ST11169 Aluminium-Chrom-Titan-Vanadium-Planar-Target, AlCrTiV-Target

Aluminium-Chrom-Titan-Vanadium-Planar-Target, AlCrTiV-Target Beschreibung

Aluminum Chromium Titanium Vanadium Planar Target, AlCrTiV Target ist ein Sputtertarget, das aus einer Aluminiumlegierung mit kontrollierten Zusätzen von Chrom, Titan und Vanadium hergestellt wird. Die Legierungselemente wurden optimiert, um die Gleichmäßigkeit der Schichtabscheidung zu verbessern, wodurch es mit Halbleiter- und industriellen Sputtersystemen kompatibel ist. Das planare Design ermöglicht eine gleichmäßige Bedeckung und eine konsistente Targeterosion und gewährleistet reproduzierbare Abscheidungsergebnisse in kontrollierten Prozessumgebungen.

Planares Aluminium-Chrom-Titan-Vanadium-Target, AlCrTiV-Target Merkmale

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Aluminium Chrom Titan Vanadium Planar Target, AlCrTiV Target Anwendungen

1.
Elektronik
- Wird als Sputtertarget bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet, um eine gleichmäßige Dünnschichtmetallisierung zu erreichen, indem seine kontrollierte Mikrostruktur genutzt wird.
- Wird als Abscheidungsmedium in mikroelektronischen Beschichtungssystemen eingesetzt, um eine gleichmäßige Schichtdicke und Haftung zu erzielen.

2.
Industrielle Beschichtungen
- Dient als Sputtering-Target in industriellen Prozessen zur Abscheidung von verschleißfesten Aluminiumlegierungsschichten und verbessert die Oberflächenbeständigkeit durch präzise Steuerung der Zusammensetzung.
- Wird häufig für Beschichtungen von Maschinenteilen verwendet, um die Oberflächenhärte zu verbessern und die Reibung zu verringern, indem das planare Design genutzt wird.

3.
Forschung und Entwicklung
- Wird in F&E-Sputterexperimenten zur Untersuchung der Abscheidungseigenschaften von Legierungen eingesetzt, indem die anpassbaren Abmessungen und die einheitliche Zusammensetzung genutzt werden.
- Verwendung als Modell-Target in der materialwissenschaftlichen Forschung zur Bewertung der Filmbildungsdynamik und des Targeterosionsverhaltens.

Planares Aluminium-Chrom-Titan-Vanadium-Target, AlCrTiV-Target-Verpackung

Das Target wird in antistatischen Reinraumbehältern mit Schaumstoffpolsterung verpackt, um mechanische Beschädigungen und Verunreinigungen zu vermeiden. Es ist in einer Schutzgasverpackung versiegelt, um die Oxidation während der Lagerung zu minimieren. Zu den korrekten Lagerungsbedingungen gehört eine kühle, trockene Umgebung ohne direkte Sonneneinstrahlung. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, wie z. B. zusätzliche Stoßdämpfung und spezielle Beschriftung, sind auf Anfrage erhältlich.

Zusätzliche Informationen

Sputtertargets, die aus komplexen Aluminiumlegierungen hergestellt werden, spielen eine wichtige Rolle bei der Abscheidung von Dünnschichten. Die präzise Steuerung der Legierungszusammensetzung hat direkten Einfluss auf die Mikrostruktur und die funktionalen Eigenschaften der Schicht und ist daher für Hochleistungsanwendungen in der Elektronik und für industrielle Beschichtungen unerlässlich.

Das Verständnis des Zusammenspiels zwischen Legierungselementen und Sputterdynamik ist für die materialwissenschaftliche Forschung von zentraler Bedeutung. Diese Targets bieten eine Plattform für die Erforschung der Abscheidekinetik und die Optimierung der Oberflächeneigenschaften, was letztlich die Anwendungen in der Halbleiterherstellung und der Werkstofftechnik voranbringt.