ST11173 Natriumphosphat-Zerstäubungstarget, Na3PO4-Target

Natriumphosphat-Sputtering-Target, Na3PO4-Target Beschreibung

Das Natriumphosphat-Sputtering-Target, Na3PO4-Target, besteht aus hochreinem Na3PO4 in einer für Sputtering-Prozesse geeigneten Targetform. Die einheitliche chemische Zusammensetzung des Materials unterstützt gleichbleibende Abscheidungsraten und Schichteigenschaften. Bei seiner Herstellung werden strenge Prozesskontrollen durchgeführt, die sicherstellen, dass Verunreinigungen und Defekte auf ein Minimum reduziert werden, was für Anwendungen, die gleichmäßige dünne Schichten bei der Herstellung von Halbleitern und optischen Geräten erfordern, von entscheidender Bedeutung ist.

Natriumphosphat-Sputtering-Target, Na3PO4-Targetmerkmale

*Die obigen Produktinformationen basieren auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Natriumphosphat-Sputtering-Target, Na3PO4-Target Anwendungen

Elektronik und Display-Herstellung
- Wird als Targetmaterial bei der Dünnschichtabscheidung für Anzeigetafeln verwendet, um eine gleichmäßige, hochintegrierte Beschichtung zu erzielen, indem seine chemische Stabilität genutzt wird.
- Angewandt bei der Herstellung transparenter leitfähiger Schichten, deren kontrollierte Zusammensetzung gleichbleibende optische und elektrische Eigenschaften gewährleistet.

Industrielle Beschichtungen und Sensoren
- Wird als reaktives Sputtering-Target in der Sensorherstellung eingesetzt, um funktionelle Schichten durch Ausnutzung der kontrollierten Mikrostruktur zu erzielen.
- Wird häufig in Schutzbeschichtungsprozessen eingesetzt, bei denen die chemische Inertheit die langfristige Haltbarkeit des Films unter Betriebsbedingungen unterstützt.

Natriumphosphat-Sputter-Target, Na3PO4-Target-Verpackung

Das Target wird sicher in einem antistatischen, feuchtigkeitsbeständigen Gehäuse mit Polstermaterialien verpackt, um mechanische Schäden während des Transports zu verhindern. Zu den Lagerungsrichtlinien gehört eine temperatur- und feuchtigkeitskontrollierte Umgebung, um die Materialintegrität zu erhalten. Die Verpackungsoptionen können durch zusätzliche Versiegelung oder Beschriftung an die spezifischen Labor- oder Produktionsanforderungen angepasst werden.

Zusätzliche Informationen

Natriumphosphat-Sputtertargets sind kritische Komponenten bei der Dünnschichtabscheidung, bei der die präzise Gleichmäßigkeit der Schichten in hohem Maße von der Reinheit und Mikrostruktur des Targets abhängt. Der Sputterprozess selbst hängt von der Aufrechterhaltung einer stabilen Plasmaumgebung ab, und Materialien mit konsistenten chemischen Eigenschaften gewährleisten wiederholbare Abscheidungszyklen.

Im breiteren Kontext der Materialwissenschaft ist das Verständnis der Beziehung zwischen chemischer Zusammensetzung und Schichteigenschaften von entscheidender Bedeutung. Die Forschung arbeitet weiter an der Verfeinerung von Targetformulierungen, um die Sputtereffizienz zu optimieren, die Partikelbildung zu verringern und die Gesamtleistung der Schichten in modernen elektronischen und optischen Geräten zu verbessern.