ST11188 Eisen-Drehscheibe, Fe-Zielscheibe

Eisen-Drehtarget, Fe-Target Beschreibung

Iron Rotary Target, Fe Target ist ein Sputtertarget, das aus hochreinem Eisen (Fe) besteht und nach engen Maßvorgaben hergestellt wird. Sein anpassbares Design gewährleistet die Kompatibilität mit verschiedenen Sputtering-Systemen, die in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie eingesetzt werden. Die kontrollierte Zusammensetzung minimiert den Gehalt an Verunreinigungen, was zu einer gleichmäßigen Schichtabscheidung führt. SAM führt eine strenge spektrometrische Qualitätskontrolle durch, um die Gleichmäßigkeit des Materials zu überwachen, was für Anwendungen, die eine präzise Schichtdicke und eine minimale Defektdichte erfordern, entscheidend ist.

Eisen-Rotations-Target, Fe-Target Merkmale

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Iron Rotary Target, Fe Target Anwendungen

Elektronik
- Wird als Abscheidungs-Target in Sputtering-Systemen für die Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet, um durch kontrollierte Materialreinheit eine gleichmäßige Schichtdicke zu erzielen.

Industrie
- Wird als Ausgangsmaterial für Schutzbeschichtungen auf Bauteilen verwendet, um die Korrosionsbeständigkeit durch anpassbare Abmessungen und einheitliche Zusammensetzung zu verbessern.

Energie
- Dient als Target für die Herstellung von Magnetkernen in Energieumwandlungsgeräten zur Verbesserung der magnetischen Leistung durch Ausnutzung der stabilen Abscheidungseigenschaften von Eisen.

Eisen-Drehtarget, Fe-Target-Packung

Das Iron Rotary Target, Fe Target wird in feuchtigkeitsbeständigen, antistatischen Behältern mit Schaumstoffeinlage verpackt, um Beschädigungen während des Transports und der Lagerung zu vermeiden. Die schützende Polyethylenhülle minimiert Oxidation und Verunreinigung durch Partikel. Die Verpackung stellt sicher, dass das Target in einer kontrollierten Umgebung verbleibt, und es sind Optionen für eine kundenspezifische Verpackung, einschließlich Etikettierung und Unterteilung in Fächer, erhältlich, um spezifische Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Zusätzliche Informationen

Eisentargets sind kritische Komponenten in Sputtering-Beschichtungssystemen, bei denen sich Materialreinheit und Maßhaltigkeit direkt auf die Schichteigenschaften auswirken. Die kontrollierte Freisetzung von Atomen aus einem Eisentarget gewährleistet gleichmäßige Beschichtungsschichten und eine geringere Defektbildung in dünnen Schichten.

Das Verständnis des Zusammenspiels zwischen Materialeigenschaften und Beschichtungsparametern ist für die Optimierung von Sputterprozessen von entscheidender Bedeutung. Fortschritte bei den Produktionstechniken ermöglichen eine präzise Kontrolle der Targeteigenschaften und damit eine verbesserte Leistung bei der Halbleiterherstellung und bei industriellen Beschichtungsanwendungen.