ST7951 Molybdän-Zerstäubungstarget 99,95 %, Durchm. 2 Zoll

Molybdän Sputtering Target 99,95%, Durchm. 2 Zoll Beschreibung

Unser Molybdän-Sputter-Target mit einem Reinheitsgrad von 99,95 % (Mo) und einem präzisen Durchmesser von 2 Zoll eignet sich hervorragend für die Dünnschichtabscheidung und andere fortschrittliche Beschichtungsanwendungen. Dank des hohen Schmelzpunkts und der außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeit von Molybdän hält dieses Target extremen Temperaturen stand und bietet dabei eine zuverlässige Leistung. Seine inhärente Korrosionsbeständigkeit gewährleistet zudem Stabilität in anspruchsvollen Umgebungen und trägt zu einer verlängerten Lebensdauer und gleichbleibenden Schichtqualität bei.

Strenge Qualitätsstandards bestimmen jede Phase des Herstellungsprozesses, von der Beschaffung der Rohstoffe bis zur Endkontrolle. Jedes Target wird strengen Tests unterzogen, um eine einheitliche Mikrostruktur, optimale Dichte und minimale Verunreinigungen zu gewährleisten. Daher können sich Forscher und industrielle Anwender auf unsere Molybdän-Sputter-Targets verlassen, wenn es um reproduzierbare Ergebnisse und eine verbesserte Abscheidungseffizienz in modernen PVD-Verfahren geht.

Molybdän-Sputtering-Target 99,95 %, Durchm. 2 Zoll Anwendungen

Das Molybdän-Sputtering-Target 99,95 %, Ø. 2 Zoll ist weithin bekannt für seine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, überlegene mechanische Festigkeit und seinen hohen Schmelzpunkt. Diese Eigenschaften ermöglichen eine zuverlässige Leistung in rauen Umgebungen und machen es ideal für verschiedene fortschrittliche Anwendungen. Von Dünnfilmbeschichtungen über Halbleiterkomponenten bis hin zu optischen Schichten - die einzigartigen Eigenschaften von Molybdän sorgen für gleichbleibende Qualität und verbesserte Gerätefunktionalität.

1. Anwendungen der Dünnfilmabscheidung

- PVD-Beschichtung: Der hohe Schmelzpunkt von Molybdän gewährleistet eine stabile Abscheidung und ausgezeichnete Haftung für Schutzschichten und dekorative Oberflächen.

- Magnetron-Zerstäubung: Die robuste mechanische Stabilität des Molybdäns sorgt für präzise, gleichmäßige Schichten in Vakuumumgebungen mit geringer Verunreinigung.

2. Halbleiteranwendungen

- Integrierte Schaltkreise: Die Leitfähigkeit und Temperaturbeständigkeit von Molybdän ermöglichen zuverlässige Verbindungen und eine verbesserte Langlebigkeit der Geräte.

- Elektronische Komponenten: Seine Korrosionsbeständigkeit und sein minimaler Gehalt an Verunreinigungen gewährleisten stabile, leistungsstarke elektronische Bauteile.

3. Anwendungen für optische Beschichtungen

- Antireflexionsbeschichtungen: Die starken Bindungseigenschaften von Molybdän und der geringe Streuverlust verbessern die optische Klarheit und Haltbarkeit.

- Spiegelnde Beschichtungen: Seine gleichmäßigen, reflektierenden Schichten verbessern die Energieeffizienz und die Leistung optischer Systeme bei hohen Temperaturen.

