CY8547 Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Durchm. 2 Zoll

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Durchm. 2 Zoll Beschreibung

Erleben Sie überragende Leistung mit unserem Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Dia. 2 Zoll, das sorgfältig für die Spitzenforschung in der Halbleiter- und Photonikindustrie hergestellt wurde. Die kristallografische Ausrichtung (111) liefert eine außergewöhnliche Kristallqualität und ist damit ideal für die Herstellung fortschrittlicher Geräte wie Leistungselektronik und mikroelektromechanische Systeme (MEMS). Jedes Substrat wird auf eine spiegelglatte Oberfläche poliert und hält enge Dickentoleranzen ein, was eine minimale Fehlerdichte und stabile Verarbeitungsbedingungen gewährleistet.

Unsere Silizium(111)-Wafer erfüllen strenge Industrie- und Qualitätsstandards, einschließlich umfassender Prüfungen auf Oberflächenrauhigkeit, Integrität der Kristallstruktur und Maßgenauigkeit. Dieses Engagement für Spitzenleistungen garantiert konsistente, wiederholbare Ergebnisse sowohl in der Forschung und Entwicklung als auch in der Großserienfertigung. Ganz gleich, ob Sie neuartige Optiken oder integrierte Schaltkreise der nächsten Generation entwickeln, unser Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Dia. 2 inch bietet die Zuverlässigkeit und Leistung, die Sie benötigen.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Durchm. 2 Zoll Anwendungen

Das Siliziumkristallsubstrat (111) mit einem Durchmesser von 2 Zoll ist ein Schlüsselmaterial, das sich durch außergewöhnliche strukturelle Einheitlichkeit, definierte Ausrichtung und bemerkenswerte thermische Stabilität auszeichnet. Die (111)-Orientierung bietet eine hervorragende Oberfläche für epitaktisches Wachstum und ermöglicht hochwertige Schichten, die für die Herstellung fortschrittlicher Bauelemente unerlässlich sind. Mit seinem kontrollierten Verunreinigungsgrad und seiner geringen Defektdichte gewährleistet dieses Substrat Präzision und Zuverlässigkeit in verschiedenen industriellen, wissenschaftlichen und kommerziellen Anwendungen.

1. industrielle Anwendungen

-Anwendung 1: Herstellung von Hochtemperatursensoren und -aktoren, die die bemerkenswerte thermische Stabilität des Substrats nutzen

-Anwendung 2: Leistungselektronische Geräte, bei denen die geringe Defektdichte für eine verbesserte Leistung und Langlebigkeit genutzt wird

2) Forschungsanwendungen

-Anwendung 1: Studien zum Quantencomputing, Nutzung der präzisen Dotierungskontrolle zur Stabilisierung von Qubits

-Anwendung 2: Materialwissenschaftliche Untersuchungen zur Bewertung des kristallinen Wachstums und der Defektbildung auf (111) orientierten Oberflächen

3. kommerzielle Anwendungen

-Anwendung 1: Massenproduktion hochwertiger integrierter Schaltkreise, die von der strukturellen Einheitlichkeit profitieren

-Anwendung 2: Display-Technologien der nächsten Generation, die die überlegene kristalline Oberfläche für zuverlässige Epitaxieschichten nutzen

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Durchm. 2 Zoll Verpackung

Jedes Siliziumkristallsubstrat (111) mit einem Durchmesser von 2 Zoll ist einzeln in einem schützenden, partikelarmen Polybeutel vakuumversiegelt und dann mit Schaumstoff in einem stabilen, reinraumtauglichen Behälter gepolstert. Um eine Kontamination zu vermeiden, sollten Sie bei der Handhabung Handschuhe tragen und in einer trockenen, klimatisierten Umgebung lagern. Zusätzliche antistatische und feuchtigkeitssperrende Schichten sorgen für maximale Reinheit. Kundenspezifische Beschriftungen, Verpackungsmengen und Spezialbehälter sind auf Anfrage erhältlich und gewährleisten Flexibilität für unterschiedliche Forschungs- und Produktionsanforderungen.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Durchm. 2 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Dia. 2 Zoll?

A1: Das Silizium (Si)-Kristallsubstrat mit einer (111)-Orientierung bietet in der Regel eine hohe mechanische Stabilität, eine hohe kristallografische Reinheit und gegebenenfalls eine gleichmäßige Dotierung. Sein Durchmesser von 2 Zoll entspricht einem präzisen Waferstandard für Forschung und Industrie. Die Wärmeleitfähigkeit liegt bei etwa 150 W/mK, und das Substrat weist in der Regel eine Dicke von 275-525 µm auf, was die Kompatibilität mit verschiedenen Mikrofabrikationsprozessen gewährleistet.

Q2: Wie sollte das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Dia. 2 Zoll gehandhabt und gelagert werden?

