CY8925 Wolframdisulfidfilm auf SiO2/Si-Substrat WS2-Film 10x10 mm

Wolframdisulfid-Film auf SiO2/Si-Substrat WS2-Film 10x10 mm Beschreibung

Unser hochwertiger Wolframdisulfid (WS2)-Film auf einem 10×10 mm großen SiO2/Si-Substrat verbindet außergewöhnliche Stabilität mit gut definierten elektronischen und optischen Eigenschaften. Unter kontrollierten Bedingungen gewachsen, weist dieses zweidimensionale Übergangsmetall-Dichalcogenid eine gleichmäßige Schichtdicke und minimale Defekte auf. Seine Schichtstruktur bietet eine beträchtliche Bandlücke und eine ausgezeichnete thermische und chemische Stabilität, wodurch es sich für die Spitzenforschung in den Bereichen Elektronik, Photonik und Sensorik eignet.

Jede WS2-Schicht wird einer strengen Prüfung unterzogen, um eine gleichbleibende Dicke, Reinheit und Kristallinität zu gewährleisten. Diese strengen Qualitätsstandards garantieren eine optimale Geräteleistung und Reproduzierbarkeit für akademische und industrielle Anwendungen. Ganz gleich, ob Sie die nächste Generation von Halbleitern erforschen, neuartige Sensoren entwickeln oder fortschrittliche optoelektronische Designs untersuchen, dieser WS2-Film auf SiO2/Si-Substrat bietet die Zuverlässigkeit und Effizienz, die innovative wissenschaftliche Bemühungen erfordern.

Wolframdisulfid-Film auf SiO2/Si-Substrat WS2-Film 10x10 mm Anwendungen

Dieser Wolframdisulfidfilm auf einem SiO2/Si-Substrat bietet eine Reihe fortschrittlicher Merkmale, darunter robuste chemische Stabilität, hohe mechanische Festigkeit und hervorragende elektronische Eigenschaften. Die geschichtete 2D-Struktur und die maßgeschneiderte Dicke ermöglichen spezialisierte Lösungen in der Elektronik, Forschung und im kommerziellen Bereich. Durch die Nutzung seiner einzigartigen Qualitäten können Anwender neue Technologien entwickeln, bei denen verbesserte Leistung, Zuverlässigkeit und Effizienz im Vordergrund stehen.

1. industrielle Anwendungen

-Hochleistungsschmierschichten, die Reibung und Verschleiß in Fertigungswerkzeugen verringern

-Langlebige Schutzschichten für chemische Verarbeitungsanlagen, die die Korrosionsbeständigkeit erhöhen

-Fortschrittliche Wärmemanagementlösungen für Automobilkomponenten zur Verbesserung der Gesamteffizienz

2. forschungsbezogene Anwendungen

-Transistorkanäle der nächsten Generation in der Halbleiterforschung, unter Ausnutzung der hervorragenden Ladungsträgerbeweglichkeit von WS2

-Prototyping von Photodetektoren für die Optoelektronik, unter Ausnutzung der abstimmbaren optischen Eigenschaften

-Katalyseexperimente in der chemischen Technik, die von der robusten chemischen Stabilität des Films profitieren

3. kommerzielle Anwendungen

-Flexible Elektronik und Displays, die die anpassungsfähige 2D-Struktur der Folie nutzen

-Hochempfindliche Sensoren im Gesundheitswesen, die eine genauere Patientendiagnostik ermöglichen

-Verbesserte Solarzellendesigns in erneuerbaren Energiesystemen, Verbesserung der Lichtabsorption und der Umwandlungsraten

Wolframdisulfid-Film auf SiO2/Si-Substrat WS2-Film 10x10 mm Verpackung

Jeder 10 x 10 mm Wolframdisulfid (WS2)-Film auf SiO2/Si-Substrat ist sorgfältig in einem antistatischen, feuchtigkeitsbeständigen Beutel mit Schaumstoffpolsterung versiegelt. Dies bietet Schutz vor mechanischer Beschädigung, Feuchtigkeit und Verunreinigungen. Lagern Sie die verpackten Folien in einer sauberen, trockenen Umgebung bei Raumtemperatur. Optional sind stickstoffgespülte Behälter erhältlich, um das Oxidationsrisiko weiter zu verringern. Kundenspezifische Verpackungslösungen werden auf Anfrage angeboten, um spezifische Forschungs- oder Produktionsanforderungen zu erfüllen.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Wolframdisulfid-Film auf SiO2/Si-Substrat WS2-Film 10x10 mm FAQ

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Wolframdisulfid-Film auf SiO2/Si-Substrat WS2-Film 10x10 mm?

