ST11175 Cerium-Magnesium-Planar-Target, CeMg-Target

Cerium Magnesium Planar Target, CeMg Target Beschreibung

Cerium Magnesium Planar Target, CeMg Target ist ein Sputtertarget, das aus einer sorgfältig ausgewogenen Cer-Magnesium-Legierung besteht. Sein planares Design erleichtert die gleichmäßige Schichtabscheidung in Vakuumprozessen, indem es eine gleichmäßige Materialverteilung gewährleistet. Die kontrollierte Zusammensetzung unterstützt spezifische Filmeigenschaften, die für fortschrittliche elektronische, optische und Beschichtungsanwendungen unerlässlich sind, und macht es zu einem funktionalen Material für Sputteranlagen in Forschung und Industrie.

Cerium Magnesium Planar Target, CeMg Target Eigenschaften

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Cerium Magnesium Planar Target, CeMg Target Anwendungen

Elektronik
- Wird als Sputtertarget bei der Halbleiter-Dünnschichtabscheidung verwendet, um durch die gleichmäßige Legierungszusammensetzung eine gleichmäßige Schichtdicke zu erzielen.
- Wird als Abscheidungsquelle bei der Herstellung optoelektronischer Geräte verwendet, um die Gleichmäßigkeit der Schichten durch die Nutzung der kontrollierten chemischen Zusammensetzung zu verbessern.

Industriell
- Einsatz als Beschichtungsziel in verschleißfesten Oberflächenbehandlungen zur Verbesserung der Prozesskonsistenz durch Ausnutzung seiner stabilen Legierungsstruktur.
- Integriert in Gradientenbeschichtungsanlagen für optische Komponenten zur Optimierung der Schichtabscheidungsraten und -qualität auf der Grundlage seiner präzisen Materialeigenschaften.

Wissenschaftliche Forschung
- Einsatz in Versuchsaufbauten für Dünnschichtstudien zur Herstellung kontrollierter Schichtstrukturen durch Ausnutzung der genauen Zusammensetzung.
- Wird in Testumgebungen zur Analyse der Sputterdynamik und der Kinetik des Schichtwachstums eingesetzt und profitiert dabei von seinem einheitlichen planaren Targetdesign.

Cerium Magnesium Planar Target, CeMg Target Packung

Cerium Magnesium Planar Target wird in antistatischen, korrosionsbeständigen Materialien mit Schaumstoffpolsterung in versiegelten Behältern verpackt, um Verunreinigungen und mechanische Beschädigungen zu vermeiden. Die Targets werden bei kontrollierter Temperatur und niedriger Luftfeuchtigkeit gelagert. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich vakuumversiegelter Designs und spezieller Etikettierung, können zur Verfügung gestellt werden, um spezifische Handhabungsanforderungen zu erfüllen.

Zusätzliche Informationen

Sputtertargets wie das CeMg-Target spielen eine entscheidende Rolle bei Dünnschichtabscheidungsprozessen in verschiedenen Branchen. Die kontrollierte Legierungszusammensetzung ermöglicht präzise Schichteigenschaften, was für Anwendungen in der Elektronik und Optik von entscheidender Bedeutung ist. Die Forschung konzentriert sich häufig auf das Zusammenspiel von Materialeigenschaften und Abscheidungsparametern, um die Leistung zu optimieren.

Die Auswahl der Sputtertargets erfolgt auf der Grundlage detaillierter technischer Spezifikationen, die die Kompatibilität mit Hochvakuumsystemen und Beschichtungsanlagen gewährleisten. Umfassende Tests, einschließlich In-situ-Überwachung und Post-Deposition-Analyse, helfen bei der Validierung der Materialleistung und leiten Prozessverbesserungen in fortschrittlichen Fertigungsumgebungen.