A2: Tragen Sie bei der Handhabung des Silizium(Si)-Kristallsubstrats stets puderfreie Handschuhe, um Verunreinigungen und Fingerabdrücke zu vermeiden. Verwenden Sie eine Kunststoff- oder Teflonpinzette, um Kratzer auf der empfindlichen Waferoberfläche zu vermeiden. Lagern Sie das Substrat in einem reinraumtauglichen Behälter bei niedriger Luftfeuchtigkeit und unter staubfreien Bedingungen, um Oxidation und Partikel zu minimieren. Vermeiden Sie plötzliche Temperaturschwankungen, da thermische Schocks zu Verformungen oder Mikrorissen führen können.

Q3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Dia. 2 Zoll?

A3: Silizium-(Si-)Kristallsubstrate entsprechen in der Regel den SEMI M1-Normen für Waferabmessungen, Oberflächenebenheit und Materialreinheit. Zusätzliche ISO-Zertifizierungen, wie z. B. ISO 9001, können auch für die Fertigungskonsistenz und das Qualitätsmanagement gelten. Die Zulieferer stellen oft ein Konformitätszertifikat zur Verfügung, das auch eine Überprüfung des Widerstandes und der Dicke beinhaltet. Die Einhaltung dieser Normen gewährleistet zuverlässige, reproduzierbare Ergebnisse für die Herstellung von Geräten, die Halbleiterforschung und andere anspruchsvolle Anwendungen.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Ausgehend von einer sorgfältig ausgerichteten (111)-Ebene weist das Silizium (Si)-Kristallsubstrat Dia. 2 Zoll eine außergewöhnliche kristalline Gleichmäßigkeit, die seine elektronische und strukturelle Integrität verbessert. Durch diese Ausrichtung werden Gitterdefekte stark reduziert, wodurch es sich besonders gut für die Herstellung fortschrittlicher Geräte eignet, bei denen Konsistenz und hohe Zuverlässigkeit entscheidend sind. Der Präzisionsdurchmesser von 2 Zoll gewährleistet ein optimales Gleichgewicht zwischen der Flexibilität des Bauteillayouts und dem Kostenmanagement, während die stabilen thermischen Ausdehnungseigenschaften des Substrats die Verformung während der Hochtemperaturverarbeitung minimieren.

Verstärkt durch seine starke kovalente Bindung bietet dieses Siliziumkristallsubstrat eine robuste Grundlage, die einer Reihe anspruchsvoller Anwendungen standhalten kann. Die geringere Defektdichte der (111)-Orientierung begünstigt eine höhere Ladungsträgerbeweglichkeit, was zu einem effizienteren Elektronentransport für Leistungselektronik und Hochgeschwindigkeitsschaltungen führt. Darüber hinaus unterstützen die hohe chemische Stabilität und die flache Oberfläche die Entwicklung verschiedener Dünnfilmschichten, die den Weg für neue Anwendungen in mikroelektromechanischen Systemen (MEMS) und Quantenbauelementen ebnen.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Aufgrund der geringen Oberflächenrauhigkeit und der außergewöhnlichen Kristallorientierung wird das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (111) Dia. 2 inch wird in großem Umfang für die Herstellung modernster Leistungstransistoren, Sensoren und anderer mikroelektronischer Bauteile verwendet. Seine Fähigkeit, die Strukturtreue auch unter aggressiven Verarbeitungsbedingungen beizubehalten, macht es zu einem erstklassigen Kandidaten für die Integration von Verbindungshalbleiter-Heterostrukturen und erweitert damit seinen Einsatzbereich in der modernsten Optoelektronik. Diese Kombination aus präziser Dickenkontrolle und einheitlichen Dotierungsprofilen liefert durchweg zuverlässige Ergebnisse, ein entscheidender Faktor in Branchen, die eine gleichbleibende Qualität von Charge zu Charge verlangen.

Ausgefeilte Lithografietechniken nutzen die (111)-Siliziumoberfläche auch, um eine feine Linienauflösung zu erreichen, die den Weg für fortschrittliche photonische und nanoelektronische Komponenten ebnet. Ob in der Hochleistungs-Datenkommunikation oder in spezialisierten Automobil-Sensorsystemen, dieses Substrat zeichnet sich durch seine konsistenten elektrischen Eigenschaften aus, die einen stabilen Betrieb der Geräte ermöglichen. Da in verschiedenen Bereichen immer komplexere Halbleitertechnologien zum Einsatz kommen, ist die Fähigkeit des (111)-Siliziumsubstrats, eine reibungslose Integration und eine ertragreiche Fertigung zu ermöglichen, nach wie vor von entscheidender Bedeutung, um die Grenzen der modernen elektronischen Innovation zu verschieben.