CY9470 Nickel-Einkristall-Substrat Ni-Substrat (110), 10x10x0,5 mm, SSP

Nickel-Einkristall-Substrat Ni-Substrat (110), 10x10x0,5 mm, SSP Beschreibung

Nickel-Einkristall-Substrat Ni-Substrat (110), 10x10x0,5 mm, SSP bietet eine gut definierte Einkristallstruktur aus Nickel mit einer (110)-Orientierung, die ein einheitliches Gitter gewährleistet, das für epitaktisches Wachstum unerlässlich ist. Die Abmessungen des Substrats von 10 mm x 10 mm mit einer Dicke von 0,5 mm ermöglichen eine nahtlose Integration in Standardprozessanlagen. Die minimale Defektdichte und die gleichmäßige Oberflächenbeschaffenheit verbessern seine Eignung für Anwendungen in der modernen Materialforschung und der Halbleiterverarbeitung.

Nickel-Einkristall-Substrat Ni-Substrat (110), 10x10x0,5 mm, SSP-Anwendungen

Elektronik und Halbleiterverarbeitung
- Verwendung als Substrat in Dünnschichtabscheidungssystemen zur Erzielung gleichmäßiger Epitaxieschichten durch Ausnutzung seiner präzisen (110)-Ausrichtung.
- Wird als Diffusionsbarriere in integrierten Schaltungen eingesetzt, um die Leistung der Geräte durch gleichmäßige Kornstrukturen zu verbessern.

Materialforschung und Laboranalyse
- Dient als Kalibrierungsstandard in kristallographischen Experimenten zur Validierung von Abscheidetechniken und Oberflächenbehandlungen, indem seine geringe Defektdichte genutzt wird.

Nickel-Einkristall-Substrat Ni-Substrat (110), 10x10x0,5 mm, SSP-Verpackung

Das Substrat wird einzeln in einem antistatischen Beutel und einem gepolsterten Behälter verpackt, um mechanische Beschädigungen und Verunreinigungen zu vermeiden. Es wird in einer trockenen, temperaturkontrollierten Umgebung mit niedriger Luftfeuchtigkeit gelagert, um seine präzisen Oberflächenbedingungen zu erhalten. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich zusätzlicher Schaumstoffeinlagen und Beschriftungen, sind erhältlich, um speziellen Handhabungs- und Lagerungsprotokollen gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Welche Vorteile bietet die (110)-Ausrichtung für epitaktische Wachstumsprozesse?
A1: Die (110)-Orientierung bietet eine einheitliche kristalline Vorlage, die ein gleichmäßiges Wachstum der Epitaxieschichten erleichtert, wodurch Filmdefekte reduziert und die bei der Halbleiterherstellung wichtige Haftung verbessert wird.

F2: Welche Methoden der Qualitätskontrolle werden eingesetzt, um die Präzision des Substrats zu gewährleisten?
A2: SAM verwendet Röntgenbeugung zur Überprüfung der kristallografischen Ausrichtung und Rasterkraftmikroskopie zur Beurteilung der Oberflächenrauheit, um sicherzustellen, dass das Substrat strenge Defektdichte- und Abmessungstoleranzen einhält.

F3: Kann das Substrat an spezifische Forschungsanforderungen angepasst werden?
A3: Ja, Anpassungen der Abmessungen oder zusätzliche Oberflächenbehandlungen können im Rahmen einer technischen Beratung vereinbart werden, so dass eine Anpassung an spezielle Versuchsaufbauten möglich ist.

Zusätzliche Informationen

Nickelsubstrate spielen in der Materialwissenschaft eine wichtige Rolle, da sie ein hochwertiges epitaktisches Filmwachstum ermöglichen. Die kristallografische Präzision dieser Substrate hat direkten Einfluss auf die Leistung und Reproduzierbarkeit von Dünnschichtgeräten. Die Forschung auf diesem Gebiet konzentriert sich häufig auf das Verständnis der Auswirkungen von Substrateigenschaften wie Kornorientierung und Oberflächengleichmäßigkeit auf die Gesamteffizienz des Prozesses.

Die Anwendung von einkristallinen Nickelsubstraten erstreckt sich auf verschiedene experimentelle Techniken in der Halbleiter- und Werkstofftechnik. Die kontrollierte Umgebung während der Produktion und die anschließende Qualitätsprüfung stellen sicher, dass diese Substrate eine zuverlässige Plattform für fortschrittliche Forschung bieten und zu verbesserten Abscheidungsprozessen und einer höheren Leistung der Bauelemente beitragen.