CY8930 CVD Rheniumdisulfid-Film auf C-Ebene Saphir-Substrat ReS2-Film 10x10 mm

CVD Rheniumdisulfid-Film auf C-Ebene Saphir-Substrat ReS2-Film 10x10 mm Beschreibung

Unsere Rheniumdisulfid (ReS₂)-Filme werden durch ein kontrolliertes chemisches Aufdampfverfahren hergestellt und weisen außergewöhnliche elektronische und optische Eigenschaften auf, die eine hohe Leistung in Geräten der nächsten Generation ermöglichen. Das c-ebene Saphir-Substrat gewährleistet eine hervorragende thermische und mechanische Stabilität, die eine zuverlässige Integration in Anwendungen wie Fotodetektoren, flexible Elektronik und optische Sensoren ermöglicht. Die Schichtkristallstruktur von ReS₂ und die robuste chemische Stabilität verbessern seine Eignung in rauen Betriebsumgebungen zusätzlich.

Jeder 10 × 10 mm große ReS₂-Film wird strengen Qualitätskontrollen unterzogen, um eine gleichmäßige Dicke, kristalline Reinheit und minimale Defekte zu gewährleisten. Unser Produktionsprozess nutzt fortschrittliche Herstellungsmethoden, um eine gleichmäßige Schichtabdeckung und Reproduzierbarkeit der Proben zu gewährleisten und so den vielfältigen Anforderungen von Forschung und Industrie gerecht zu werden. Entscheiden Sie sich für unsere ReS₂-Filme für modernste Anwendungen, die optimierte Materialien mit bewährter Zuverlässigkeit erfordern.

CVD-Rheniumdisulfid-Film auf C-Ebenen-Saphir-Substrat ReS2 Film 10x10 mm Anwendungen

Rheniumdisulfid (ReS₂)-Filme, die durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) auf Saphirsubstraten in der C-Ebene aufgewachsen sind, bieten ein stabiles 2D-Material mit beeindruckenden elektrischen und optischen Eigenschaften. Ihre hohe Ladungsträgerbeweglichkeit, ihre einzigartigen anisotropen Eigenschaften und ihre robuste thermische Stabilität machen sie für eine Vielzahl von Hochleistungsanwendungen geeignet. Die Größe von 10×10 mm bietet eine große Oberfläche für die Herstellung von Bauelementen und ermöglicht eine einfache Integration in spezialisierte Systeme in verschiedenen Branchen.

1. industrielle Anwendungen

-Dünnschichtelektronik: ReS₂-Filme können für effiziente Transistoren verwendet werden, die eine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit und reduzierte Leckströme aufweisen.

-Photovoltaische Komponenten: Die hohe optische Absorption macht diese Folien ideal für die Forschung und Entwicklung von Solarzellen zur Optimierung der Energieumwandlung.

2) Forschungsanwendungen

-Fortschrittliche Sensorik: Die anisotropen Eigenschaften ermöglichen eine hohe Empfindlichkeit in elektronischen und optischen Sensorexperimenten.

-Herstellung von Nanogeräten: Forscher können aufgrund der 2D-Natur und der stabilen Struktur der Schicht innovative Transistoren und optoelektronische Geräte erforschen.

3. kommerzielle Anwendungen

-Display-Panels der nächsten Generation: Die hohe Ladungsträgerbeweglichkeit ermöglicht schnellere Schaltzeiten und eine bessere Bildqualität.

-Tragbare Elektronik: Robuste thermische Stabilität und Flexibilität öffnen die Türen für leichte, langlebige und leistungsstarke tragbare Geräte.

CVD-Rheniumdisulfid-Film auf C-Ebene-Saphir-Substrat ReS2-Film 10x10 mm Verpackung

Jede 10x10 mm große CVD-Rheniumdisulfid (ReS2)-Folie auf einem C-Ebenen-Saphir-Substrat ist mit ESD-sicherem Schaumstoff geschützt und in einem feuchtigkeitsbeständigen Beutel vakuumversiegelt. Sie sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung bei Raumtemperatur gelagert werden, um eine Zersetzung zu verhindern. Eine antistatische Außenverpackung minimiert die Kontamination. Kundenspezifische Optionen, wie z. B. zusätzliche Schutzschichten oder Feuchtigkeitsindikatoren, sind ebenfalls erhältlich, um speziellen Anforderungen gerecht zu werden.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

CVD-Rheniumdisulfid-Film auf C-Ebenen-Saphir-Substrat ReS2-Film 10x10 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von CVD-Rheniumdisulfid-Film auf C-Ebene Saphir-Substrat ReS2 Film 10x10 mm?

