CY9499 Quarzscheibe Durchm. 25,4 mm x 3,2 mm, poliert

Quarzscheibe Dia. 25,4 mm x 3,2 mm, poliert Beschreibung

Quarzscheibe Dia. 25,4 mm x 3,2 mm, poliert, wird aus hochreinem Quarz mit engen Toleranzen für Abmessungen und Oberflächenbeschaffenheit hergestellt. Die kontrollierte Dicke und die polierte Oberfläche gewährleisten die Kompatibilität mit Standard-Halbleiter- und optischen Prüfgeräten. Die technisch bedingte Ebenheit minimiert die Lichtstreuung in optischen Systemen und verringert die Unstimmigkeiten an den Schnittstellen in elektronischen Anwendungen. Die technischen Eigenschaften des Substrats unterstützen die genaue Ausrichtung von Komponenten und die effiziente Integration von Geräten.

Quarzscheibe Dia. 25,4 mm x 3,2 mm, poliert Anwendungen

1.elektronik
- Verwendung als Substrat in Dünnschichtabscheidungssystemen zur Erzielung einer gleichmäßigen Schichtbildung durch Nutzung der flachen, polierten Oberfläche.
- Verwendung als Träger für Photolithographie-Masken in der Halbleiterherstellung zur Verbesserung der Mustergenauigkeit durch minimale Oberflächenunregelmäßigkeiten.

2.optische Systeme
- Dient als optisches Element in interferometrischen Messgeräten zur Verbesserung der Messgenauigkeit durch Bereitstellung einer gleichmäßigen reflektierenden Oberfläche.

3.industrielle Inspektion
- Wird als Kalibrierungsstandard in der Oberflächenprofilometrie verwendet, um durch seine präzise Maßkontrolle eine genaue Messung der Geräteleistung zu erreichen.

Quarzscheibe Dia. 25,4 mm x 3,2 mm, poliert Verpackung

Die Quarzscheibe ist in einem gepolsterten, antistatischen Behälter mit Schaumstoffeinlagen verpackt, um die mechanische Belastung zu verringern. Sie ist in einem feuchtigkeitsundurchlässigen Beutel versiegelt und wird unter kontrollierten Temperaturbedingungen gelagert, um eine Kontamination zu minimieren. Die Handhabungshinweise empfehlen minimalen Kontakt mit bloßen Händen. Für spezifische Lagerungsanforderungen und Verpackungskonfigurationen sind kundenspezifische Verpackungsoptionen erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Wie wirkt sich der Polierprozess auf die Oberflächenqualität der Quarzscheibe aus?
A1: Der chemische und mechanische Polierprozess verbessert die Ebenheit und das Finish der Oberfläche und verringert die Verunreinigung durch Partikel und Mikrokratzer. Dies ist wichtig, wenn die Scheibe in der Fotolithografie und in optischen Messsystemen verwendet wird.

F2: Welche praktischen Schritte werden unternommen, um die Maßhaltigkeit zu gewährleisten?
A2: Der Produktionsprozess umfasst interferometrische Messungen und profilometrische Prüfungen, um die Dicke und den Durchmesser der Scheibe zu verifizieren. Diese Schritte minimieren Abweichungen und unterstützen hochpräzise Anwendungen.

F3: Gibt es empfohlene Lagerungsbedingungen, um die Eigenschaften der Quarzscheibe zu erhalten?
A3: Ja, die Lagerung der Scheibe in einer kontrollierten, feuchtigkeitsarmen und temperaturstabilen Umgebung mit geeigneter Verpackung trägt dazu bei, ihre Oberflächenintegrität zu erhalten und Verunreinigungen zu vermeiden.

Zusätzliche Informationen

Quarz ist ein weithin untersuchtes Material aufgrund seiner ausgezeichneten thermischen Stabilität und minimalen thermischen Ausdehnung, wodurch es sich für Anwendungen eignet, bei denen die Dimensionsstabilität entscheidend ist. In vielen Forschungslabors und in der Industrie tragen Quarzsubstrate zu hochpräzisen Tests und Prozessen bei, indem sie eine stabile Grundlage für verschiedene fortschrittliche Fertigungstechniken bilden.

Das Verständnis der Substrateigenschaften ist in der Materialwissenschaft und -technik von entscheidender Bedeutung. Die inhärenten elektrischen und optischen Eigenschaften von Quarzglas in Verbindung mit strengen Herstellungskontrollen ermöglichen eine effektive Leistung in Umgebungen mit anspruchsvollen Standards und unterstützen so den Fortschritt in der Halbleiter- und optischen Instrumententechnologie.