ST11180 Chrom-Planar-Target, Cr-Target

Chromium Planar Target, Cr Target Beschreibung

Chrom Planar Target, Cr Target ist eine Sputterquelle aus hochreinem Chrommetall. Es ist für den Einsatz in physikalischen Aufdampfprozessen zur Bildung gleichmäßiger dünner Schichten konzipiert. Die planare Konfiguration ermöglicht einen gleichmäßigen Materialausstoß und eine präzise Kontrolle der Schichtdicke. Die kundenspezifischen Abmessungen ermöglichen die Kompatibilität mit Standard-Sputteranlagen und gewährleisten gleichzeitig eine glatte Abscheidungsoberfläche und eine stabile Elementzusammensetzung, die für Halbleiter- und optische Beschichtungsanwendungen von entscheidender Bedeutung ist.

Chrom Planar Target, Cr Target Eigenschaften

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Chrom Planar Target, Cr Target Anwendungen

Elektronik und Halbleiterherstellung
- Wird als Metallquelle in Sputtering-Systemen verwendet, um leitende Schichten in integrierten Schaltkreisen zu erzeugen, indem die konstante Zusammensetzung des Targets genutzt wird.
- Wird als Abscheidungsmaterial bei der Herstellung von Flachbildschirmen verwendet, um eine gleichmäßige Schichtabdeckung und eine geringere Störung durch Partikel zu erreichen.

Industrielle Oberflächenbeschichtungen
- Dient als Beschichtungselement auf mechanischen Komponenten, um eine schützende Metallschicht durch Nutzung seiner stabilen Materialeigenschaften zu erzeugen.
- Wird als Quelle in dekorativen Beschichtungssystemen verwendet, um gleichmäßige und haftende Chromschichten auf Konsumgütern zu erzeugen.

Chrom-Planar-Target, Cr-Target-Verpackung

Das Target wird in einer sauberen, statikfreien Umgebung mit einer Anti-Kontaminations-Verpackung verpackt. Sie wird in feuchtigkeitsbeständigen, passgenauen Behältern mit Schutzpolstern versiegelt, die Beschädigungen bei der Handhabung minimieren. In den Lagerungsanweisungen wird auf eine kontrollierte Temperaturumgebung und minimale Exposition gegenüber Staub oder Luftpartikeln hingewiesen. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich etikettierter und in Fächer unterteilter Einheiten, sind erhältlich, um spezifische Logistikanforderungen zu erfüllen.

Zusätzliche Informationen

Sputtertargets auf Chrombasis werden seit langem in Umgebungen eingesetzt, die eine kontrollierte Dünnschichtabscheidung erfordern. Aufgrund ihrer Materialeigenschaften, darunter ein hoher Schmelzpunkt und ein mäßiger elektrischer Widerstand, eignen sie sich für Anwendungen, bei denen es auf thermische und mechanische Stabilität ankommt.

Das Verständnis der Verarbeitungsbedingungen und der Zielmorphologie spielt eine wichtige Rolle für die Gesamtleistung von Systemen für die physikalische Gasphasenabscheidung. Die kontinuierliche Forschung in der Materialwissenschaft trägt dazu bei, diese Targets so zu verfeinern, dass sie fortschrittlichen technischen Herausforderungen in der Halbleiterherstellung und in industriellen Beschichtungsprozessen gerecht werden.