ST7954 Molybdän-Zerstäubungstarget 99,95 %, Durchm. 4 Zoll

Molybdän Sputtering Target 99,95%, Durchm. 4 Zoll Beschreibung

Dieses Molybdän-Sputter-Target ist aus 99,95 % reinem Mo präzisionsgefertigt und gewährleistet minimale Verunreinigungen für eine hochwertige Dünnschichtabscheidung. Mit einem Durchmesser von 4 Zoll bietet es eine große Oberfläche für gleichbleibend zuverlässige Sputtering-Prozesse. Die außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit und der hohe Schmelzpunkt von Molybdän tragen zu einer ausgezeichneten Hitzebeständigkeit bei und machen es zu einer ersten Wahl für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterherstellung, bei Solarzellen und modernen Displays. Sein niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient verbessert die Dimensionsstabilität und ermöglicht gleichmäßige und wiederholbare Beschichtungsergebnisse.

Strenge Qualitätskontrollen regeln jede Phase der Produktion, von der Auswahl des Rohmaterials bis zur Endkontrolle. Dank seiner dichten Mikrostruktur und der genau kontrollierten Zusammensetzung liefert dieses Target effiziente Sputterraten und eine bemerkenswerte Schichtgleichmäßigkeit. Der Reinheitsgrad von 99,95 % verringert das Risiko von Verunreinigungen, so dass Forschung und kommerzielle Betriebe mit Sicherheit präzise, wiederholbare Ergebnisse erzielen können.

Molybdän-Zerstäubungstarget 99,95 %, Durchm. 4 Zoll Anwendungen

Molybdän (Mo)-Sputtertargets mit einem Reinheitsgrad von 99,95 % werden aufgrund ihrer hervorragenden thermischen und elektrischen Leitfähigkeit, ihres hohen Schmelzpunkts und ihrer hohen Korrosionsbeständigkeit sehr geschätzt. Diese einzigartige Kombination von Eigenschaften macht sie für verschiedene fortschrittliche Anwendungen unverzichtbar. Das Format mit einem Durchmesser von 4 Zoll bietet Kompatibilität mit einer Reihe von Sputtering-Systemen und gewährleistet eine konsistente und gleichmäßige Schichtabscheidung. Daher sind Mo-Targets ein wichtiges Material für die Dünnschichtabscheidung, die Halbleiterherstellung und optische Beschichtungsverfahren.

1. Anwendungen der Dünnschichtabscheidung

- PVD-Beschichtung: Der hohe Schmelzpunkt und die Reinheit von Molybdän gewährleisten eine zuverlässige Schichtabscheidung und bieten eine hervorragende Härte und thermische Stabilität.

- Magnetron-Zerstäubung: Die gleichmäßige Struktur des Targets ermöglicht eine konsistente Kontrolle der Dicke der Dünnfilmschichten und verbessert die Leistung der Geräte.

2. Halbleiteranwendungen

- Integrierte Schaltkreise: Mo-Dünnschichten dienen als Diffusionsbarrieren und leitende Schichten und tragen zur Verringerung der Fehlerquote bei der Herstellung von Mikrochips bei.

- Elektronische Komponenten: Seine robusten Bindungseigenschaften tragen zur Optimierung der Leistung in Anwendungen wie Transistoren und Dioden bei.

3. Anwendungen für optische Beschichtungen

- Antireflexionsbeschichtungen: Die Verwendung von Mo als Trägerschicht verbessert die optische Klarheit bei gleichzeitiger Beständigkeit gegen raue Umgebungsbedingungen.

- Spiegelnde Beschichtungen: Das hervorragende Reflexionsvermögen und die Stabilität von Molybdän bei hohen Temperaturen machen es ideal für optische Präzisionssysteme.

