ST11218 Vanadium-Drehscheibe, V-Ziel

Vanadium Rotationstarget, V Target Beschreibung

Das Vanadium-Rotations-Target (V-Target) ist ein Sputtertarget aus hochreinem Vanadium (Atomgewicht 50,94 g/mol), das mit einem Rotationsmechanismus ausgestattet ist, um eine gleichmäßige Erosion während der Abscheidung zu erreichen. Das Design ermöglicht eine präzise Kontrolle der Schichtdicke und reduziert den lokalen Verschleiß. Die anpassbaren Abmessungen ermöglichen die Integration in Standard-Sputteranlagen und bieten eine effektive Lösung für die konsistente Verarbeitung dünner Schichten.

Vanadium Rotationstarget, V Target Eigenschaften

*Die obigen Produktinformationen basieren auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Vanadium Rotary Target, V Target Anwendungen

Industrielle Sputtering-Anwendungen
- Wird als Sputtertarget in Dünnschichtabscheidungssystemen verwendet, um eine gleichmäßige Schichtbedeckung zu erreichen, indem das rotierende Design genutzt wird, das die Erosion gleichmäßig verteilt und die Prozessstabilität verbessert.
- Wird in Halbleiterverarbeitungsanlagen eingesetzt, um lokale Sputterschäden zu minimieren und die Gleichmäßigkeit der Abscheidung insgesamt zu verbessern.

Forschung und Entwicklung
- Einsatz als Testmuster in Sputterexperimenten zur Untersuchung der Materialerosionsdynamik, wobei die anpassbaren Abmessungen maßgeschneiderte Experimente ermöglichen.
- Wird aufgrund seiner vorhersehbaren Erosions- und Abscheidungseigenschaften als Referenzmaterial in Studien zur Prozessoptimierung verwendet.

Vanadium-Drehtarget, V-Target-Packung

Vanadium Rotary Target, V Target ist in einem versiegelten, antistatischen Behälter mit eingebauter Schaumstoffpolsterung verpackt, um mechanische Stöße zu reduzieren und Oberflächenkontamination zu verhindern. Die Verpackung ist für eine kontrollierte Lagerung in einer trockenen, temperaturgeregelten Umgebung ausgelegt, um das Oxidationsrisiko zu minimieren. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich Inertgasfüllungen und spezieller Etikettierung, sind erhältlich, um spezifische Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Zusätzliche Informationen

Vanadium mit seinem hohen Schmelzpunkt und seinen ausgeprägten mechanischen Eigenschaften wird in großem Umfang in Anwendungen eingesetzt, die stabile Sputterprozesse erfordern. Seine Widerstandsfähigkeit gegen thermischen Abbau und seine Kompatibilität mit Hochvakuumumgebungen machen es zu einem bevorzugten Material für fortschrittliche Dünnschichtabscheidungstechniken.

Neben Sputtertargets wird Vanadium auch in Legierungsformulierungen und Strukturbauteilen eingesetzt, bei denen Haltbarkeit und kontrollierte Mikrostruktur entscheidend sind. Forscher und Ingenieure erforschen weiterhin seinen Nutzen in verschiedenen Hochtemperatur- und korrosiven Umgebungen.