GR8894 Monolayer Graphene Film auf SiO2/Si Substrat 1 in x 1 in

Monolayer Graphene Film auf SiO2/Si Substrat 1 in x 1 in Beschreibung

Dieser hochwertige Monolayer-Graphenfilm auf einem SiO₂/Si-Substrat (1 in × 1 in) wurde für außergewöhnliche Gleichmäßigkeit und robuste strukturelle Integrität entwickelt und ist damit eine ideale Plattform für fortgeschrittene Forschung und Prototyping. Der durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) gewachsene und sorgfältig übertragene Graphenfilm zeichnet sich durch eine bemerkenswerte Elektronenbeweglichkeit, minimale Dotierung und hervorragende optische Transparenz aus. Die hauchdünne Schicht bietet eine beeindruckende Wärmeleitfähigkeit und mechanische Festigkeit, die eine zuverlässige Leistung in verschiedenen anspruchsvollen Anwendungen ermöglicht.

Dieser einlagige Graphenfilm wurde nach strengen Qualitätsstandards entwickelt und wird einer strengen Prüfung auf Oberflächenreinheit, Schichtkontinuität und Defektdichte unterzogen. Dank seiner Kompatibilität mit Halbleiter-Verarbeitungstechniken eignet er sich hervorragend für Anwendungen in der Nanoelektronik, der Sensorentwicklung und der Forschung im Bereich der flexiblen Elektronik. Ganz gleich, ob Sie präzise elektronische Messungen oder eine neuartige Geräteintegration benötigen, unser Monolayer Graphene Film bietet die Konsistenz und Reproduzierbarkeit, die für bahnbrechende Entdeckungen unerlässlich sind.

Monolayer Graphene Film auf SiO2/Si-Substrat 1 in x 1 in Anwendungen

Dieser einlagige Graphenfilm auf einem SiO2/Si-Substrat verbindet bemerkenswerte mechanische Festigkeit mit außergewöhnlicher elektrischer Leitfähigkeit und Transparenz. Seine ein Atom dicke Struktur sorgt für minimale Interferenzen in verschiedenen Anwendungen und ist damit ideal für fortschrittliche elektronische Geräte, Sensoren und mehr. Seine Kompatibilität mit etablierten Herstellungsverfahren ermöglicht eine nahtlose Integration in verschiedenen Branchen und fördert Innovation und verbesserte Leistung bei technologischen Lösungen der nächsten Generation.

1. industrielle Anwendungen

-Einsatz in Kfz-Sensorsystemen für verbesserte Haltbarkeit und effiziente Signalübertragung

-Integration in Systeme für erneuerbare Energien, z. B. Solarzellen, zur Verbesserung der Leitfähigkeit und zur Verringerung von Energieverlusten

-Anwendung in Produktionsanlagen, bei denen hochfeste, leichte Materialien für die Leistung entscheidend sind

2) Forschungsanwendungen

-Entwicklung hochempfindlicher Biosensoren für die medizinische Diagnostik und Gesundheitsforschung

-Untersuchung von Quantentransportphänomenen in Halbleiterbauelementen der nächsten Generation

3. kommerzielle Anwendungen

-Einbau in flexible Displays für die Unterhaltungselektronik zur Verbesserung der Haltbarkeit

-Verbesserung von intelligenten, tragbaren Geräten, indem die überlegene Leitfähigkeit und die minimale Masse für den Benutzerkomfort genutzt werden

Monolayer Graphene Film auf SiO2/Si Substrat 1 in x 1 in Verpackung

Jede Monolayer-Graphenfolie auf einem SiO2/Si-Substrat im Format 1 in x 1 in ist in einem antistatischen Schaumstoffbehälter gesichert und in einem staubfreien, vakuumversiegelten Beutel versiegelt. Um Verunreinigungen zu vermeiden, sollte die Folie in einer sauberen, trockenen Umgebung bei Raumtemperatur gelagert werden. Zusätzliche Schutzschichten werden zum Schutz vor Feuchtigkeit und Partikeln verwendet. Für spezielle Forschungs- und Lagerungsanforderungen sind maßgeschneiderte Verpackungslösungen und Etikettierungen erhältlich.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Monolayer Graphene Film auf SiO2/Si Substrat 1 in x 1 in FAQs

Q1: Welche strukturellen und elektrischen Eigenschaften weist die Monolayer Graphene Film on SiO2/Si Substrate 1 in x 1 in typischerweise auf?

A1: Monolayer-Graphen auf diesem 1 in x 1 in SiO2/Si-Substrat ist in der Regel etwa 0,34 nm dick und zeichnet sich durch eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit aus, wobei der Schichtwiderstand oft zwischen 200 und 500 Ω/sq liegt. Die hohe Ladungsträgerbeweglichkeit des Films von über 1.000 cm²/Vs unterstützt präzise elektronische Anwendungen. Darüber hinaus bestätigt die Raman-Spektroskopie die charakteristischen G- und 2D-Peaks für Monolayer-Graphen, was eine einheitliche Qualität und eine minimale Defektdichte auf dem Substrat gewährleistet.