A1: CVD-Rheniumdisulfid (ReS2)-Filme, die auf c-ebenen Saphir-Substraten gewachsen sind, weisen aufgrund ihrer verzerrten 1T-Kristallstruktur ein einzigartiges anisotropes Verhalten auf. Sie weisen typischerweise eine hohe optische Absorption im sichtbaren Bereich, eine ausgezeichnete elektrische Leitfähigkeit und eine starke Photolumineszenz auf. Die Schichtdicke kann für bestimmte Anwendungen angepasst werden, und eine gleichmäßige Bedeckung gewährleistet eine gleichbleibende Leistung. Aufgrund dieser Eigenschaften eignen sich ReS2-Filme hervorragend für fortschrittliche elektronische, optoelektronische und sensorische Geräte.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Um die Unversehrtheit der ReS2-Folien zu gewährleisten, sollten Sie die Substrate mit sauberen, nicht scheuernden Handschuhen und einer Pinzette behandeln, um Verunreinigungen oder mechanische Beschädigungen zu vermeiden. Lagern Sie die Folie in einer staubfreien Umgebung mit geringer Luftfeuchtigkeit, idealerweise in einer inerten Atmosphäre oder einem versiegelten Behälter. Vermeiden Sie den direkten Kontakt mit scharfen Chemikalien oder übermäßiger Hitze, um die Oberflächenqualität zu erhalten. Eine routinemäßige Inspektion unter einer schwachen Lichtquelle kann helfen, mögliche Schäden oder Verunreinigungen zu erkennen.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für CVD-Rheniumdisulfid-Filme auf C-Ebene-Saphir-Substrat ReS2 Film 10x10 mm?

A3: Diese ReS2-Folien werden in der Regel unter ISO 9001-zertifizierten Qualitätsmanagementsystemen hergestellt, um konsistente Herstellungsprozesse und eine zuverlässige Produktleistung zu gewährleisten. Die Hersteller führen häufig gründliche Qualitätskontrollen durch, einschließlich Schichtdickenmessungen, optischer Charakterisierung und elektrischer Tests, um die Einheitlichkeit und die Einhaltung von Industriestandards zu überprüfen. Zusätzliche Zertifizierungen können RoHS- oder REACH-Erklärungen beinhalten, die eine Verpflichtung zur Einhaltung von Umwelt- und Sicherheitsvorschriften für kommerzielle und industrielle Märkte widerspiegeln.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Der CVD-Rheniumdisulfid-Film auf einem C-Ebenen-Saphir-Substrat kombiniert eine geschichtete Kristallstruktur mit einer präzisen Kontrolle der Zusammensetzung und bietet eine außergewöhnliche Ausgewogenheit der elektrischen und optischen Leistung. Dieser einkristalline Film weist eine bemerkenswerte Elektronenbeweglichkeit und eine stabile Bandlücke auf und bietet eine zuverlässige Plattform für Fotodetektoren, Sensoren und andere hochpräzise elektronische Geräte. Darüber hinaus sorgen die atomar dünnen Schichten des Films für minimale Defekte, was seine Leitfähigkeit erhöht und die Gesamteffizienz der Geräte verbessert.

Dank ihrer robusten thermischen Stabilität und ihrer Widerstandsfähigkeit gegen gängige Umweltfaktoren behält diese 10x10 mm große ReS2-Folie ihre Leistung unter verschiedenen Bedingungen bei. Dank dieser Vorteile kann sie in Anwendungen eingesetzt werden, die eine langfristige Zuverlässigkeit erfordern, wie z. B. Sensoren für die Forschung und effiziente Komponenten zur Energiegewinnung. Eine solche konstante Leistung führt nicht nur zu geringeren Wartungskosten, sondern unterstützt auch die Entwicklung skalierbarer Technologien der nächsten Generation.

2. Herstellungsprozess

Der Rheniumdisulfidfilm wird mit Hilfe eines kontrollierten CVD-Verfahrens unter sorgfältig überwachten Temperatur- und Druckbedingungen auf dem c-ebenen Saphirsubstrat gebildet. Diese Methode gewährleistet eine gleichmäßige Schichtabscheidung über die gesamte 10x10 mm große Oberfläche, was zu einer hochwertigen ein- oder mehrschichtigen Konfiguration mit minimalen Defekten führt. Das Verfahren ermöglicht auch die Feinabstimmung der Schichtdicke, so dass die Anwender die Eigenschaften der Schicht genau auf ihre spezifischen Anwendungsanforderungen abstimmen können.

Da der Schwerpunkt auf Wiederholbarkeit und Präzision liegt, umfasst der Fertigungsablauf eine Prozessüberwachung in Echtzeit und fortschrittliche Kalibrierungsverfahren. Diese Liebe zum Detail garantiert, dass jede Charge der ReS2-Folie strengen Qualitätsmaßstäben entspricht und eine gleichbleibende Einheitlichkeit und Leistung gewährleistet. Durch die Einhaltung optimierter Abscheidungsparameter erzielen die Hersteller reproduzierbare Ergebnisse, die zu langlebigen, hochzuverlässigen Geräten in hochmodernen Bereichen wie der Mikroelektronik, biomedizinischen Sensoren und fortschrittlicher Optoelektronik beitragen.