Molybdän-Sputtertarget 99,95%, Durchm. 4 Zoll Verpackung

Das Molybdän-Sputtering-Target 99,95% mit Dia. 4 Zoll wird sorgfältig mit schützenden Schaumstoffeinlagen verpackt, um Beschädigungen zu vermeiden. Ein vakuumversiegelter Kunststoffbeutel schützt das Target dann vor Oxidation. Optional sind auch feuchtigkeitsabsorbierende Silikagel-Pakete enthalten. Abschließend wird die Zielscheibe in einer stabilen Karton- oder Holzkiste mit beschrifteten Warnschildern verpackt. Kundenspezifische Verpackungsgrößen und Beschriftungen sind möglich, um spezielle Versand- und Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Molybdän-Sputtering-Target 99,95%, Durchm. 4 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Molybdän Sputtering Target 99,95%, Dia. 4 Zoll?

A1: Molybdän-Sputtertargets mit einem Reinheitsgrad von 99,95 % sind bekannt für ihre hervorragende Leitfähigkeit, stabile kristalline Struktur, hohe Temperaturtoleranz und niedrigen Dampfdruck. Sie haben eine hohe Dichte (ca. 10,2 g/cm³), einen Schmelzpunkt über 2600°C und weisen eine robuste Korrosionsbeständigkeit auf. Diese Eigenschaften gewährleisten eine konsistente, gleichmäßige Schichtabscheidung, wodurch sie sich für anspruchsvolle Anwendungen wie Halbleiterbauelemente, Dünnschichttransistoren und Displaybeschichtungen eignen.

Q2: Wie kann dieses Mo-Sputtertarget verarbeitet oder hergestellt werden?

A2: Molybdän-Sputtertargets werden in der Regel durch Pulvermetallurgie hergestellt, wobei zunächst hochreines Molybdänpulver verwendet wird, das unter streng kontrollierten Bedingungen verdichtet und gesintert wird. Nach dem Sintern kann das Material warmgewalzt oder geschmiedet werden, um ein einheitliches Korngefüge und eine verbesserte Dichte zu erreichen. Die Präzisionsbearbeitung sorgt dann für den erforderlichen 4-Zoll-Durchmesser und die spezifische Dicke. Zusätzliche Wärmebehandlungen tragen zur Optimierung der mechanischen Eigenschaften und zur Verbesserung der Sputtering-Leistung bei.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Molybdän-Sputtering-Targets 99,95%, Dia. 4 Zoll?

A3: Molybdän-Targets mit einem Reinheitsgrad von 99,95 % entsprechen in der Regel der ASTM B386 oder gleichwertigen Industriespezifikationen für chemische Zusammensetzung und mechanische Eigenschaften. Viele Hersteller unterhalten ISO 9001-zertifizierte Qualitätsmanagementsysteme, die Rückverfolgbarkeit, Prozesskontrollen und Endkontrollen regeln. Darüber hinaus kann die Einhaltung der RoHS- und REACH-Richtlinien erforderlich sein, um sicherzustellen, dass verbotene Stoffe auf ein Minimum reduziert werden. Strenge Tests, einschließlich Ultraschallprüfung, Maßkontrolle und Analyse der Zusammensetzung, bestätigen die Konformität mit diesen Normen.

Verwandte Informationen

1. Rohmaterialien - Mo-Materialien

Mo ist ein wertvolles Material, das in verschiedenen Sputtering-Anwendungen verwendet wird. Es wird durch fortschrittliche Verarbeitungsprozesse extrahiert und gereinigt. Stanford Advanced Materials bezieht hochwertige Materialien von zuverlässigen Lieferanten, um die Qualität und Konsistenz unserer Sputtertargetprodukte zu gewährleisten.

2. Sputtertarget-Herstellung

Für die Herstellung von Mo-Sputter-Targets werden verschiedene Methoden verwendet, darunter die Pulvermetallurgie. Jedes Verfahren führt zu unterschiedlichen Targeteigenschaften wie Dichte, Kornstruktur und Oberflächeneigenschaften. Die Auswahl des Herstellungsverfahrens richtet sich nach den vorgesehenen Anwendungsanforderungen und Leistungsspezifikationen.