ST7955 Molybdän-Zerstäubungstarget 99,9%, Durchm. 4 Zoll

Molybdän Sputtering Target 99,9%, Durchm. 4 Zoll Beschreibung

Unser Molybdän-Sputter-Target (99,9 % Reinheit, 4 Zoll Durchmesser) bietet eine außergewöhnliche Leistung für eine breite Palette von Dünnschicht-Beschichtungsprozessen. Die bemerkenswerte thermische und mechanische Stabilität von Molybdän gewährleistet eine gleichmäßige Schichtdicke, hervorragende Haftung und eine präzise Kontrolle der Beschichtungseigenschaften. Sein hoher Schmelzpunkt und seine ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit machen es zu einer idealen Wahl für anspruchsvolle Umgebungen und Hochtemperaturanwendungen. Darüber hinaus führen die präzisen Abmessungen und die gleichbleibende Reinheit des Targets zu weniger Verunreinigungen und einem geringeren Kontaminationsrisiko während des Sputterns.

Mit einem streng kontrollierten Herstellungsprozess und strengen Qualitätsstandards erfüllt unser Molybdän-Target die anspruchsvollsten Anforderungen der Industrie. Ob für die Mikroelektronik, Solarpaneele oder dekorative Beschichtungen, dieses hochwertige Molybdän-Sputtertarget garantiert zuverlässige Leistung und eine lange Lebensdauer. Wenn Sie sich für unser Sputtering-Target entscheiden, profitieren Sie von überlegenen Beschichtungen, verbesserter Anlageneffizienz und können auch in schwierigen Produktionsumgebungen beruhigt sein.

Molybdän-Sputtering-Target 99,9%, Durchm. 4 Zoll Anwendungen

Das Molybdän-Sputtering-Target mit einem Reinheitsgrad von 99,9 % (4 Zoll Durchmesser) ist für seinen hohen Schmelzpunkt, den niedrigen Dampfdruck und die hervorragende Wärmeleitfähigkeit bekannt und bietet eine hervorragende Leistung für eine Reihe von Beschichtungsanwendungen. Seine robusten physikalischen Eigenschaften sorgen für außergewöhnliche Haftung und verbesserte Schichtgleichmäßigkeit. Nachfolgend sind einige wichtige Anwendungsbereiche aufgeführt, in denen seine einzigartigen Eigenschaften es zu einer idealen Wahl für fortschrittliche technische und hochpräziseFertigungsprozesse machen.

1. Anwendungen der Dünnschichtabscheidung

- PVD-Beschichtung: Nutzt die hohe Reinheit des Targets, um dichte, gleichmäßige Schichten mit minimaler Verunreinigung zu erzielen.

- Magnetron-Zerstäubung: Nutzt die starken Hafteigenschaften von Molybdän, um dauerhafte Oberflächenschichten zu erzeugen.

2. Halbleiteranwendungen

- Integrierte Schaltkreise: Trägt aufgrund der hervorragenden elektrischen Leistung von Molybdän zu präzisen Leiterschichten bei.

- Elektronische Komponenten: Gewährleistet zuverlässige Schaltkreisverbindungen und profitiert von der thermischen Stabilität des Targets bei hohen Verarbeitungstemperaturen.

3. Anwendungen für optische Beschichtungen

- Antireflektierende Beschichtungen: Ermöglicht eine präzise Kontrolle der Schichtdicke und verbessert die optische Klarheit und Leistung.

- Spiegelnde Beschichtungen: Bietet ein außergewöhnliches Reflexionsvermögen und eine starke Haftung, was sie zu einer bevorzugten Wahl für hochwertige reflektierende Oberflächen macht.