A1: Die Materialeigenschaften von Wolframdisulfid-Filmen auf SiO2/Si-Substraten beruhen auf ihrer geschichteten Struktur, der ausgeprägten halbleitenden Bandlücke und der starken Steifigkeit in der Ebene. Die typische Gleichmäßigkeit der Schichtdicke gewährleistet ein konsistentes optisches und elektronisches Verhalten, während die Oberflächenchemie der Schicht eine stabile Leistung unter Standardumgebungsbedingungen gewährleistet. Die WS2-Folie weist eine hohe thermische Stabilität, geringe Reibung und eine bemerkenswerte Photoresponsivität auf und eignet sich daher für moderne elektronische und photonische Anwendungen.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Dieses Produkt sollte in einer sauberen Umgebung mit Handschuhen gehandhabt werden, um die Verunreinigung durch Partikel und Öl zu minimieren. Vermeiden Sie es, die Folie über einen längeren Zeitraum übermäßiger Feuchtigkeit oder extremen Temperaturen auszusetzen. Lagern Sie, wenn möglich, jedes Substrat in einer einzelnen, statikfreien Verpackung in einem Exsikkator oder versiegelten Behälter. Dies trägt dazu bei, die strukturelle Integrität der Folie zu bewahren, verhindert unerwünschte Oxidation oder Oberflächenverschlechterung und gewährleistet eine zuverlässige Leistung in den nachfolgenden Verarbeitungs- und Prüfschritten.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Wolframdisulfid-Film auf SiO2/Si-Substrat WS2 Film 10x10 mm?

A3: Die Qualitätssicherung für Wolframdisulfid-Folien erfolgt in der Regel nach anerkannten Standards für Halbleitermaterialien, wie z. B. ISO 9001 für eine gleichmäßige und zuverlässige Fertigung. Der Produktionsprozess umfasst häufig gründliche Messungen der Schichtdicke, der Gleichmäßigkeit und der Haftfestigkeit. Einige Hersteller überprüfen auch die Einhaltung von Umweltrichtlinien wie RoHS oder REACH, um sicherzustellen, dass möglichst wenige gefährliche Stoffe enthalten sind. Diese Normen tragen dazu bei, Produktleistung, Wiederholbarkeit und Rückverfolgbarkeit in der gesamten Lieferkette für kommerzielle und industrielle Anwendungen zu gewährleisten.

Verwandte Informationen

1. Herstellungsprozess

Optimierte chemische Gasphasenabscheidung (CVD) wird üblicherweise eingesetzt, um gleichmäßige und hochwertige Wolframdisulfid (WS2)-Schichten auf SiO2/Si-Substraten zu erzeugen. Während dieses Prozesses sorgen genau kontrollierte Temperaturen und Gasflussraten für eine gleichmäßige Schichtdicke über die gesamte Probenfläche von 10 x 10 mm. Durch sorgfältige Steuerung der Wachstumsbedingungen können die Hersteller WS2-Schichten mit hervorragender Bedeckung, geringer Defektdichte und starker Haftung auf der darunter liegenden Siliziumdioxidschicht herstellen.

Die Aufrechterhaltung einer stabilen Umgebung während der gesamten Abscheidung ist entscheidend für die Minimierung von Verunreinigungen und den Erhalt der WS2-Gitterstruktur. Die sorgfältige Kontrolle der Zusammensetzung des Ausgangsmaterials und der Reinheit des Trägergases trägt zu einer verbesserten Kristallinität und Reproduzierbarkeit bei. Infolgedessen weisen diese Schichten genau kontrollierte elektrische, optische und mechanische Eigenschaften auf, die sie für eine breite Palette von kommerziellen und Forschungsanwendungen geeignet machen.

2. Globale Markttrends

Jüngste Berichte weisen auf ein wachsendes weltweites Interesse an zweidimensionalen Materialien wie WS2 hin, das durch ihre vorteilhaften Eigenschaften in Bereichen wie Nanoelektronik, Optoelektronik und Energiespeicherung begründet ist. Die Nachfrage nach 10x10 mm Wolframdisulfid-Schichten auf SiO2/Si-Substraten ist besonders ausgeprägt in Regionen mit florierenden Halbleiter- und Werkstoffsektoren, in denen Forschungseinrichtungen und Branchenführer gemeinsam an neuen Gerätekonzepten arbeiten.

Die verstärkte Finanzierung von Forschung und Entwicklung sowie die enge Zusammenarbeit zwischen akademischen, kommerziellen und staatlichen Akteuren hat die Bemühungen um die Integration von WS2 in Technologien der nächsten Generation beschleunigt. Von hochempfindlichen Sensoren bis hin zu geschichteten elektronischen Komponenten - der expandierende Markt erkennt WS2-Filme als vielseitige Option für Hochleistungsgeräte an und schafft damit die Voraussetzungen für weitere Investitionen und Innovationen in diesem Spezialgebiet.