Q2: Wie sollte Monolayer Graphene Film on SiO2/Si Substrate 1 in x 1 in gehandhabt und gelagert werden?

A2: Dieses Graphenprodukt ist extrem empfindlich gegenüber Verunreinigungen und physischer Belastung. Verwenden Sie saubere, fusselfreie Handschuhe, um direkten Kontakt zu vermeiden, und minimieren Sie elektrostatische Entladungen durch die Verwendung einer antistatischen Pinzette. Lagern Sie das Substrat in einer partikelfreien Umgebung mit niedriger Luftfeuchtigkeit, idealerweise versiegelt in einem Schutzbehälter. Vermeiden Sie es, die Folie zu zerkratzen oder zu verbiegen, und setzen Sie sie nur begrenzt UV-Licht oder schnellen Temperaturschwankungen aus, um die strukturelle Integrität und die elektronische Leistung der Folie zu erhalten.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Prüfverfahren gewährleisten zuverlässige Monolayer Graphene Film on SiO2/Si Substrate 1 in x 1 in?

A3: Viele Lieferanten halten sich an die in ISO 9001 definierten Prozesskontrollen und verweisen auf die ASTM-Richtlinien für Schichtdicken- und Schichtwiderstandsmessungen. Routinekontrollen, einschließlich der Raman-Peak-Analyse, bestätigen das Vorhandensein einer gleichmäßigen Monolage und überwachen die Defektdichte. Zu den Herstellungsprotokollen gehören häufig Reinraumfertigungstechniken und strenge Sichtkontrollen. Häufig werden chargenspezifische Charakterisierungsdaten zur Verfügung gestellt, um sicherzustellen, dass jede Probe die festgelegten Leistungskriterien für Forschung, Elektronik und andere kommerzielle Anwendungen erfüllt.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Der einlagige Graphenfilm auf einem SiO2/Si-Substrat mit einer Größe von 1 Zoll mal 1 Zoll weist trotz seiner atomar dünnen Beschaffenheit eine außergewöhnliche elektrische Leitfähigkeit und Festigkeit auf. Dieses Produkt weist eine defektminimierte Oberfläche auf, die eine reproduzierbare Leistung in einer Vielzahl von elektronischen Geräten unterstützt. Die Gleichmäßigkeit der Monolage ermöglicht eine präzise Charakterisierung des Ladungsträgertransports und ist damit ideal für Forschungslabors und kommerzielle Entwicklungsteams, die die Effizienz von Geräten im Nanobereich optimieren wollen.

Dank seiner geringen Dichte und seiner unvergleichlichen mechanischen Widerstandsfähigkeit hält dieser Graphenfilm erheblichen Belastungen stand, ohne zu brechen. Die Architektur im Nanomaßstab trägt wesentlich zur Verbesserung der Signalempfindlichkeit bei Sensoranwendungen bei, während die minimale Dicke es ermöglicht, dass die Geräte kompakt bleiben. Die Kombination aus hervorragender Leitfähigkeit, mechanischer Widerstandsfähigkeit und kompaktem Formfaktor bietet Ingenieuren und Forschern ein außergewöhnlich leistungsfähiges Material für innovative Anwendungen.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Aufgrund seiner stabilen Struktur und seiner außergewöhnlichen elektrischen Eigenschaften ist dieser einlagige Graphenfilm auf einem SiO2/Si-Substrat ein zentrales Bauteil in der Entwicklung von Halbleitern der nächsten Generation. Sein ultradünnes Profil ermöglicht eine stromsparende Hochgeschwindigkeitsleistung in integrierten Schaltkreisen, was ihn in Bereichen wie flexibler Elektronik und Hochfrequenztransistoren besonders wertvoll macht. Darüber hinaus sind seine optische Transparenz und hohe Elektronenbeweglichkeit von unschätzbarem Wert für die Verbesserung der Sensormechanik in biomedizinischen und Umweltüberwachungstechnologien.

Durch die Kombination einer außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeit mit einer robusten mechanischen Festigkeit kommt das Produkt mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) und photonischen Geräten zugute. Hersteller können diese Graphenfolie in transparente Touchscreens, fortschrittliche Beschichtungstechnologien und Präzisionsmessgeräte integrieren, die sowohl Leitfähigkeit als auch Widerstandsfähigkeit erfordern. Folglich bleibt es eine erste Wahl für Techniker und Wissenschaftler, die auf zuverlässige, hochwertige Materialien angewiesen sind, um Innovationen in verschiedenen kommerziellen und industriellen Bereichen voranzutreiben.