ST11199 Niobium Pentoxid Planar Target, Nb2O5 Target

Niobium Pentoxid Planar Target, Nb2O5 Target Beschreibung

Das Niob-Pentoxid-Planar-Target, Nb2O5-Target, wurde für Sputteranwendungen bei der Dünnschichtabscheidung entwickelt. Mit seiner planaren Struktur erleichtert das Target einen gleichmäßigen Materialtransfer und minimiert lokale Dichteschwankungen. Die hochreine Nb2O5-Zusammensetzung unterstützt die kontrollierte Abscheidung von Schichten, die in elektronischen und katalytischen Systemen verwendet werden. Seine maßgeschneiderten Abmessungen ermöglichen die Kompatibilität mit Standard-Sputteranlagen und bieten eine einheitliche Schnittstelle für experimentelle und industrielle Prozesse.

Niobpentoxid-Planartarget, Nb2O5-Targetmerkmale

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Niob-Pentoxid Planar-Target, Nb2O5 Target Anwendungen

Elektronik
- Wird als Sputtertarget in Abscheidungssystemen zur Herstellung dünner leitender oder dielektrischer Schichten verwendet, um durch seine hohe Oberflächenhomogenität eine gleichmäßige Schichtqualität zu erzielen.

Herstellung von Katalysatoren
- Einsatz als Vorläufer in der Katalysatorformulierung zur Verbesserung der Reaktionseffizienz durch Nutzung der chemischen Stabilität und präzisen Kontrolle der Zusammensetzung.

Materialforschung
- Wird als Forschungssubstrat in fortschrittlichen Materiallabors verwendet, um die optischen und elektrischen Eigenschaften von Niobverbindungen zu untersuchen, indem seine kontrollierte planare Geometrie genutzt wird.

Planares Niobpentoxid-Target, Nb2O5-Target-Verpackung

Das Target ist in reinraumtauglichen Schutzgehäusen verpackt, die mit inertem Schaumstoff ausgekleidet sind, um die mechanische Belastung und das Kontaminationsrisiko zu minimieren. Es wird in einer antistatischen, kontaminationsresistenten Hülle versiegelt und in einem temperaturgeregelten Behälter gelagert. Kundenspezifische Verpackungskonfigurationen, einschließlich maßgeschneiderter Fächerdesigns und Beschriftungen, sind möglich. Um die Unversehrtheit des Targets zu erhalten, wird eine ordnungsgemäße Lagerung in einer trockenen, kontrollierten Umgebung empfohlen.

Zusätzliche Informationen

Übergangsmetalloxide wie Nb2O5 spielen aufgrund ihrer stabilen chemischen und thermischen Eigenschaften eine wichtige Rolle bei Sputterprozessen. Ihre kontrollierte Synthese und Dimensionsanpassung sind entscheidend für die präzise Abscheidung von Schichten in Halbleiter- und Katalysatoranwendungen.

Das Verständnis der kristallographischen und Phaseneigenschaften von Niobpentoxid trägt zu Fortschritten in der Materialwissenschaft bei. Die Forschung wird fortgesetzt, und durch die Verfeinerung der Verarbeitungstechniken wird die Leistung des Materials sowohl in der Industrie als auch im Labor weiter verbessert.