Molybdän-Sputtertarget 99,95%, Durchm. 2 Zoll Verpackung

Jedes Molybdän-Sputtering-Target wird sorgfältig in einem vakuumverpackten Gehäuse versiegelt, um es vor Feuchtigkeit und Oxidation zu schützen. Eine Schicht aus stoßabsorbierendem Schaumstoff oder Luftpolsterfolie bietet zusätzlichen Schutz während des Transports. Anti-Oxidationsmaßnahmen, wie das Spülen mit Inertgas, tragen dazu bei, die Reinheit der Oberfläche zu erhalten. Bei größeren Bestellungen oder besonderen Anforderungen kann die Verpackung mit zusätzlichen Polstern oder doppelt versiegelten Beuteln angepasst werden, um sicherzustellen, dass Ihr Ziel unbeschädigt und bereit für Hochleistungsanwendungen ankommt.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Molybdän-Sputter-Target 99,95%, Durchm. 2 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Molybdän-Sputter-Targets 99,95 %, Ø. 2 Zoll?

A1: Dieses hochreine Molybdän-Target weist eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit, eine geringe Wärmeausdehnung und einen hohen Schmelzpunkt (ca. 2.623 °C) auf. Seine Dichte von ca. 10,2 g/cm³ und seine Härte gewährleisten eine außergewöhnliche Verschleißfestigkeit, während die Reinheit von 99,95 % die Kontamination während des Sputterns minimiert. Außerdem bietet das feinkörnige Gefüge eine hervorragende mechanische Stabilität. Diese Eigenschaften machen es besonders geeignet für anspruchsvolle Dünnschichtanwendungen, die präzise und zuverlässige Mo-Beschichtungen erfordern.

F2: Wie kann dieses Mo-Sputter-Target verarbeitet oder hergestellt werden?

A2: Die Herstellung beginnt mit dem Vakuumschmelzen oder der Pulvermetallurgie, um das Material auf eine Reinheit von 99,95 % zu verfeinern. Das geschmolzene oder verdichtete Molybdän wird warmgewalzt, geschmiedet oder gesintert, um die gewünschte Form zu erhalten. Weitere Wärmebehandlungen, wie z. B. das Spannungsarmglühen bei erhöhten Temperaturen, tragen zur Verfeinerung der Kornstruktur bei. Anschließend erfolgt eine präzise Bearbeitung (Schleifen oder Polieren), um Maßgenauigkeit und eine gleichmäßige Oberflächenqualität zu gewährleisten.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Molybdän-Sputtering-Targets 99,95%, Dia. 2 Zoll?

A3: Diese Targets entsprechen normalerweise den ASTM B386 und ASTM B387 für Molybdän-Materialspezifikationen. Die Reinheit wird durch ICP-MS (induktiv gekoppelte Plasma-Massenspektrometrie) oder GD-MS (Glimmentladungs-Massenspektrometrie) überprüft, wodurch ein Reinheitsgrad von 99,95 % gewährleistet wird. Die Maßtoleranzen werden mit präzisen Messinstrumenten überprüft, und die Lieferanten sind häufig nach ISO 9001 zertifiziert, um konsistente Herstellungsprozesse, strenge Dokumentation und Rückverfolgbarkeit zu gewährleisten. Dies gewährleistet eine zuverlässige Leistung und einen minimalen Gehalt an Verunreinigungen.

Verwandte Informationen

1. Rohmaterialien - Mo-Materialien

Mo ist ein wertvolles Material, das in verschiedenen Sputtering-Anwendungen eingesetzt wird. Es wird durch fortschrittliche Verarbeitungsprozesse extrahiert und gereinigt. Stanford Advanced Materials bezieht hochwertige Materialien von zuverlässigen Lieferanten, um die Qualität und Konsistenz unserer Sputtertargetprodukte zu gewährleisten.

2. Sputtertarget-Herstellung

Für die Herstellung von Mo-Sputter-Targets werden verschiedene Verfahren eingesetzt, darunter die Pulvermetallurgie. Jedes Verfahren führt zu unterschiedlichen Targeteigenschaften wie Dichte, Kornstruktur und Oberflächeneigenschaften. Das Herstellungsverfahren wird auf der Grundlage der beabsichtigten Anwendungsanforderungen und Leistungsspezifikationen ausgewählt.