CY9452 Kupfer-Einkristall-Substrate Cu-Substrat (110), 10x10x1 mm, SSP

Kupfer-Einkristall-Substrate Cu-Substrat (110), 10x10x1 mm, SSP Beschreibung

Dieses monokristalline Kupfersubstrat weist eine kristallografische Ausrichtung (110) und präzise Abmessungen von 10x10x1 mm auf. Seine einkristalline Beschaffenheit minimiert die Elektronenstreuung und reduziert die Oberflächendiskontinuitäten, wodurch es sich für Halbleiterprozesse und Anwendungen in elektronischen Geräten eignet. Die entwickelte Mikrostruktur wird durch Röntgenbeugung und Elektronenmikroskopie verifiziert, wodurch die kontrollierte Abwesenheit von Korngrenzen und eine einheitliche Oberflächentopographie gewährleistet werden.

Kupfer-Einkristall-Substrate Cu-Substrat (110), 10x10x1 mm, SSP Anwendungen

1.elektronik
- Verwendung als Verbindungsbasis in Hochfrequenzschaltungen, um durch die Nutzung der Einkristallstruktur eine geringere Elektronenstreuung zu erreichen.
- Verwendung als Substrat in mikroelektronischen Verpackungen zur Verbesserung der Signalklarheit durch Nutzung der einheitlichen Oberflächenmorphologie.

2.industriell
- Wird häufig als Testplattform in der Prozessentwicklung für die Halbleiterherstellung verwendet, um die Abscheidungsprozesse unter Ausnutzung der gleichmäßigen kristallographischen Ausrichtung zu optimieren.
- Dient als Kalibrierungsstandard in Materialcharakterisierungsaufbauten, da es kontrollierte Oberflächeneigenschaften bietet.

Kupfer-Einkristall-Substrate Cu-Substrat (110), 10x10x1 mm, SSP-Verpackung

Die Substrate sind in antistatischen, mit Schaumstoff ausgekleideten Trägern verpackt, um Stöße und Oberflächenverunreinigungen zu minimieren. Sie sind in einer feuchtigkeitsundurchlässigen Verpackung versiegelt, um eine trockene Umgebung zu gewährleisten und die Exposition von Partikeln zu verhindern. Es wird empfohlen, die Temperatur während der Lagerung zu kontrollieren, um die kristallographische Integrität zu erhalten. Kundenspezifische Beschriftungen und Fächeraufteilungen sind möglich, um spezifischen Anforderungen an Logistik und Rückverfolgbarkeit gerecht zu werden.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Wie wird die (110)-Orientierung in diesen Substraten überprüft?
A1: Die (110)-Orientierung wird durch Röntgenbeugungstechniken in Verbindung mit elektronenmikroskopischen Analysen bestätigt. Diese Bewertungen stellen sicher, dass die Ausrichtung des Kristallgitters den strengen Spezifikationen entspricht, die für die Prüfung von Halbleiterbauelementen erforderlich sind.

Q2: Welche Maßnahmen werden ergriffen, um die Oberflächenkontamination während der Produktion zu minimieren?
A2: Der Herstellungsprozess umfasst Reinraumumgebungen und sorgfältige Handhabungsverfahren, einschließlich antistatischer Protokolle und Verarbeitung in kontrollierter Atmosphäre, um die Verunreinigung der Substratoberfläche durch Partikel und Feuchtigkeit zu begrenzen.

F3: Können diese Substrate in bestehende Halbleiterverarbeitungsanlagen integriert werden?
A3: Ja, die Substratabmessungen von 10x10x1 mm sind mit Standard-Halbleiterverarbeitungsplattformen kompatibel und ermöglichen eine unkomplizierte Integration und Prozessanpassung ohne umfangreiche Umrüstung.

Zusätzliche Informationen

Einkristalline Kupfersubstrate bieten eine Plattform für Forschung und industrielle Anwendungen, bei denen minimale Korngrenzen entscheidend sind. Die einkristalline Struktur verbessert den Elektronentransport und verringert die Streuung, was für Prozesse, die eine hohe Datenintegrität und Signalstabilität erfordern, von entscheidender Bedeutung ist. Diese Substrate finden breite Anwendung in der Elektronik, wo verfeinerte Materialeigenschaften die Leistung der Geräte erheblich beeinflussen.

Das Verständnis des Verhaltens von Kupfer in Einkristallform trägt auch zu Fortschritten bei mikroelektronischen Verbindungen und Sensortechnologien bei. Die Forscher profitieren von detaillierten Techniken zur Oberflächencharakterisierung und strengen Prozesskontrollen, die die Materialinnovation und Prozessoptimierung bei der Halbleiterherstellung unterstützen.