CY9505 Quarzscheibe Durchm. 101,6 mm x 3,2 mm, poliert

Quarzscheibe Dia. 101,6 mm x 3,2 mm, poliert Beschreibung

Die Quarzscheibe wird aus hochreinem SiO₂ hergestellt und zu einer Scheibe mit einem Durchmesser von 101,6 mm und einer Dicke von 3,2 mm verarbeitet. Ihre spiegelglatte Oberfläche ist das Ergebnis eines kontrollierten mechanischen Polierprozesses, der Oberflächenunregelmäßigkeiten minimiert. Die definierten Abmessungen gewährleisten die Kompatibilität mit den in optischen, elektronischen und kristallographischen Experimenten verwendeten Standardbearbeitungsgeräten. Die chemische Inertheit des Materials bietet Stabilität bei Hochtemperaturverfahren und präzisen Filmabscheidungen.

Quarzscheibe Dia. 101,6 mm x 3,2 mm, poliert Anwendungen

Elektronik und Halbleiterkomponenten
- Wird als Trägersubstrat bei der Dünnschichtabscheidung verwendet, um durch seine gleichmäßige Ebenheit und chemische Inertheit eine gleichmäßige Schichtdicke zu erreichen.
- Anwendung in optischen Kalibrierungsgeräten zur Verbesserung der Messkonsistenz aufgrund der kontrollierten Oberflächenbeschaffenheit.

Industrielle Instrumentierung
- Wird als Referenzelement in thermischen Verarbeitungssystemen eingesetzt, um eine stabile Wärmeverteilung durch seine Dimensionsstabilität und thermische Beständigkeit zu gewährleisten.

Quarzscheibe Dia. 101,6 mm x 3,2 mm, poliert Verpackung

Die in statisch ableitfähigen, mit Schaumstoff ausgekleideten Behältern verpackte Scheibe ist einzeln in kratzfeste Folie eingewickelt und in feuchtigkeitsbeständigen Beuteln versiegelt. Das Verpackungsdesign verhindert Verunreinigungen durch Partikel und mechanische Beschädigungen. Die Verpackung wird in einer kontrollierten, staubfreien Umgebung gelagert und kann mit zusätzlicher Beschriftung und Trennwänden versehen werden, um speziellen Handhabungs- und Transportanforderungen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Welche kritischen Messungen sollten bei Erhalt der Quarzscheibe überprüft werden?
A1: Die Überprüfung des Durchmessers und der Dicke mit kalibrierten Mikrometern stellt sicher, dass die Scheibe die spezifizierten Anforderungen von 101,6 mm und 3,2 mm erfüllt. Eine ordnungsgemäße Überprüfung der Abmessungen ist für die Ausrichtung in nachgelagerten Kristall- und Elektronikverarbeitungsanwendungen unerlässlich.

F2: Wie wirkt sich die polierte Oberfläche auf die Leistung bei Mikrofabrikationsprozessen aus?
A2: Die spiegelglatte polierte Oberfläche minimiert Streuungen und Unregelmäßigkeiten, was für eine präzise Schichtabscheidung und optische Kalibrierung in Mikrofertigungsumgebungen entscheidend ist. Diese einheitliche Oberflächenbeschaffenheit trägt dazu bei, die Konsistenz bei hochauflösenden Anwendungen aufrechtzuerhalten.

F3: Welche Handhabungsprotokolle werden empfohlen, um die Unversehrtheit der Oberfläche der Disc zu erhalten?
A3: Es wird empfohlen, antistatische Handschuhe und Reinraumverfahren zu verwenden, um die Verunreinigung durch Partikel zu minimieren und Kratzer zu vermeiden. Diese Maßnahmen sind wichtig, wenn die Disc in Umgebungen installiert wird, die empfindlich auf Oberflächenunregelmäßigkeiten reagieren.

Zusätzliche Informationen

Quarzsubstrate spielen eine wichtige Rolle in Umgebungen, in denen Dimensionsstabilität und chemische Inertheit von größter Bedeutung sind. Hochreines Quarz oder SiO₂ wird aufgrund seiner minimalen Wärmeausdehnung und seiner widerstandsfähigen Eigenschaften in verschiedenen Branchen, von der optischen Messtechnik bis zur Halbleiterforschung, geschätzt. Die kontrollierten Herstellungs- und Polierverfahren erleichtern eine gleichbleibende Leistung, die für Präzisionsanwendungen entscheidend ist.

Das Verständnis der Materialeigenschaften von Quarz in solchen Substraten hilft Ingenieuren und Forschern bei der Auswahl geeigneter Materialien für anspruchsvolle Anwendungen. Die wissenschaftliche Grundlage der Quarzherstellung, von der Auswahl des Rohmaterials bis hin zur Oberflächenbearbeitung, spiegelt den kontinuierlichen Fortschritt in der Materialverarbeitung in modernen Forschungs- und Industriekontexten wider.