CY9441 Aluminium-Einkristallsubstrat (100), Dia. 2 Zoll x 0,95 mm, SSP

Aluminium-Einkristall-Substrat (100), Dia. 2 Zoll x 0,95 mm, SSP Beschreibung

Dieses Substrat wird aus einkristallinem Aluminium mit einer (100)-Ausrichtung hergestellt, um eine atomar flache Oberfläche zu bieten, die für die Herstellung integrierter Schaltungen entscheidend ist. Seine konstanten Abmessungen von 2 Zoll Durchmesser und 0,95 mm Dicke unterstützen die präzise Ausrichtung in Halbleiterprozessen und Forschungsanwendungen. Die kontrollierten kristallographischen Eigenschaften reduzieren die Defektdichte und verbessern die Prozessgleichmäßigkeit bei fortschrittlichen Materialstudien.

Aluminium-Einkristall-Substrat (100), Dia. 2 Zoll x 0,95 mm, SSP-Anwendungen

- Elektronik: Wird als Basis bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet, um eine gleichmäßige Dünnschichtabscheidung zu erreichen, indem die atomar flache Oberfläche und die kontrollierte kristallografische Ausrichtung genutzt werden.

- Forschung und Entwicklung: Einsatz als Testplattform in materialwissenschaftlichen Studien zur Untersuchung der Mechanismen des Epitaxiewachstums unter Ausnutzung der Einkristallstruktur.

- Optoelektronik: Wird als Substrat in optischen Sensoren eingesetzt, um durch die geringe Defektdichte und die präzise Ausrichtung eine gleichmäßige Signalleistung zu erzielen.

Aluminium-Einkristall-Substrat (100), Dia. 2 Zoll x 0,95 mm, SSP-Verpackung

Das Substrat ist in antistatischen, gepolsterten Behältern verpackt, die mit inertem Schaumstoff ausgekleidet sind, um es vor mechanischen Stößen und Verunreinigungen zu schützen. Es wird in einer kontrollierten Umgebung versiegelt, um das Eindringen von Feuchtigkeit und Oberflächenkontamination zu verhindern. Es wird empfohlen, das Produkt unter stabilen Temperatur- und Feuchtigkeitsbedingungen zu lagern. Kundenspezifische Verpackungsoptionen, einschließlich spezieller Etikettierung und unterteilter Behälter, sind auf Anfrage erhältlich.

Häufig gestellte Fragen

Q1: Welche Prüfverfahren bestätigen die kristallografische Ausrichtung des Substrats?
A1: Das Substrat wird einer Röntgenbeugung und einer Elektronenrückstreuungsbeugung (EBSD) unterzogen, um die (100)-Orientierung zu überprüfen und die strukturelle Integrität und minimale Fehlerdichte sicherzustellen.

F2: Inwiefern ist die Substratdicke für die Halbleiterverarbeitung relevant?
A2: Die Dicke von 0,95 mm ermöglicht die Kompatibilität mit etablierten Wafer-Verarbeitungsprotokollen und erleichtert einheitliche Wärmebehandlungen und präzise nachfolgende Abscheidungsschritte.

F3: Sind die Abmessungen anpassbar, um unterschiedliche Versuchsbedingungen zu erfüllen?
A3: Kundenspezifische Durchmesser und Dicken sind nach detaillierten Bewertungen möglich, die eine gleichbleibende kristallografische Konsistenz und bestätigte Leistungskennzahlen gewährleisten.

Zusätzliche Informationen

Aluminiumeinkristalle weisen aufgrund ihrer kristallografischen Ausrichtung ausgeprägte anisotrope Eigenschaften auf. Diese Substrate werden in der Forschung zur Untersuchung des Epitaxiewachstums und der Auswirkungen der Oberflächengleichmäßigkeit auf die Schichtabscheidung eingesetzt. Ihre genau definierten strukturellen Merkmale tragen zu besser vorhersehbaren und kontrollierten Herstellungsprozessen bei.

In der allgemeinen Materialwissenschaft trägt die Forschung an Einkristallsubstraten zu Verbesserungen in der Halbleiterherstellung und bei modernen elektronischen Anwendungen bei. Die Möglichkeit, die Kristallographie und die Oberflächenmorphologie genau zu kontrollieren, unterstützt die laufenden Entwicklungen sowohl in der Grundlagenforschung als auch in der angewandten Technologie und fördert unser Verständnis des Materialverhaltens auf mikroskopischer Ebene.