Molybdän-Sputtering-Target 99,9%, Durchm. 4 Zoll Verpackung

Jedes Molybdän-Sputtering-Target mit 99,9 % Reinheit und einem Durchmesser von 4 Zoll wird zunächst in Schaumstoff oder Luftpolsterfolie eingepackt und dann vakuumversiegelt, um Trockenheit zu gewährleisten und Oxidation zu verhindern. Diese versiegelte Einheit wird zum zusätzlichen Schutz während des Transports in einen stabilen, feuchtigkeitsbeständigen Behälter gelegt. Optional können spezielle Verpackungsmaterialien und Beschriftungen angeboten werden, um spezifische Anforderungen oder Versandstandards zu erfüllen und zu gewährleisten, dass die Zielscheibe in perfektem Zustand ankommt und ihre optimale Leistung beibehält.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Molybdän-Sputter-Target 99,9%, Durchm. 4 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften des Molybdän-Sputter-Targets 99,9 %, Ø. 4 Zoll?

A1: Dieses Molybdän-Target hat einen hohen Schmelzpunkt von ca. 2.623 °C, eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit und eine geringe Wärmeausdehnung, wodurch es unter extremen Bedingungen stabil ist. Seine Dichte beträgt ca. 10,2 g/cm³ und sorgt für gute mechanische Festigkeit und Härte. Der Reinheitsgrad von 99,9 % sorgt für minimale Verunreinigungen, was zur Aufrechterhaltung gleichmäßiger Filmeigenschaften beiträgt und Verunreinigungen reduziert. Der Durchmesser von 4 Zoll bietet eine große Oberfläche für eine gleichmäßige Zerstäubung und hohe Abscheidungsraten.

Q2: Wie kann dieses Mo-Sputter-Target verarbeitet oder hergestellt werden?

A2: In der Regel beginnt die Herstellung mit hochreinem Molybdänpulver, das pulvermetallurgischen Verfahren unterzogen wird, einschließlich Verdichtung und Sintern unter Vakuum. Der gesinterte Rohling wird dann warmgewalzt oder geschmiedet, um die Kornstruktur zu verfeinern und die Dichte zu erhöhen, während die inneren Poren minimiert werden. Anschließend sorgen Präzisionsbearbeitungs- und Polierschritte dafür, dass das Target eine optimale Ebenheit und gleichmäßige Dicke erreicht. Dieser kontrollierte Prozess garantiert eine gleichbleibende Sputterleistung und reduziert Filmdefekte.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das Molybdän-Sputter-Target 99,9%, Dia. 4 Zoll?

A3: Zu den gängigen Normen gehört die Einhaltung der ASTM B386 oder B387 für Molybdänprodukte, um die richtige chemische Zusammensetzung und die mechanischen Eigenschaften zu gewährleisten. Die Hersteller unterhalten häufig ISO 9001-zertifizierte Qualitätsmanagementsysteme, um einheitliche Produktionsprozesse und Rückverfolgbarkeit zu gewährleisten. Darüber hinaus können Laboranalysen von Drittanbietern die Reinheit von 99,9 % oder mehr überprüfen und Verunreinigungen wie Sauerstoff und Metallspuren messen, um die Übereinstimmung mit den Anforderungen der Endverbraucher und den Industriespezifikationen zu gewährleisten.

Verwandte Informationen

1. Rohmaterialien - Mo-Materialien

Mo ist ein wertvolles Material, das in verschiedenen Sputtering-Anwendungen verwendet wird. Es wird durch fortschrittliche Verarbeitungsprozesse extrahiert und gereinigt. Stanford Advanced Materials bezieht hochwertige Materialien von zuverlässigen Lieferanten, um die Qualität und Konsistenz unserer Sputtertargetprodukte zu gewährleisten.

2. Sputtertarget-Herstellung

Für die Herstellung von Mo-Sputter-Targets werden verschiedene Methoden verwendet, darunter die Pulvermetallurgie. Jedes Verfahren führt zu unterschiedlichen Targeteigenschaften wie Dichte, Kornstruktur und Oberflächeneigenschaften. Die Auswahl des Herstellungsverfahrens richtet sich nach den vorgesehenen Anwendungsanforderungen und Leistungsspezifikationen.