ST11213 Strontiumaluminat-Sputtering-Target, SrAl2O4-Target

Strontiumaluminat-Sputtering-Target, SrAl2O4-Target Beschreibung

Das Strontiumaluminat-Sputter-Target, SrAl2O4-Target, ist eine keramische Zusammensetzung, die in physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen verwendet wird. Das Target besteht aus SrAl2O4 und ist so konzipiert, dass beim Sputtern gleichmäßige Oxidschichten erzeugt werden. Sein Design unterstützt die kontrollierte Erosion und die minimale Partikelbildung. Die präzise chemische Formulierung des Targets und die kundenspezifischen Abmessungsoptionen gewährleisten die Kompatibilität mit Standard-Sputtersystemen und verbessern die Konsistenz der Abscheidung in Fertigungsumgebungen.

Strontiumaluminat-Sputtertarget, SrAl2O4 Targetmerkmale

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Strontiumaluminat Sputtering Target, SrAl2O4 Target Anwendungen

Elektronik
- Wird als Sputtertarget in Dünnschichtabscheidungssystemen verwendet, um gleichmäßige Oxidschichten zu erzielen, indem seine präzise chemische Zusammensetzung genutzt wird.
- Anwendung in der Halbleiterherstellung zur Herstellung kontrollierter dielektrischer Schichten, die die Leistung der Geräte durch stabile Targeterosion verbessern.

Industriell
- Dient als Beschichtungsquelle für dekorative und schützende Oxidschichten in der Metallveredelung, wobei die Herausforderungen beim Erreichen gleichmäßiger Abscheidungsraten zur Verbesserung der Oberflächenbeständigkeit bewältigt werden.
- Wird häufig für die Herstellung optischer Geräte verwendet, wobei die kontrollierte Mikrostruktur zur Realisierung konsistenter Lumineszenzschichten genutzt wird.

Strontiumaluminat-Sputtertarget, SrAl2O4-Target-Verpackung

Das Target wird in antistatischen, starren Behältern verpackt, die mit Schaumstoff ausgekleidet sind, um mechanische Belastungen und Verunreinigungen zu vermeiden. Die Verpackung enthält Feuchtigkeitsbarrieren und ist mit Inertgas versiegelt, um die Materialintegrität zu erhalten. Es wird empfohlen, das Target in einer kühlen, trockenen Umgebung zu lagern, um eine Zersetzung zu vermeiden. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, wie z. B. Vakuumversiegelung und Kompartimentierung, sind erhältlich, um speziellen Handhabungsanforderungen gerecht zu werden.

Zusätzliche Informationen

Sputtertargets wie SrAl2O4 spielen eine entscheidende Rolle bei der Abscheidung von Dünnschichten in verschiedenen industriellen Anwendungen. Die Leistung dieser Targets kann die Gleichmäßigkeit der Schichten und die elektrischen Eigenschaften von Halbleitern bis hin zu optischen Beschichtungen erheblich beeinflussen.

Fortschritte bei der Verarbeitung keramischer Materialien haben eine präzisere Kontrolle der Zusammensetzung und Mikrostruktur ermöglicht, was sich direkt auf die Sputterleistung auswirkt. Das Verständnis dieser wissenschaftlichen Prinzipien ist für die Optimierung von Produktionsprozessen sowohl in der Forschung als auch in der Industrie unerlässlich.