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ST11198 Niobium-Drehscheibe, Nb-Zielscheibe

Katalog-Nr. ST11198
Zusammensetzung Nb
Reinheit ≥99,95%, oder kundenspezifisch
Formular Ziel
Formular Röhrenförmig
Abmessungen Kundenspezifisch

Das Niob-Rotations-Target, Nb-Target, ist ein Sputtertarget, das aus reinem Niob in einem kontrollierten Schmelz- und Schmiedeverfahren hergestellt wird. Stanford Advanced Materials (SAM) führt strenge Röntgenfluoreszenz- und metallografische Prüfungen durch, um die Materialkonsistenz zu überwachen. Bei der Herstellung des Targets werden Zusammensetzung und Geometrie genau kontrolliert, um sicherzustellen, dass die physikalischen Eigenschaften mit den Sputteranforderungen für die Dünnschichtabscheidung übereinstimmen. Dieses kontrollierte Herstellungsverfahren unterstützt die optimale Leistung in anspruchsvollen Abscheidungsumgebungen.

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FAQ

Wie wirkt sich der Reinheitsgrad von Niob auf seine Leistung bei Sputtering-Anwendungen aus?

Die höhere Reinheit des Niobs minimiert Mikrodefekte und die Verunreinigung durch Partikel während des Sputterns, was zu einer gleichmäßigen Schichtabscheidung beiträgt. Dies trägt zu einer genauen Kontrolle der Schichtdicke und einer verbesserten Schichthaftung bei. Weitere technische Details finden Sie unter Verarbeitungsparameter für Hochvakuumumgebungen.

Welche Lagerungsbedingungen werden für Niob-Drehscheiben empfohlen?

Lagern Sie das Target in einer sauberen, feuchtigkeitsarmen Umgebung bei kontrollierter Raumtemperatur, um Oxidation und Oberflächenkontamination zu vermeiden. Die Verwendung einer antistatischen Verpackung und von Trockenmitteln ist ratsam, um die Unversehrtheit des Materials vor der Verwendung in Sputtersystemen zu erhalten.

Können die Abmessungen des Targets für bestimmte Sputtering-Systeme angepasst werden?

Ja, die Abmessungen werden kundenspezifisch angeboten. Dies ermöglicht die Integration in verschiedene Sputtering-Anlagen. Die Kunden sollten ihre Anforderungen bei der Bestellung angeben, um die Kompatibilität mit den Abscheidungsanlagen zu gewährleisten.

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