CY8546 Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 2 Zoll

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 2 Zoll Beschreibung

Hergestellt aus hochreinem, monokristallinem Silizium mit der Ausrichtung (110), wird unser Dia. 2-Zoll-Substrat wird sorgfältig geschnitten und poliert, um eine hervorragende Gleichmäßigkeit zu erzielen. Diese Ausrichtung ist besonders vorteilhaft für eine Vielzahl von mikroelektronischen Anwendungen, einschließlich der Herstellung von Sensoren, Transistor-Arrays und fortgeschrittener Forschung in der Halbleiterphysik. Unsere Substrate werden strengen Qualitätskontrollen unterzogen, um den Industriestandards zu entsprechen, und gewährleisten minimale Oberflächenrauheit, geringe Widerstandsabweichungen und außergewöhnliche Integrität. Mit gleichmäßiger Dicke und minimaler Wölbung oder Verformung bieten sie eine zuverlässige Grundlage für die präzise Verarbeitung von Geräten. Ob für die Massenproduktion oder die Spitzenforschung, unser Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Dia. 2 Zoll zeichnet sich durch seine robuste Leistung, zuverlässige Wiederholbarkeit und erstklassige Übereinstimmung mit den weltweiten Anforderungen der Halbleiterherstellung aus.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 2 Zoll Anwendungen

Silizium-(Si-)Kristallsubstrate (110) Dia. 2 Zoll sind weithin bekannt für ihre außergewöhnliche Reinheit, kristallografische Ausrichtung und stabile strukturelle Eigenschaften. Sie spielen eine zentrale Rolle in zahlreichen Branchen, von der Mikroelektronik bis hin zu fortschrittlichen Forschungsbereichen. Ihre gleichmäßige kristalline Anordnung bietet eine überragende elektrische Leitfähigkeit, was sie ideal für den Einsatz in Sensoren, Halbleitergeräten und in der Spitzenforschung macht. Diese Kombination aus präziser Ausrichtung und hochwertigen Oberflächeneigenschaften zeichnet sie für verschiedene Spezialanwendungen aus.

1. industrielle Anwendungen

-Präzisionswaferherstellung: Die (110)-Ausrichtung verbessert die mechanische Festigkeit und die Ätzeigenschaften und ermöglicht die Herstellung robuster mikroelektromechanischer Systeme.

-Leistungsstarke Sensoren: Hervorragende elektronische Eigenschaften erleichtern die hochgenaue Erkennung und Messung in der Fertigung und Prozesskontrolle.

2) Forschungsanwendungen

-Prototyping von Quantenbauelementen: Die stabile Kristallstruktur unterstützt die Entwicklung fortschrittlicher elektronischer und Quantensysteme in Hochschulen und F&E-Labors.

-Oberflächenwissenschaftliche Studien: Gleichmäßige Oberflächen sind ideal für die Untersuchung chemischer Reaktionen und Materialeigenschaften auf atomarer Ebene.

3. kommerzielle Anwendungen

-Halbleiterbauelemente: Hervorragende Leitfähigkeit und zuverlässige kristallografische Ausrichtung sind entscheidend für den Aufbau integrierter Schaltungen in der Unterhaltungselektronik.

-Photonische Komponenten: Die präzise Gitteranordnung verbessert die optischen Eigenschaften und unterstützt hocheffiziente photonische Systeme in der Kommunikationstechnologie.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 2 Zoll Verpackung

Jedes 2-Zoll-Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) ist einzeln in einem versiegelten antistatischen Beutel verpackt, der mit Schaumstoffeinlagen ausgekleidet ist, um mechanische Schäden zu vermeiden. Diese Beutel sind außerdem in Feuchtigkeitsbarrierebeuteln mit Trockenmittelpaketen eingeschlossen, um die Trockenheit zu erhalten und Verunreinigungen zu vermeiden. Für eine optimale Lagerung sollten die Substrate in einer sauberen Umgebung mit geringer Luftfeuchtigkeit aufbewahrt werden. Kundenspezifische Beschriftungen, spezielle Schaumstoffformen und Doppelverpackungen sind auf Anfrage erhältlich, um speziellen Versand- oder Handhabungsanforderungen gerecht zu werden.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 2 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Dia. 2 Zoll?

