ST11220 Zink-Drehscheibe, Zn-Zielscheibe

Katalog-Nr.	ST11220
Zusammensetzung	Zn
Reinheit	≥99,99%, oder kundenspezifisch
Formular	Ziel
Formular	Röhrenförmig
Abmessungen	Kundenspezifisch

Zinc Rotary Target, Zn Target wird mit einem kontrollierten Rotationsverfahren hergestellt, um einen gleichmäßigen Oberflächenabtrag während des Sputterns zu erreichen. Stanford Advanced Materials (SAM) wendet die optische Emissionsspektroskopie zur Inline-Zusammensetzungsprüfung und Kontrolle von Verunreinigungen an. Dieser Ansatz minimiert die Materialschwankungen und unterstützt die strikte Maßhaltigkeit, so dass das Target die spezifischen Betriebsanforderungen für Hochleistungs-Sputterprozesse erfüllt.

ANFRAGE

Beschreibung

Spezifikation

Bewertungen

FAQ

Welchen Einfluss hat die Rotationsform des Targets auf die Gleichmäßigkeit des Films?

Durch die Rotation des Targets wird ein gleichmäßiger Abtrag auf der Oberfläche des Targets gefördert, was die Dickenschwankungen der abgeschiedenen Schicht verringert. Dieser Effekt ist wichtig, um gleichmäßige Beschichtungen auf großen Substraten zu erzielen. Kontaktieren Sie uns für detaillierte Betriebsparameter.

Welche Qualitätskontrollmaßnahmen bestätigen die Reinheit des Zinks während der Produktion?

Die Produktion nutzt die optische Emissionsspektroskopie und die Röntgenfluoreszenzanalyse, um die elementare Zusammensetzung und den Reinheitsgrad zu überprüfen. Diese Methoden gewährleisten, dass das Zink die strengen Materialspezifikationen für Sputteranwendungen erfüllt.

Können die Abmessungen des Targets an verschiedene Sputtering-Systeme angepasst werden?

Ja, das Design unterstützt die Anpassung der Abmessungen an verschiedene Gerätekonfigurationen und erleichtert so die Integration in verschiedene Sputteranlagen, ohne die Leistung des Targets zu beeinträchtigen.

EIN ANGEBOT ANFORDERN

Senden Sie uns noch heute eine Anfrage, um mehr zu erfahren und die aktuellen Preise zu erhalten. Vielen Dank!