ST7958 Molybdän-Zerstäubungstarget 99,9%, Durchm. 6 Zoll

Molybdän Sputtering Target 99,9%, Durchm. 6 Zoll Beschreibung

Unser Molybdän-Sputtering-Target mit einem Reinheitsgrad von 99,9 % und einem Durchmesser von 6 Zoll ist für seine außergewöhnliche mechanische Festigkeit, hohe Wärmeleitfähigkeit und bemerkenswerte Korrosionsbeständigkeit bekannt. Der hohe Schmelzpunkt von Molybdän von 2.623 °C sorgt dafür, dass es auch bei extremen Temperaturen stabil bleibt und eine zuverlässige Leistung in Dünnschichtabscheidungsprozessen bietet. Seine gleichmäßige Dichte garantiert minimale Defekte und sorgt so für konsistente und wiederholbare Sputtering-Ergebnisse.

Dieses Molybdän-Sputtering-Target ist ideal für die Mikroelektronik-, Halbleiter- und Optikindustrie und erfüllt strenge Qualitätsstandards, was es zu einer zuverlässigen Wahl für fortschrittliche Beschichtungsanwendungen macht. Jedes Target wird strengen Inspektionen und Tests unterzogen, um seine Reinheit und Integrität zu erhalten und eine optimale Schichtgleichmäßigkeit und Haftung zu gewährleisten. Mit seiner hochwertigen Zusammensetzung und Maßgenauigkeit eignet sich dieses Target hervorragend für anspruchsvolle Forschungs- und Produktionsumgebungen.

Molybdän-Sputtertarget 99,9%, Durchm. 6 Zoll Anwendungen

Dieses Molybdän-Sputter-Target 99,9 % (Ø 6 Zoll) bietet eine einzigartige Wärmeleitfähigkeit, einen hohen Schmelzpunkt und eine hervorragende Korrosionsbeständigkeit, die es für eine Reihe fortschrittlicher Fertigungsprozesse unverzichtbar machen. Da Molybdän-Targets eine präzise Filmbildung und stabile Abscheidungsraten ermöglichen, werden sie häufig für die Dünnfilmabscheidung, die Herstellung von Halbleiterbauelementen und für optische Beschichtungsanwendungen eingesetzt, um Innovationen und Spitzenleistungen in verschiedenen Branchen zu fördern.

1. Anwendungen der Dünnschichtabscheidung

- PVD-Beschichtung: Die Stabilität von Molybdän bei hohen Temperaturen ermöglicht eine konstante, gleichmäßige Schichtdicke für Schutzbeschichtungen.

- Magnetron-Zerstäubung: Die Reinheit und Korrosionsbeständigkeit des Targets gewährleisten eine präzise Abscheidung von Metallschichten und eine zuverlässige Haftung auf verschiedenen Substraten.

2. Halbleiteranwendungen

- Integrierte Schaltungen: Seine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit ermöglicht die Herstellung ultradünner leitender Schichten für Schaltungen mit hoher Dichte.

- Elektronische Bauteile: Die geringe thermische Ausdehnung von Molybdän trägt zur Einhaltung enger Toleranzen in mikroelektronischen Komponenten bei.

3. Anwendungen für optische Beschichtungen

- Antireflexionsbeschichtungen: Die präzisen Sputtereigenschaften des Targets fördern gleichmäßige optische Schichten zur Reduzierung von Blendungen.

- Spiegel-Beschichtungen: Das hohe Reflexionsvermögen und die Stabilität bei hohen Temperaturen ermöglichen die Herstellung langlebiger, hochwertiger Spiegelschichten.

Molybdän-Sputtertarget 99,9%, Durchm. 6 Zoll Verpackung

Jedes Molybdän-Sputtering-Target (99,9 %, 6 Zoll Durchmesser) ist sorgfältig in Schaumstoff gepolstert und in einem Vakuumbeutel versiegelt, um Oxidation und Umwelteinflüsse zu minimieren. Ein mitgeliefertes Trockenmittelpaket absorbiert Restfeuchtigkeit und schützt so die Produktintegrität. Die Verpackung entspricht den internationalen Transportstandards und kann je nach Projektanforderung angepasst werden. Anti-Oxidationsmaßnahmen gewährleisten eine zuverlässige Leistung, während die Vakuumverpackung während des gesamten Transports und der Lagerung vor Verunreinigungen schützt.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Molybdän-Sputtering-Target 99,9%, Durchm. 6 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften des Molybdän-Sputter-Targets 99,9 %, Ø. 6 Zoll?

A1: Das Molybdän-Sputtering-Target 99,9 %, Ø. 6 Zoll hat einen hohen Schmelzpunkt von ca. 2.623°C, eine Dichte von 10,2 g/cm³ und eine ausgezeichnete thermische und elektrische Leitfähigkeit. Die Reinheit von 99,9 % gewährleistet eine minimale Verunreinigung, wodurch es sich für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiter- und Displayherstellung eignet. Die geringe thermische Ausdehnung und die hervorragende mechanische Stabilität tragen außerdem zu genau kontrollierten Schichteigenschaften und sehr gleichmäßigen Sputterabscheidungsergebnissen bei.

F2: Wie kann dieses Mo-Sputtertarget verarbeitet oder hergestellt werden?

A2: Die typische Herstellung des Molybdän-Sputtertargets 99,9%, Dia. 6 Zoll erfolgt durch Pulvermetallurgie oder Vakuum-Heißpressen, um eine hohe Dichte und Reinheit zu erreichen. Das Targetmaterial kann auch warmgewalzt oder geschmiedet werden, um die Kornstruktur zu verfeinern und die mechanische Integrität zu verbessern. Die abschließenden Bearbeitungs- und Polierschritte gewährleisten präzise Abmessungen, Oberflächengüte und gleichmäßige Dicke und optimieren die Leistung des Targets bei Sputterprozessen.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das Molybdän-Sputter-Target 99,9%, Dia. 6 Zoll?

A3: Zu den gängigen Normen für Molybdän-Sputtertargets 99,9 %, Ø. 6 Zoll entsprechen den Spezifikationen ASTM B386 oder B387, die die chemische Zusammensetzung und mechanische Integrität regeln. Die Hersteller sind häufig nach ISO 9001 zertifiziert, um gleichbleibende Qualität und Rückverfolgbarkeit zu gewährleisten. Strenge Prüfverfahren, einschließlich Ultraschallprüfung und chemischer Analyse, bestätigen Reinheitsgrad und Maßhaltigkeit. Materialzertifikate begleiten in der Regel jede Lieferung und bestätigen diese Qualitätsgarantien und Zertifizierungen.

Verwandte Informationen

1. Rohmaterialien - Mo-Materialien

Mo ist ein wertvolles Material, das in verschiedenen Sputtering-Anwendungen verwendet wird. Es wird durch fortschrittliche Verarbeitungsprozesse extrahiert und gereinigt. Stanford Advanced Materials bezieht hochwertige Materialien von zuverlässigen Lieferanten, um die Qualität und Konsistenz unserer Sputtertargetprodukte zu gewährleisten.

2. Sputtertarget-Herstellung

Für die Herstellung von Mo-Sputter-Targets werden verschiedene Methoden verwendet, darunter die Pulvermetallurgie. Jedes Verfahren führt zu unterschiedlichen Targeteigenschaften wie Dichte, Kornstruktur und Oberflächeneigenschaften. Die Auswahl des Herstellungsverfahrens richtet sich nach den vorgesehenen Anwendungsanforderungen und Leistungsspezifikationen.