CY9548 Co-Spinell-Q-Schaltkristall 5x5 mm T0=97%

Co Spinell Q Schaltkristall 5x5 mm T0=97% Beschreibung

Co Spinel Q Switch Crystal 5x5 mm T0=97% ist ein Kristallsubstrat mit kubischer Spinellstruktur und den Abmessungen 5x5 mm. Der T0-Wert gibt eine gemessene optische Durchlässigkeit von etwa 97 % an, was auf eine begrenzte Lichtstreuung hinweist. Das Substrat wird so bearbeitet, dass es eine ebene Oberfläche und eine einheitliche kristallografische Ausrichtung erhält. Dadurch eignet es sich für die Integration in optische Schaltsysteme und die Halbleiterherstellung, bei denen die Maßhaltigkeit und die optische Konsistenz entscheidend sind.

Co-Spinell-Q-Schaltkristall 5x5 mm T0=97% Anwendungen

1.optoelektronische Geräte
- Wird als optisches Substrat in Strahlschaltmodulen verwendet, um Probleme mit der Lichtstreuung durch seinen hohen Transmissionsgrad zu lösen. Dadurch wird die Signaltreue in photonischen Schaltungen optimiert.
- Verwendung als optisches Fenster in Laserbaugruppen zur Überwindung von Grenzflächenunregelmäßigkeiten durch Nutzung der gleichmäßigen Kristallinität.

2)Halbleiterverarbeitung
- Verwendung als Substrat für die Abscheidung von Dünnschichten in integrierten Schaltkreisen, um Oberflächendefekte durch seine präzise kontrollierte Ebenheit zu mildern.
- Einsatz in Mikrofertigungsschritten zur Unterstützung einer gleichmäßigen Strukturierung durch Ausnutzung seiner gleichmäßigen Maßhaltigkeit.

Co-Spinell-Q-Schaltkristall 5x5 mm T0=97% Packung

Die Kristallsubstrate sind einzeln in antistatischen Beuteln gesichert und in mit Schaumstoff ausgekleideten Kisten verpackt, um mechanische Einwirkungen und Umweltverschmutzung zu verringern. Die Verpackungsstrategie zielt darauf ab, die Ebenheit und Oberflächenqualität während des Transports zu erhalten. Empfohlen wird die Lagerung in einer kontrollierten Umgebung mit niedriger Luftfeuchtigkeit und Umgebungstemperatur. Optionen für kundenspezifische Etikettierung und unterteilte Einsätze sind für spezifische Verarbeitungsanforderungen erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Welche Vorsichtsmaßnahmen sind für die Handhabung dieser Kristallsubstrate erforderlich?
A1: Verwenden Sie statisch ableitende Handschuhe und Reinraumprotokolle, um Oberflächenkontamination und mechanische Beschädigungen zu vermeiden. Die flache und empfindliche Oberfläche kann durch die Ansammlung von Partikeln beeinträchtigt werden, daher sollte die Handhabung in einer kontrollierten Umgebung erfolgen.

F2: Wie wird der T0-Wert von 97 % im Produktionsprozess überprüft?
A2: Der T0-Wert wird durch kalibrierte optische Transmissionsmessungen bestimmt. Jedes Substrat wird einer routinemäßigen Inspektion mit spektrophotometrischer Analyse unterzogen, um die Lichtdurchlässigkeit zu quantifizieren.

F3: Können diese Substrate in Standard-Halbleiterfertigungsprozesse integriert werden?
A3: Ja, die Abmessungen von 5x5 mm und die flache Oberfläche entsprechen den typischen Spezifikationen für Halbleiterprozesse. Die Eigenschaften des Substrats erleichtern die Schichtabscheidung, die Strukturierung und das Ätzen, die in der mikroelektronischen Fertigung erforderlich sind.

Zusätzliche Informationen

Spinellmaterialien weisen eine kubische Kristallstruktur auf, die isotrope Eigenschaften fördert, die in der Optoelektronik von Vorteil sind. Die gleichmäßige Kristallinität spielt eine entscheidende Rolle bei der Minimierung der Lichtstreuung, die für hochpräzise optische Anwendungen unerlässlich ist. Die Forschung auf dem Gebiet der Spinell-Substrate unterstreicht die Bedeutung kontrollierter Wachstumsbedingungen und strenger Oberflächenkontrollen, um die gewünschten optischen und maßlichen Eigenschaften zu erzielen.

Bei der Entwicklung von Co-Spinell-Q-Schaltkristall-Substraten werden etablierte Synthesetechniken mit sorgfältigen Qualitätskontrollmaßnahmen kombiniert. Fortgeschrittene Charakterisierungsmethoden wie Rasterelektronenmikroskopie und spektroskopische Analyse werden zur Überwachung des Kristallwachstums und der Oberflächenmorphologie eingesetzt und unterstützen so Anwendungen in optischen und Halbleiter-Hochleistungsgeräten.