CY9458 Kupfer-Einkristall-Substrate Cu-Substrat (111), 10x10x1 mm, SSP

Kupfer-Einkristallsubstrate Cu-Substrat (111), 10x10x1 mm, SSP Beschreibung

Kupfer-Einkristallsubstrate Cu-Substrat (111), 10x10x1 mm, SSP werden nach einem kontrollierten Erstarrungsverfahren hergestellt, das eine (111)-Ausrichtung in einer monokristallinen Matrix ergibt. Die Substrate sind mit 10 mm x 10 mm x 1 mm präzise dimensioniert, was die Kompatibilität mit Standard-Halbleiterverarbeitungsanlagen gewährleistet. Diese Ausrichtung minimiert die Korngrenzen und verbessert den Elektronentransport bei Anwendungen, die eine detaillierte Materialanalyse erfordern.

Kupfer-Einkristall-Substrate Cu-Substrat (111), 10x10x1 mm, SSP-Anwendungen

1.elektronische Anwendungen
- Verwendung als Abscheidungssubstrat in der Halbleiterfertigung, um ein gleichmäßiges Dünnschichtwachstum durch Ausnutzung der (111)-Kristallausrichtung zu erreichen.
- Anwendung als Wärmespreizer in der Leistungselektronik zur Bewältigung der Wärmebelastung durch Ausnutzung der hohen Wärmeleitfähigkeit von Kupfer.

2. inder Materialforschung
- Einsatz als Probenträger in Oberflächenanalysesystemen zur Erzielung hochauflösender Bilder durch Ausnutzung der Einkristallstruktur.
- Anwendung in Korrosionsstudien zur Bewertung der Oxidationsdynamik von Kupfer durch Ausnutzung seiner gut definierten kristallographischen Oberfläche.

Kupfer-Einkristall-Substrate Cu-Substrat (111), 10x10x1 mm, SSP-Verpackung

Die Substrate werden einzeln in antistatischen, speziell geformten Schaumstoffhaltern verpackt und in mit Inertgas ausgekleideten Behältern versiegelt, um Oxidation zu verhindern. Die Verpackung enthält einen schützenden Quarzhalter und klare Anweisungen zur Handhabung, um die Kontamination durch Partikel in der Luft zu minimieren. Für eine optimale Lagerung ist eine Umgebung mit kontrollierter Temperatur und niedriger Luftfeuchtigkeit erforderlich. Kundenspezifische Verpackungskonfigurationen und Beschriftungsoptionen sind auf Anfrage erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Welche Methoden werden verwendet, um die (111)-Kristallorientierung zu überprüfen?
A1: Röntgenbeugung (XRD) ist die primäre Methode zur Bestätigung der (111)-Orientierung, unterstützt durch Rasterelektronenmikroskopie (SEM) zur detaillierten Bewertung der Oberflächenstruktur.

Q2: Wie wird die Dicke des Substrats von 1 mm während der Produktion beibehalten?
A2: Präzises Schneiden und Polieren sowie routinemäßige Profilometriemessungen und kontrollierte Prozessparameter sorgen dafür, dass das Substrat durchgehend eine Dicke von 1 mm erreicht.

F3: Welche Lagerungsbedingungen werden empfohlen, um die Integrität des Substrats zu erhalten?
A3: Es wird empfohlen, die Substrate in einer Umgebung mit kontrollierter Temperatur und geringer Luftfeuchtigkeit zu lagern. Die antistatische und inertisierte Verpackung hilft, Oxidation und Verunreinigung während der Lagerung zu verhindern.

Zusätzliche Informationen

Kupfereinkristalle sind sowohl im akademischen als auch im industriellen Bereich wertvoll, da sie nur minimale Korngrenzeneffekte aufweisen, die den Elektronentransport und die Wärmeleitfähigkeit stark beeinflussen können. Detaillierte Untersuchungen von Kupferkristallstrukturen liefern Erkenntnisse, die für Anwendungen in der Elektronik und Sensorik entscheidend sind.

Die kontrollierte Herstellung von Kupfereinkristallen unterstützt die materialwissenschaftliche Forschung durch die Bereitstellung von Substraten mit einheitlichen Eigenschaften. Diese Homogenität ist für die experimentelle Reproduzierbarkeit und Präzisionstests in der Oberflächenphysik und der Herstellung von Halbleiterbauelementen unerlässlich.