CY8551 Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Durchm. 4 Zoll

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Durchm. 4 Zoll Beschreibung

Unser Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Dia. 4 Zoll ist ein Präzisionsprodukt für die fortgeschrittene Forschung, Entwicklung und Produktion. Mit der kristallographischen Ausrichtung (100) bietet dieser Wafer ein optimales Gleichgewicht zwischen mechanischer Festigkeit und elektronischen Eigenschaften. Seine hervorragende Gleichmäßigkeit und geringe Fehlerdichte gewährleisten zuverlässige Ergebnisse für Anwendungen in der Mikroelektronik, Photovoltaik und Sensorherstellung. Das nach hohen Reinheitsstandards hergestellte Substrat weist einen konstanten spezifischen Widerstand und eine minimale Oberflächenvariabilität auf, was eine präzise Mikrofertigung und Geräteleistung unterstützt.

Um höchste Qualität zu gewährleisten, wird jedes Siliziumsubstrat einer strengen Prüfung und strengen Qualitätskontrollen unterzogen. Glatte Oberflächen und enge Dickentoleranzen ermöglichen eine außergewöhnliche Reproduzierbarkeit in der Photolithographie, beim Ätzen und bei Abscheidungsprozessen. Durch die Kombination von robusten Materialeigenschaften und tadellosen Standards ist unser 4-Zoll-(100)-Siliziumsubstrat so konzipiert, dass es die anspruchsvollen Anforderungen modernster Anwendungen erfüllt.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Durchm. 4 Zoll Anwendungen

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Dia. 4 Zoll ist eine äußerst vielseitige Plattform, die in einer Vielzahl von Branchen eingesetzt wird, in denen Präzision und Zuverlässigkeit gefragt sind. Seine einzigartigen Eigenschaften, wie z. B. die gleichmäßige Kristallorientierung, die ausgezeichnete thermische Stabilität und die glatte Oberfläche, machen es ideal für die Mikroelektronik, Sensoren und fortgeschrittene Materialstudien. Die kontrollierten Dotierungsniveaus und die gleichmäßige Dicke dieses Substrats tragen ebenfalls zu einer verbesserten Leistung der Geräte unter anspruchsvollen Bedingungen bei.

1. industrielle Anwendungen

-Herstellung von Präzisionssensoren: Die hohe strukturelle Reinheit und die gleichmäßige Oberfläche unterstützen die präzise Reaktion der Sensoren, selbst in rauen Fabrikumgebungen.

-Automobilelektronik: Gewährleistet dank des hervorragenden Wärmemanagements eine zuverlässige Leistung in Motorsteuergeräten und Sensormodulen.

-Lebensmittel- und pharmazeutische Instrumentierung: Bietet hervorragende chemische Beständigkeit für die Prozessüberwachung und Qualitätskontrolle.

2. forschungsanwendungen

-Entwicklung von mikroelektromechanischen Systemen (MEMS): Die stabile kristallografische Ausrichtung unterstützt die Entwicklung moderner MEMS-Geräte in der akademischen und industriellen Forschung und Entwicklung.

-Studien zu photovoltaischen Materialien: Eine konsistente kristalline Struktur unterstützt die Erforschung neuer Solarzellentechnologien.

-Fortgeschrittene Nanotechnologie-Projekte: Hochwertige Oberflächen erleichtern das präzise Ätzen und Strukturieren für Innovationen im Mikro- und Nanobereich.

3. kommerzielle Anwendungen

-Unterhaltungselektronik: Hochleistungssubstrate für integrierte Schaltungen in Smartphones, Tablets und anderen tragbaren Geräten.

-Telekommunikationsgeräte: Ideal für die Herstellung von HF-Komponenten und Hochfrequenzschaltungen zur Verbesserung der Signalstabilität.

-Sensoren und Überwachungsinstrumente für medizinische Geräte: Bietet eine zuverlässige, biokompatible Basis für Diagnosegeräte und tragbare Gesundheitstechnologien.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Dia. 4 Zoll Verpackung

Jedes 4-Zoll-Si-Substrat (100) ist einzeln in einer elektrostatisch ableitenden Polsterung verpackt und anschließend in einem robusten, vakuumverpackten Beutel versiegelt, um maximalen Schutz zu gewährleisten. Es sollte in einer sauberen, trockenen Umgebung bei kontrollierter Temperatur (20°C-25°C) und niedriger Luftfeuchtigkeit gelagert werden, um die Kontamination zu minimieren. Zusätzliche kundenspezifische Versiegelungen, doppellagige Barrierefolien und Etikettierungsoptionen sind erhältlich. Achten Sie auf eine ordnungsgemäße Handhabung und Entsorgung, um die Integrität des Substrats und die Einhaltung von Umweltstandards zu gewährleisten.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste oder kundenspezifisch.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Durchm. 4 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Dia. 4 Zoll?

