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ST11195 Molybdänkarbid-Planar-Target, Mo2C-Target

Katalog-Nr. ST11195
Zusammensetzung Mo2C
Reinheit ≥99,9%, oder kundenspezifisch
Formular Ziel
Formular Rechteckig
Abmessungen Kundenspezifisch

Das planare Molybdänkarbid-Target (Mo2C-Target) ist ein aus Molybdänkarbid (Mo2C) hergestelltes Sputtertarget für Anwendungen zur Dünnschichtabscheidung. Stanford Advanced Materials (SAM) verwendet eine kontrollierte Pulvermetallurgie und eine Inspektion nach dem Sintern mittels SEM und XRD, um die Gleichmäßigkeit der Mikrostruktur und die Zusammensetzung zu überwachen. Dieser Ansatz minimiert die Abweichungen bei den Zieleigenschaften und unterstützt so konsistente Schichtabscheidungsprozesse.

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FAQ

Wie wirkt sich die einheitliche planare Struktur des Mo2C-Targets auf die Schichtabscheidung aus?

Die planare Struktur minimiert lokale Dickenschwankungen während des Sputterns. Diese Gleichmäßigkeit trägt dazu bei, gleichbleibende Schichteigenschaften auf dem gesamten Substrat zu erzielen, wodurch Prozessabweichungen verringert und die Wiederholbarkeit bei der Dünnschichtbildung verbessert werden.

Welche Maßnahmen zur Qualitätskontrolle werden für dieses Ziel durchgeführt?

SAM setzt SEM- und XRD-Techniken ein, um die mikrostrukturelle Konsistenz und die chemische Zusammensetzung zu überprüfen. Diese Messungen stellen sicher, dass das Target bestimmte Zusammensetzungstoleranzen einhält, was für wiederholbare Sputterprozesse entscheidend ist.

Kann das Target für bestimmte Sputtering-Systeme angepasst werden?

Ja, die Abmessungen des Targets sind in kundenspezifischen Konfigurationen erhältlich. Dank dieser Flexibilität können die Endanwender das Target an die spezifischen Abmessungen der Sputterkammer und die betrieblichen Anforderungen anpassen und so eine breite Palette von Abscheidungsanwendungen unterstützen. Kontaktieren Sie uns für Details zur Konfiguration.

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