ST11177 Kobalt-Drehscheibe, Co-Ziel

Cobalt Rotary Target, Co Target Beschreibung

Cobalt Rotary Target, Co Target ist ein Sputtertarget aus hochreinem Cobalt (Co), das für physikalische Gasphasenabscheidungsprozesse entwickelt wurde. Der Rotationsmechanismus des Targets fördert einen gleichmäßigen Abtrag und verbessert so die Gleichmäßigkeit der Schichten auf den Substraten. Seine Spezifikation in kundenspezifischen Abmessungen unterstützt die Kompatibilität mit verschiedenen Abscheidungssystemen. Die kontrollierte Mikrostruktur und chemische Zusammensetzung sorgen für eine gleichbleibende Leistung bei Fertigungsanwendungen, bei denen eine präzise Abscheidung von Dünnschichten entscheidend ist.

Cobalt Rotary Target, Co Target Eigenschaften

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Cobalt Rotary Target, Co Target Anwendungen

Elektronikfertigung
- Wird als Sputtertarget bei der Halbleiterherstellung verwendet, um eine gleichmäßige Abscheidung von Dünnschichten durch Ausnutzung der definierten Erosionseigenschaften von Kobalt zu erreichen.

Industrielle Prozesse
- Einsatz als kathodisches Target in Beschichtungsanlagen zum Aufbau verschleißfester Schichten unter Ausnutzung des vorhersehbaren Sputterverhaltens des Materials.
- Dient als Komponente in Magnetron-Sputteranlagen, wo ein gleichmäßiger Targetabtrag zu einer kontrollierten Schichtdicke und verbesserten Geräteleistung beiträgt.

Kobalt-Drehtarget, Co-Target-Verpackung

Das Target ist in reinraumtauglichen, antistatischen und feuchtigkeitssperrenden Materialien verpackt, um Verunreinigungen zu vermeiden. Es ist in gepolsterten, mit Inertgas gefüllten Behältern versiegelt, um Oxidation und mechanische Schäden zu vermeiden. Die Lagerbedingungen erfordern eine niedrige Luftfeuchtigkeit und Temperaturkontrolle. Maßgeschneiderte Verpackungslösungen, einschließlich Schaumstoffeinlagen und spezieller Etikettierung, sind erhältlich, um speziellen Handhabungs- und Transportanforderungen gerecht zu werden.

Zusätzliche Informationen

Sputtertargets sind kritische Komponenten bei der physikalischen Gasphasenabscheidung, bei der sich die Gleichmäßigkeit des Materials und die vorhersehbare Erosion direkt auf die Filmqualität auswirken. Kobalt mit seinen definierten physikalischen und chemischen Eigenschaften wird häufig in Anwendungen eingesetzt, die dauerhafte und gleichmäßige Beschichtungen erfordern. Das rotierende Design verbessert die Targeteffizienz weiter, da die Sputterlast gleichmäßig über die Oberfläche verteilt wird.

Jüngste Fortschritte in der Beschichtungstechnologie verfeinern die Verwendung von metallischen Targets wie Kobalt und fördern eine verbesserte Schichthaftung und Gleichmäßigkeit bei Halbleiter- und Elektronikanwendungen. Das Verständnis des Zusammenspiels zwischen Materialeigenschaften und Prozessparametern ist entscheidend für die Optimierung der Abscheidungsergebnisse und die Ermöglichung technologischer Innovationen in verschiedenen Industriezweigen.