ST11468 Nickel-Molybdän-Planar-Target, NiMo-Target

Katalog-Nr.	ST11468
Zusammensetzung	NiMo
Formular	Rechteckig
Formular	Ziel
Reinheit	Ni+Mo: ≥99%

Nickel-Molybdän-Planar-Targets (NiMo-Targets) werden aus einer veredelten Nickel-Molybdän-Legierung mit einer flachen Geometrie hergestellt, die für eine kontrollierte Sputtering-Abscheidung unerlässlich ist. Stanford Advanced Materials (SAM) führt eine gezielte Materialcharakterisierung einschließlich Röntgenbeugung und Elektronenmikroskopie durch, um die Integrität der Zusammensetzung und die Gleichmäßigkeit der Oberfläche zu überprüfen. Das Target unterstützt präzise Dünnschichtanwendungen, indem es ein gleichmäßiges Erosionsverhalten während des Sputterns gewährleistet.

ANFRAGE

Beschreibung

Spezifikation

Bewertungen

FAQ

Wie wirkt sich die NiMo-Zusammensetzung auf die Sputtering-Leistung aus?

Die NiMo-Legierung bietet vorhersehbare Erosionsraten und gleichmäßige Abscheidungsprofile. Diese Konsistenz trägt dazu bei, eine kontrollierte Schichtdicke zu erreichen, und reduziert Probleme mit der Vergiftung des Targets sowohl bei RF- als auch bei DC-Sputterprozessen.

Welche Vorteile bietet das planare Design bei Abscheidungsprozessen?

Die planare Konfiguration verbessert die Gleichmäßigkeit des Plasmas auf der Zieloberfläche, was zu einer gleichmäßigen Schichtabscheidung führt. Dieses Design minimiert Randeffekte und gewährleistet ein gleichmäßiges Beschichtungsprofil auf den Substraten.

Welche Methoden der Qualitätskontrolle werden bei der Zielproduktion angewandt?

Die Qualitätssicherung umfasst elektronenmikroskopische und spektrometrische Analysen, um die Gleichmäßigkeit der Oberfläche und die Genauigkeit der Zusammensetzung zu überprüfen. Diese Methoden bestätigen, dass jedes Ziel strenge Kriterien für Maßgenauigkeit und Oberflächenintegrität erfüllt.