ST11176 Kobalt-Planar-Target, Co-Target

Cobalt Planar Target, Co Target Beschreibung

Cobalt Planar Target, Co Target wird aus elementarem Cobalt (Co) mit kundenspezifischen Abmessungen hergestellt, um die Anforderungen verschiedener Sputteranlagen zu erfüllen. Das Target ist so konstruiert, dass es eine gleichmäßige Plasmaverteilung und eine konsistente Schichtabscheidung fördert. Die kontrollierte chemische Zusammensetzung und die physikalischen Eigenschaften minimieren die Partikelbildung während des Sputterns und gewährleisten so eine gleichbleibende Leistung bei Anwendungen in der Halbleiter- und Beschichtungsindustrie.

Cobalt Planar Target, Co Target Eigenschaften

Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Cobalt Planar Target, Co Target Anwendungen

1.elektronik
- Wird als Sputtertarget bei der Halbleiterabscheidung verwendet, um eine gleichmäßige Filmbildung durch eine kontrollierte Kobaltzusammensetzung zu erreichen.
- Anwendung bei der Herstellung von Magnetspeichergeräten zur Erzielung gleichmäßiger magnetischer Eigenschaften durch präzise Kontrolle der Schichtdicke.

2.industriell
- Einsatz in Beschichtungssystemen für verschleißfeste Schichten zur Verbesserung der Oberflächenbeständigkeit durch Ausnutzung des hohen Schmelzpunkts von Kobalt.
- Dient als Komponente in Dünnschichtfiltern für optische Systeme, um eine präzise Dichtesteuerung und verbesserte Leistung zu erreichen.

3. fürdie Automobilindustrie
- Wird bei der Abscheidung von dekorativen Beschichtungen auf Innenraumkomponenten verwendet, um ein einheitliches Erscheinungsbild und eine gleichmäßige Haftung durch die Verwendung einer einheitlichen Zielzusammensetzung zu gewährleisten.

Cobalt-Planar-Target, Co-Target-Verpackung

Das Target wird mit antistatischen, feuchtigkeitsbeständigen Materialien verpackt und in einen starren, stoßabsorbierenden Behälter gelegt. Schutzfolien und Schaumstoffeinlagen verhindern eine Verunreinigung durch Partikel und mechanische Beschädigungen. Die Verpackung ist für die Lagerung in einer kontrollierten Umgebung ausgelegt, um sicherzustellen, dass sich die Materialeigenschaften nicht verändern. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich Etikettierung und unterteilte Behälter, sind auf Anfrage erhältlich.

Zusätzliche Informationen

Kobalt-Sputter-Targets spielen eine entscheidende Rolle bei der Abscheidung von Dünnschichten, die in der Mikroelektronik und der Oberflächentechnik eingesetzt werden. Die kontrollierte Verarbeitung von Kobalt zu planaren Targets ist von entscheidender Bedeutung für die Aufrechterhaltung einer stabilen Plasmaumgebung während des Sputterns, die für die Erzielung einer qualitativ hochwertigen, gleichmäßigen Schicht von zentraler Bedeutung ist.

Fortschritte in der Materialwissenschaft und präzise Bearbeitungstechnologien haben die Herstellung von Targets mit strengen Zusammensetzungs- und Abmessungstoleranzen ermöglicht. Diese Verbesserungen ermöglichen eine höhere Leistung bei Anwendungen, die hohe Präzision und Effizienz erfordern, und tragen so zum Erfolg in der Halbleiter-, Industrie- und Automobilbranche bei.