A1: Das kristalline Silizium (Si)-Substrat (100) Dia. 4 Zoll hat in der Regel einen Durchmesser von 100 mm und eine (100) kristallografische Ausrichtung, die eine einheitliche atomare Anordnung bietet, die für die Herstellung von Halbleiterbauelementen entscheidend ist. Es weist eine hohe Reinheit, einen kontrollierten spezifischen Widerstand und eine ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit auf. Die Oberfläche des Substrats wird häufig poliert, um eine präzise Ebenheit zu erreichen und Defekte für eine konsistente lithografische Strukturierung und eine hohe Bauelementleistung zu reduzieren.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Die ordnungsgemäße Handhabung von Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Dia. 4 Zoll erfordert die Verwendung von Reinraumhandschuhen, um Verunreinigungen zu vermeiden und den direkten Kontakt mit Oberflächen zu minimieren. Die Substrate sollten in speziellen Trägern mit minimalen Vibrationen oder Stößen transportiert werden. Zu den empfohlenen Lagerbedingungen gehören niedrige Luftfeuchtigkeit, stabile Temperatur und staubfreie Umgebung. Vor der Verarbeitung werden sanfte Reinigungstechniken angewandt, um die Integrität der Oberfläche zu erhalten.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Silizium(Si)-Kristallsubstrate (100) Dia. 4 Zoll?

A3: Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Ø. 4 Zoll entspricht in der Regel den SEMI M1-Normen, die den Waferdurchmesser, die Dickentoleranz, die Oberflächenebenheit und die kristallografische Ausrichtung festlegen. Die Hersteller führen häufig umfassende Inspektionen mit optischen und messtechnischen Instrumenten durch, um die Oberflächenqualität und das Fehlerniveau zu überprüfen. Diese Substrate können auch die Anforderungen der ISO 9001 erfüllen, um einheitliche Herstellungsprozesse, Rückverfolgbarkeit und die Einhaltung strenger Qualitätsmanagementrichtlinien zu gewährleisten.

Verwandte Informationen

1. Industrienormen und Zertifizierungen

Im Bereich der Halbleiterindustrie wird das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (100) Dia. 4 Zoll sorgfältig nach den strengen SEMI-Richtlinien gefertigt, um gleichbleibende Toleranzen für Dicke, Ebenheit und Ausrichtung zu gewährleisten. Diese strengen Spezifikationen helfen den Herstellern, optimale Erträge für mikroelektronische Komponenten zu erzielen, und sie bestätigen auch, dass das Substrat die Qualitäts- und Zuverlässigkeitsstandards erfüllt, die von Hochleistungsgeräten gefordert werden.

Die Hersteller führen häufig zusätzliche Zertifizierungen durch, um die chemische Reinheit, die Oberflächenbeschaffenheit und die Maßhaltigkeit zu überprüfen. Diese speziellen Prüfungen ermöglichen die Rückverfolgbarkeit über den gesamten Lebenszyklus des Produkts und geben den Anwendern die Gewissheit, dass das Substrat für kritische Anwendungen in integrierten Schaltkreisen, Sensoren und anderen fortschrittlichen elektronischen Systemen zuverlässig ist.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Bei der Halbleiterherstellung werden Silizium (Si)-Kristallsubstrate (100) Dia. 4-Zoll-Wafer für hochmoderne integrierte Schaltkreise, dank ihrer gleichmäßigen kristallinen Struktur und außergewöhnlichen Wärmeleitfähigkeit. Ausgehend von einer gleichmäßig ausgerichteten (100)-Ebene können die Hersteller von Bauelementen fein abgestimmte Dotierungsprofile und präzise gesteuerte Ätzprozesse erzielen, die beide für Chip-Layouts mit hoher Dichte und fortschrittliche Verpackungslösungen unerlässlich sind.

Neben der Mikroelektronik sind diese Substrate auch in aufstrebenden Märkten wie der Photonik, der Leistungselektronik und den Kommunikationsnetzen der nächsten Generation gefragt. Mit ihrer robusten mechanischen Stabilität, präzisen Ausrichtung und inhärenten technischen Flexibilität dienen sie als grundlegende Plattform für verschiedene Innovationen, darunter Quantencomputer-Hardware und hochmoderne MEMS-Geräte.