ST11196 Molybdändisulfid-Planar-Target, MoS2-Target

Molybdändisulfid-Planar-Target, MoS2-Target Beschreibung

Molybdändisulfid-Planar-Target, MoS2-Target ist ein funktionelles Substrat, das in Sputteranlagen zur Abscheidung von MoS2-Dünnschichten verwendet wird. Die anpassbaren Abmessungen des Targets gewährleisten die Kompatibilität mit Standard-Halbleiteranlagen. Seine geprüfte planare Oberfläche trägt zu einer gleichmäßigen Schichtabscheidung bei und verringert die Prozessvariabilität. SAM setzt detaillierte Oberflächenabbildungen und Zusammensetzungskontrollen ein, um die für fortschrittliche Forschungs- und Industrieprozesse erforderliche Qualität zu gewährleisten.

Molybdändisulfid-Planar-Target, MoS2-Target Merkmale

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Molybdändisulfid Planar Target, MoS2 Target Anwendungen

1.elektronik
- Wird als Sputtertarget bei der Herstellung von Dünnschichttransistoren verwendet, um eine gleichmäßige Schichtabscheidung durch Ausnutzung der planaren Geometrie zu erreichen.
- Anwendung als Abscheidungsquelle bei der Herstellung von 2D-Halbleiterbauelementen, wobei die Prozessvariabilität durch die kontrollierte Dicke reduziert wird.

2.industrielle Verarbeitung
- Dient als Sputterquelle in Beschichtungsanwendungen zur Herstellung von Schutzschichten auf Bauteilen, die gleichmäßige Oberflächeneigenschaften gewährleisten.
- Wird häufig bei der Herstellung von Katalysatoren eingesetzt, wo einheitliche Schichteigenschaften die Effizienz des Gesamtprozesses verbessern.

Planares Molybdändisulfid-Target, MoS2-Target-Verpackung

Das Target ist in einem reinraumzertifizierten Träger mit antistatischen und feuchtigkeitsabweisenden Materialien verpackt. Es wird in versiegelten, gepolsterten Behältern gelagert, die so konzipiert sind, dass Verunreinigungen und mechanische Beschädigungen minimiert werden. Die Verpackung umfasst auch Schaumstoffeinlagen und Optionen zur individuellen Beschriftung. Die Lagerung in einer temperaturgeregelten Umgebung mit niedriger Luftfeuchtigkeit wird empfohlen, um die Integrität der Oberfläche und die Leistungsfähigkeit des Targets zu erhalten.

Zusätzliche Informationen

Molybdändisulfid (MoS₂) ist ein geschichtetes Übergangsmetalldichalcogenid, das für seine schmierenden Eigenschaften und seine stabile chemische Struktur bekannt ist. Seine Verwendung in Sputtertargets erleichtert die Bildung dünner, gleichmäßiger Schichten, die in der Mikroelektronik und Katalyse von entscheidender Bedeutung sind. Eine detaillierte Oberflächencharakterisierung und Präzisionsbearbeitung sind unerlässlich, um die gewünschten Eigenschaften für ein gleichmäßiges Schichtwachstum zu erreichen.

Das Verständnis des Materialverhaltens in Vakuumumgebungen und während Hochenergieabscheidungsprozessen kann zu einer verbesserten Leistung der Geräte führen. Das Zusammenspiel zwischen Materialreinheit und Planarität der Zieloberfläche ist entscheidend für die Optimierung der Abscheidungseffizienz und die Minimierung der Prozessvariabilität bei industriellen Anwendungen.