FE10669 Eisen-Silizium-Bor-Target (FeSiB-Target)

Katalog-Nr.	FE10669
Zusammensetzung	Fe, Si, B
Abmessungen	Kundenspezifisch
Formular	Ziel

Das Eisen-Silizium-Bor-Target (FeSiB-Target) ist ein Target aus einer Eisenlegierung mit kontrollierten Silizium- und Bor-Zusätzen, die seine Abscheidungseigenschaften optimieren. Stanford Advanced Materials (SAM) setzt bei der Überwachung des Sputterprozesses hochauflösende spektroskopische Methoden ein, um eine gleichmäßige Verteilung der Zusammensetzung sicherzustellen. Detaillierte mikrostrukturelle Analysen und In-situ-Emissionsmessungen verifizieren die Konsistenz des Targets. Diese systematische Qualitätskontrolle minimiert Schwankungen und unterstützt die präzise Herstellung von Dünnschichten für Forschung und industrielle Anwendungen.

ANFRAGE

Beschreibung

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FAQ

Wie wirken sich Zusätze von Silizium und Bor auf die Sputterleistung des Targets aus?

Der Einbau von Silizium und Bor in die Eisenmatrix verfeinert die Mikrostruktur und verändert die Haftungseigenschaften des Films während des Sputterns. Diese Elemente können die Gleichmäßigkeit der Zielerosion verbessern und die Abscheidungsraten steuern, was für die Herstellung gleichmäßiger Dünnfilmschichten auf Substraten von Vorteil ist.

Welche Methoden der Qualitätskontrolle werden bei der Herstellung der Zielscheibe angewandt?

SAM nutzt die optische Emissionsspektroskopie vor Ort in Verbindung mit einer mikrostrukturellen Analyse nach der Produktion, um die Konsistenz der Legierung zu überwachen. Diese Techniken helfen bei der frühzeitigen Erkennung von Abweichungen in der Zusammensetzung und stellen sicher, dass jedes Target die erforderliche Homogenität beibehält, die für eine wiederholbare Abscheidungsleistung erforderlich ist.

Kann die Zielzusammensetzung für bestimmte Ablagerungsprozesse angepasst werden?

Ja, die Legierungszusammensetzung kann auf die jeweiligen Prozessanforderungen zugeschnitten werden. Kunden können Änderungen des Silizium- oder Borgehalts verlangen, um Parameter wie Abscheidungsrate und Gleichmäßigkeit der Schicht zu optimieren. Wenden Sie sich an uns, um weitere Einzelheiten zur Anpassung und technische Unterstützung zu erhalten.

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