CY9498 Quarzscheibe Durchm. 25,4 mm x 1,6 mm, poliert

Quarzscheibe Dia. 25,4 mm x 1,6 mm, poliert Beschreibung

Bei dem Produkt handelt es sich um eine Quarzscheibe (SiO₂) mit einem Durchmesser von 25,4 mm und einer Dicke von 1,6 mm, die eine polierte Oberfläche in optischer Qualität aufweist. Diese Spezifikation gewährleistet eine minimale Lichtstreuung und eine verbesserte optische Klarheit, wodurch sie sich für Präzisionsinstrumente und elektronische Anwendungen eignet. Die flache Oberfläche verbessert die Kompatibilität mit Standardbearbeitungsgeräten für die Halbleiter- und Sensorherstellung. Der kontrollierte Herstellungsprozess führt zu einem konsistenten und kontaminationsfreien Substrat.

Quarzscheibe Dia. 25,4 mm x 1,6 mm, poliert Anwendungen

Elektronik- und Halbleiteranwendungen
- Wird als dielektrisches Substrat in mikroelektronischen Schaltungen verwendet, um eine verlustarme Signalübertragung zu erreichen, indem seine hohe Reinheit und gleichmäßige Dicke genutzt wird.
- Anwendung als Träger in Fotolithografiesystemen zur Verbesserung der Mustertreue durch seine optisch flache Oberfläche.

Industrielle und optische Instrumentierung
- Dient als optisches Fenster in Sensorbaugruppen zur Reduzierung von Streulichtinterferenzen und gewährleistet durch seine polierte Oberfläche genaue Messungen.
- Wird häufig in Laseranwendungen eingesetzt, um die Strahlqualität zu erhalten und die Streuung aufgrund der glatten Oberflächenmorphologie zu minimieren.

Quarzscheibe Dia. 25,4 mm x 1,6 mm, poliert Verpackung

Die Quarzscheibe ist einzeln in einem speziell geformten Schaumstoffhalter in einem antistatischen Beutel verpackt, um die Oberflächenintegrität zu erhalten und Verunreinigungen zu vermeiden. Die Baugruppe ist in einem festen Behälter versiegelt, um sie vor mechanischen Stößen und dem Eindringen von Staub zu schützen. Die Verpackungsanleitung empfiehlt die Lagerung in einer kontrollierten, trockenen Umgebung, um die optische Qualität der polierten Oberfläche zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen sind auf Anfrage erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Wie wirkt sich die polierte Oberfläche auf die Leistung der Quarzscheibe in optischen Anwendungen aus?
A1: Die polierte Oberfläche minimiert die Oberflächenstreuung und -beugung, was zu einer verbesserten Lichtdurchlässigkeit und einer höheren Genauigkeit bei optischen Messungen führt. Dies ist entscheidend für Anwendungen, die eine hohe Signalklarheit und minimale optische Verluste erfordern.

F2: Welche Maßnahmen zur Qualitätskontrolle werden während des Herstellungsprozesses durchgeführt?
A2: Der Herstellungsprozess umfasst interferometrische Oberflächeninspektionen und eine Inline-Überwachung, um die Ebenheit zu überprüfen und Oberflächenfehler zu minimieren. Durch diese Maßnahmen wird sichergestellt, dass die Scheibe strenge Maßtoleranzen und optische Qualitätsstandards einhält.

F3: Kann die Quarzscheibe in Standard-Halbleiterverarbeitungsanlagen integriert werden?
A3: Ja, der standardisierte Durchmesser und die Dicke ermöglichen die direkte Integration in gängige Halbleiter- und Fotolithografiesysteme und sorgen für Einheitlichkeit und Kompatibilität mit bestehenden Fertigungsprotokollen.

Zusätzliche Informationen

Quarzsubstrate spielen aufgrund ihrer hohen thermischen Stabilität und ihrer inhärenten chemischen Inertheit sowohl in optischen als auch in elektronischen Anwendungen eine wichtige Rolle. Die Materialeigenschaften von Quarz, insbesondere der niedrige Wärmeausdehnungskoeffizient und die elektrische Isolierung, machen es zu einer attraktiven Wahl für Präzisionsinstrumente und Halbleitergeräte.

In der Materialwissenschaft ist das Verständnis des Zusammenspiels zwischen mechanischer Bearbeitung und intrinsischen Materialeigenschaften von wesentlicher Bedeutung. Dieses Wissen ermöglicht die Optimierung von Substraten für eine Reihe kommerzieller Anwendungen, bei denen Leistungsbeständigkeit und Materialzuverlässigkeit entscheidende Faktoren sind.