ST11219 Zink-Planar-Target, Zn-Target

Zinc Planar Target, Zn Target Beschreibung

Zinc Planar Target, Zn Target ist ein Sputtertarget, das aus elementarem Zink (Zn) besteht und in einer planaren Form mit kundenspezifischen Abmessungen hergestellt wird. Die kontrollierte Konfiguration hilft bei der Erzielung einer gleichmäßigen Dünnschichtabscheidung in physikalischen Gasphasenabscheidungssystemen. Die inhärenten Materialeigenschaften von Zink, einschließlich seiner bekannten Dichte und seines Schmelzpunkts, tragen zu seiner Effektivität bei Beschichtungsanwendungen bei, bei denen die Prozesskonsistenz und die Gleichmäßigkeit des Films entscheidend sind.

Zink Planar Target, Zn Target Eigenschaften

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Zink Planar Target, Zn Target Anwendungen

1.elektronik
- Wird als Abscheidungsquelle in der Halbleiterherstellung verwendet, um durch die kontrollierte planare Geometrie gleichmäßige dünne Schichten zu erzielen. Dies gewährleistet minimale Schichtdickenschwankungen, die für die Herstellung integrierter Schaltkreise entscheidend sind.

2.industrielle Beschichtungen
- Wird als Targetmaterial in Systemen zur physikalischen Gasphasenabscheidung eingesetzt, um korrosionsbeständige Beschichtungen auf Metalloberflächen zu erzeugen. Seine kundenspezifischen Abmessungen ermöglichen eine präzise Kontrolle der Gleichmäßigkeit der Beschichtung, was zu einer längeren Lebensdauer der Komponenten beiträgt.

3.optoelektronische Anwendungen
- Dient als Target in Sputtering-Prozessen zur Erzeugung leitender Schichten in der Display-Technologie. Seine gleichmäßigen Materialeigenschaften erleichtern die kontrollierte Filmbildung und verbessern die Leistung von lichtemittierenden Geräten.

Zink-Planar-Target, Zn-Target-Packung

Zinc Planar Target, Zn Target wird in reinraumtauglichen, antistatischen Materialien verpackt und in feuchtigkeitsbeständigen, gepolsterten Behältern versiegelt, um mechanische Einwirkungen beim Versand zu minimieren. Die Lagerung in einer klimatisierten Umgebung mit niedriger Luftfeuchtigkeit wird empfohlen, um Oxidation zu vermeiden. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich einer modifizierten Unterteilung und Etikettierung, sind je nach den spezifischen Anforderungen an Abmessungen und Handhabung erhältlich.

Zusätzliche Informationen

Planare Zink-Targets spielen eine zentrale Rolle bei der Abscheidung von Dünnschichten, insbesondere bei Systemen zur physikalischen Gasphasenabscheidung. Die kontrollierten Materialeigenschaften, wie Dichte und Schmelzpunkt, haben direkten Einfluss auf die Gleichmäßigkeit und Haftung der abgeschiedenen Schichten. Das Verständnis der Wechselwirkung zwischen Targeteigenschaften und Schichtleistung hilft bei der Optimierung der Prozessparameter in elektronischen und industriellen Anwendungen.

Durch Fortschritte in der Materialwissenschaft werden die Verfahren zur Herstellung von Targets immer weiter verfeinert, wobei die Bedeutung der Oberflächenintegrität und der Maßgenauigkeit hervorgehoben wird. Diese Fortschritte verbessern nicht nur die Effizienz der Abscheidung, sondern unterstützen auch die Entwicklung neuartiger Beschichtungen und Schichtstrukturen für verschiedene Technologien.