ST11166 Aluminium-Planar-Target, Al-Target

Aluminum Planar Target, Al Target Beschreibung

Aluminum Planar Target, Al Target ist ein Aluminium-Sputtering-Target, das unter strenger Kontrolle der planaren Abmessungen und der Oberflächenbeschaffenheit hergestellt wird. Die kundenspezifischen Abmessungen gewährleisten die Kompatibilität mit einer breiten Palette von Abscheidungssystemen, während das hochreine Aluminium Einschlüsse minimiert, die die Gleichmäßigkeit der Schicht beeinträchtigen könnten. Dieses Produkt wurde entwickelt, um die Sputtering-Leistung bei Halbleiter- und optischen Beschichtungsanwendungen zu optimieren.

Aluminium Planar Target, Al Target Eigenschaften

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Aluminum Planar Target, Al Target Anwendungen

Elektronik
- Verwendung als Sputtertarget bei der Halbleiterherstellung zur Erzielung gleichmäßiger dünner Schichten durch Nutzung der kontrollierten planaren Oberfläche.
- Wird als Abscheidungsquelle in mikroelektronischen Prozessen eingesetzt, um eine präzise Gleichmäßigkeit und Dicke der Schichten zu gewährleisten.

Industriell
- Wird in der Photovoltaik als Sputtering-Target eingesetzt, um durch seine kontrollierten Materialeigenschaften gleichmäßige großflächige Beschichtungen zu erzielen.
- Wird in optischen Beschichtungssystemen verwendet, um eine gleichmäßige Aluminiumschicht zu erzeugen, die Probleme mit unregelmäßiger Abscheidung behebt und die Leistung der Komponenten verbessert.

Aluminium-Planar-Target, Al-Target-Verpackung

Das planare Aluminium-Target ist in einer antistatischen Schutzverpackung verpackt und mit Schaumstoffpolstern gesichert, um physische Stöße abzuschwächen und Verunreinigungen zu vermeiden. Zur Erhaltung der Oberflächenintegrität wird die Lagerung in einer trockenen, temperaturgeregelten Umgebung empfohlen. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich wiederverschließbarer Beutel und Markenetiketten, sind erhältlich, um spezifischen Handhabungs- und Logistikanforderungen gerecht zu werden.

Zusätzliche Informationen

Aluminium-Sputter-Targets spielen eine wichtige Rolle bei der Dünnschichtabscheidung in verschiedenen Branchen. Die kontrollierte ebene Oberfläche und die kundenspezifischen Abmessungen ermöglichen eine präzise Schichtbildung und eine verbesserte Gleichmäßigkeit der Bedeckung, was für elektronische und optische Anwendungen von entscheidender Bedeutung ist. Materialverarbeitung und Qualitätskontrolltechniken, wie z. B. Elektronenmikroskopie und Überprüfung der Abmessungen, stellen sicher, dass das Produkt den anspruchsvollen technischen Standards entspricht.

Das Verständnis des Zusammenspiels zwischen Materialreinheit und Abscheidungsleistung ist von entscheidender Bedeutung. Fortschrittliche Bearbeitungs- und Reinigungstechniken minimieren das Risiko von Defekten während der Verarbeitung und verbessern so die Qualität der Schichten. Dieser umfassendere Einblick in die Materialwissenschaft unterstreicht die Bedeutung strenger Produktionskontrollen für das Erreichen optimaler Leistungen bei Aluminium-Sputter-Targets.