarget verarbeitet oder hergestellt werden?

A2: Molybdän-Targets können durch Pulvermetallurgie, heißisostatisches Pressen (HIP) oder Vakuumsintern hergestellt werden, was eine optimale Dichte und Kornverfeinerung gewährleistet. Nach dem anfänglichen Verdichtungsprozess wird das Target häufig auf die gewünschte Dicke bearbeitet und poliert, um eine glatte Oberfläche zu erhalten. Eine sorgfältige Handhabung ist unerlässlich, um Verunreinigungen und Gefügeschäden zu vermeiden und gleichbleibende Schichteigenschaften und eine zuverlässige Leistung bei Sputteranwendungen zu gewährleisten.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das Molybdän-Sputter-Target 99%, Dia. 6 Zoll?

A3: Diese Molybdän-Sputtertargets entsprechen in der Regel der strengen ASTM B386 oder gleichwertigen Materialspezifikationen. Die Herstellungsprozesse entsprechen häufig den Qualitätsmanagementsystemen nach ISO 9001, wodurch die Rückverfolgbarkeit von Rohstoffen, Produktionsparametern und Endkontrollen gewährleistet wird. Die Überprüfung der Reinheit kann mit ICP-MS- oder GD-MS-Analysen erfolgen. Darüber hinaus wird eine umfassende Dokumentation der chemischen Zusammensetzung, der Dimensionsmessungen und der mechanischen Eigenschaften bereitgestellt, um die branchenführende Qualität und Produktkonsistenz zu gewährleisten.

Verwandte Informationen

1. Rohmaterialien - Mo-Materialien

Mo ist ein wertvolles Material, das in verschiedenen Sputtering-Anwendungen verwendet wird. Es wird durch fortschrittliche Verarbeitungsprozesse extrahiert und gereinigt. Stanford Advanced Materials bezieht hochwertige Materialien von zuverlässigen Lieferanten, um die Qualität und Konsistenz unserer Sputtertargetprodukte zu gewährleisten.

2. Sputtertarget-Herstellung

Für die Herstellung von Mo-Sputter-Targets werden verschiedene Methoden verwendet, darunter die Pulvermetallurgie. Jedes Verfahren führt zu unterschiedlichen Targeteigenschaften wie Dichte, Kornstruktur und Oberflächeneigenschaften. Die Auswahl des Herstellungsverfahrens richtet sich nach den vorgesehenen Anwendungsanforderungen und Leistungsspezifikationen.