ST11221 Planares Zinksulfid-Target, ZnS-Target

Planares Zinksulfid-Target, ZnS-Target Beschreibung

Zinc Sulfide Planar Target, ZnS Target besteht aus hochreinem ZnS und dient als Sputtertarget in verschiedenen Dünnschichtabscheidungsprozessen. Das planare Design garantiert eine gleichmäßige Partikeldispersion während des Sputterns und ermöglicht eine kontrollierte Schichtdicke für optische und elektronische Anwendungen. Die chemische Stabilität und die physikalischen Eigenschaften des Materials machen es wertvoll für die Herstellung konsistenter ZnS-Dünnschichten in der Halbleiter- und Katalysatorherstellung.

Planares Zinksulfid-Target, ZnS-Target-Merkmale

Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Planares Zinksulfid-Target, ZnS-Target Anwendungen

1.elektronik
- Wird als Sputtertarget bei der Abscheidung optischer Beschichtungen verwendet, um durch die kontrollierte planare Geometrie eine gleichmäßige Lichtdurchlässigkeit zu erreichen.

2)Industrielle Verarbeitung
- Verwendung als Beschichtungsquelle in chemischen Verarbeitungssystemen zur Erzielung gleichmäßiger katalytischer Schichteigenschaften durch Ausnutzung der hohen Reinheit und Homogenität des Materials.

3)Forschung und Entwicklung
- Dient als Modellziel in Experimenten zur Dünnschichtbildung für Halbleiterbauelemente, um Reproduzierbarkeit und präzise Schichtkontrolle zu gewährleisten, indem seine anpassbaren Abmessungen genutzt werden.

Planares Zinksulfid-Target, ZnS-Target-Packung

Das Zinc Sulfide Planar Target ist in einem antistatischen Schutzbeutel verpackt und in einem starren, feuchtigkeitsbeständigen Behälter eingeschlossen. Eine Zwischenpolsterung aus Schaumstoff minimiert Vibrationen, während die versiegelte Verpackung dazu beiträgt, eine Verunreinigung durch Partikel während des Transports und der Lagerung zu verhindern. Es werden temperaturkontrollierte Bedingungen empfohlen, um einen Materialabbau zu vermeiden. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind erhältlich, um spezifische Handhabungs- und Lagerungsanforderungen zu erfüllen.

Zusätzliche Informationen

Zinksulfid (ZnS) wird wegen seiner Halbleitereigenschaften und seiner optischen Transparenz eingehend untersucht, was es zu einem wichtigen Material für die Dünnschichtabscheidung macht. Seine kristalline Struktur und seine elektronischen Eigenschaften ermöglichen eine kontrollierte Manipulation in Sputtering-Systemen und gewährleisten eine gleichbleibende Schichtqualität bei verschiedenen industriellen Anwendungen.

Fortschritte in der Sintertechnologie und Qualitätskontrolle ermöglichen es den Herstellern, ZnS-Targets mit minimalen Verunreinigungen und kontrollierten Mikrostrukturen herzustellen. Dieses Maß an Materialpräzision ist in der Forschung und in der High-Tech-Industrie von entscheidender Bedeutung, da selbst geringe Abweichungen in den Schichteigenschaften die Gesamtleistung der Geräte beeinträchtigen können.