SI11491 Quarzglas-Reinigungsbehälter mit Waffelkorb

Quarzglas-Reinigungstank mit Wafer Basket Beschreibung

Der Quarzglas-Reinigungstank mit Waferkorb besteht aus hochreinem Quarzglas, im Wesentlichen SiO₂, das für seine chemische Inertheit und geringe Wärmeausdehnung geschätzt wird. Dieses Design unterstützt die kontaminationsanfällige Waferreinigung durch die sichere Aufnahme eines präzisionsgefertigten Korbs, wodurch die Integrität des Substrats während aggressiver Reinigungsprozesse erhalten bleibt. Die Eigenschaften des Materials tragen direkt zur Verringerung der Fehlerquote bei der Halbleiterherstellung bei.

Quarzglas-Waferreinigungskörbe sind perforierte Behälter oder Tanks aus hochreinem Quarzglas mit einer spezifischen Gitterstruktur. Sie sind so konzipiert, dass sie mehrere Siliziumwafer während Hochtemperatur-Reinigungsprozessen mit hochkorrosiven chemischen Lösungen - wie Flusssäure (HF), Königswasser, SC-1, SC-2 - oder deionisiertem Hochtemperaturwasser sicher halten.

Die optimierte Struktur gewährleistet eine vollständige Freilegung und einen gleichmäßigen Fluss der Reinigungschemikalien um jeden Wafer herum und ermöglicht so eine gleichmäßige, gründliche und zuverlässige Reinigungsleistung bei gleichzeitig hervorragender thermischer und chemischer Stabilität.

Quarzglas-Reinigungstank mit Waferkorb Merkmale

*Die obigen Produktinformationen beruhen auf theoretischen Daten und dienen nur als Referenz. Tatsächliche Spezifikationen können abweichen.

Quarzglas-Reinigungstank mit Waferkorb Anwendungen

1.elektronik - Halbleiterverarbeitung
- Verwendung als Reinigungskomponente in Waferverarbeitungssystemen zur Erzielung einer minimalen Partikelkontamination durch Ausnutzung der chemischen Inertheit von Quarzglas.
- Anwendung als integriertes Reinigungsmodul zur Erhaltung der Substratqualität bei aggressiven chemischen Behandlungen.

2.für Laborgeräte
- Dient als kontrollierte Reinigungskammer in Forschungseinrichtungen, in denen die Materialreinheit zur Vermeidung von Verunreinigungen entscheidend ist.
- Wird häufig für chemische Reinigungsprozesse verwendet, bei denen die nicht-reaktive Natur von Quarzglas die Integrität der Proben bewahrt.

Quarzglas-Reinigungstank mit Waffelkorbpackung

Der Quarzglas-Reinigungsbehälter mit Waferkorb ist sicher in einer speziell entwickelten Kiste mit antistatischer Polsterung und feuchtigkeitsbeständiger Inertfolie verpackt. Das Verpackungssystem enthält schützende Schaumstoffeinlagen, um mechanische Stöße und thermische Belastungen während des Transports und der Lagerung abzumildern. Anweisungen zur Lagerung in kontrollierter Umgebung erhalten die Materialintegrität. Kundenspezifische Beschriftungs- und Polsterungsoptionen sind erhältlich, um den spezifischen Anforderungen des Labors gerecht zu werden.

Zusätzliche Informationen

Quarzglas, das überwiegend aus Siliziumdioxid (SiO₂) besteht, weist eine außergewöhnliche chemische Inertheit und thermische Stabilität auf, was es zu einem bevorzugten Material für die Präzisionsreinigung und Halbleiterverarbeitung macht. Sein niedriger Wärmeausdehnungskoeffizient trägt zu einer verbesserten Prozessstabilität in Umgebungen mit häufigen Temperaturschwankungen bei.

In der Halbleiterfertigung und in Labors ist die Einhaltung strenger Kontaminationskontrollen unerlässlich. Die Materialeigenschaften von Quarzglas in Verbindung mit präzisen technischen Verfahren unterstützen kritische Reinigungsanwendungen, bei denen selbst minimale Partikelverunreinigungen die Produktleistung beeinträchtigen können.