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ST11466 Kupfer-Zink-Planar-Target, CuZn-Target

Katalog-Nr. ST11466
Zusammensetzung CuZn
Formular Rechteckig
Formular Ziel
Reinheit Cu+Zn: ≥99%

Kupfer-Zink-Planar-Targets, CuZn-Targets, werden in einem präzisen Planar-Fertigungsverfahren hergestellt. Stanford Advanced Materials (SAM) wendet kontrollierte Legierungsverfahren an und führt mikroskopische Oberflächeninspektionen durch, um mikrostrukturelle Unstimmigkeiten zu minimieren. Das Produkt wird einem systematischen Qualitätskontrollverfahren unterzogen, das die Überprüfung der Abmessungen und die Messung der Oberflächenrauhigkeit umfasst. Dieser Ansatz gewährleistet eine gleichbleibende Materialleistung, die sich für Sputtering-Anwendungen und präzise Dünnschichtabscheidungsverfahren eignet.

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FAQ

Welchen Einfluss hat die planare Konfiguration auf die Sputterleistung?

Das planare Design sorgt für eine gleichmäßige Targeterosion während des Sputterns, was die Gleichmäßigkeit der Schichtdicke auf den Substraten verbessert. Diese präzise Oberflächenkonfiguration minimiert Schwankungen in der Abscheidungsrate und verbessert die Schichtkonsistenz in Forschungs- und Produktionsumgebungen. Kontaktieren Sie uns für weitere technische Fragen.

Wie wird die CuZn-Zusammensetzung während der Herstellung des Targets beibehalten?

Die CuZn-Legierung wird unter strengen metallurgischen Kontrollen hergestellt, um die Homogenität zu gewährleisten. Eine fortschrittliche spektroskopische Analyse bestätigt die Elementverhältnisse während der Verarbeitung. Diese Liebe zum Detail minimiert Schwankungen in der Zusammensetzung, die die Konsistenz des Sputterns beeinträchtigen könnten. Kontaktieren Sie uns, wenn Sie weitere technische Details benötigen.

Gibt es spezielle Oberflächenvorbereitungsmethoden für dieses Zielmaterial?

Ja, die Oberfläche wird einem mechanischen Polieren und anschließenden Reinigungsprotokollen unterzogen, um Verunreinigungen und Oberflächenfehler zu reduzieren. Diese Behandlungen gewährleisten optimale Oberflächenbedingungen für das Sputtern und tragen zu einer gleichmäßigen Dünnschichtbildung bei. Kontaktieren Sie uns für weitere technische Beratung.

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