A1: Das Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) mit einem Durchmesser von 2 Zoll weist spezifische elektrische, mechanische und optische Eigenschaften auf, die es für fortschrittliche Anwendungen unerlässlich machen. Zu seinen Schlüsseleigenschaften gehören eine hohe Ladungsträgerbeweglichkeit, eine definierte Ausrichtung entlang der (110)-Ebene, eine geringe Defektdichte und eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit. Dieses Substrat wird häufig in der Mikroelektronik, bei Photovoltaikzellen und anderen Forschungsprojekten auf Halbleiterbasis eingesetzt.

Q2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Um den makellosen Zustand des Substrats zu erhalten, sollte das Personal den Wafer mit puderfreien Handschuhen und weichen Pinzetten oder Vakuumstäben anfassen, um Oberflächenverschmutzung und physische Schäden zu vermeiden. Vermeiden Sie den direkten Kontakt mit bloßen Händen und lagern Sie das Substrat in einer sauberen, trockenen Umgebung in speziellen Waferträgern oder Spezialverpackungen. Eine sachgemäße Handhabung reduziert die Kontamination durch Partikel und bewahrt die Oberflächenintegrität für die nachfolgende Verarbeitung.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für Silizium (Si)-Kristallsubstrate (110) Dia. 2 Zoll?

A3: Das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Dia. 2 Zoll hält sich in der Regel an branchenspezifische Normen, wie z. B. SEMI M1 für Wafergeometrie und Oberflächenspezifikationen, die eine einheitliche Dicke, einen einheitlichen Durchmesser und eine einheitliche Ebenheit gewährleisten. Die Hersteller arbeiten häufig mit ISO 9001-zertifizierten Qualitätsmanagementsystemen, um Rückverfolgbarkeit und gleichbleibende Produktleistung zu gewährleisten. Die Einhaltung dieser Normen unterstützt die zuverlässige Halbleiterverarbeitung und garantiert den Endverbrauchern die Qualität und Reproduzierbarkeit des Substrats.

Verwandte Informationen

1. Materialeigenschaften und Vorteile

Das sorgfältig für eine präzise kristallografische Ausrichtung entwickelte Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Dia. 2 Zoll bietet eine hervorragende Plattform für die moderne Halbleiterherstellung. Die (110)-Orientierung sorgt für nahezu gleichmäßige Atomabstände auf der gesamten Oberfläche, was ein äußerst vorhersehbares Ätzverhalten begünstigt und scharfe Musterübertragungen während lithografischer Prozesse erleichtert. Dieser besondere Typ von Siliziumsubstrat ist für seine stabilen mechanischen Eigenschaften bekannt, die es unter den anspruchsvollen Bedingungen der Mikroelektronikproduktion weniger anfällig für Risse oder Verformungen machen.

Diese Substrate weisen eine hervorragende elektrische Leitfähigkeit auf, die durch kontrollierte Dotierungsverfahren angepasst werden kann, so dass Forscher und Hersteller die Leistung der Wafer für spezielle Anwendungen feinabstimmen können. Das Format mit einem Durchmesser von 2 Zoll bietet ein ausgewogenes Verhältnis zwischen einfacher Handhabung und ausreichender Oberfläche für das Prototyping oder die Produktion kleinerer Bauteile. Mit seiner außergewöhnlichen thermischen Stabilität behält das Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) Dia. 2 inch behält seine Integrität durch wiederholte Heiz- und Kühlzyklen bei und gewährleistet so konsistente Ergebnisse für hochpräzise Mikrochip-Designs.

2. Globale Markttrends

Angetrieben durch die steigende Nachfrage nach effizienten, miniaturisierten elektronischen Geräten haben Silizium(110)-Substrate in Regionen, in denen die Entwicklung modernster Chips im Vordergrund steht, erhöhte Aufmerksamkeit erlangt. Länder, die sich auf die Innovation integrierter Schaltkreise konzentrieren, haben Wafer mit einem Durchmesser von 2 Zoll als standardisierte Materialien in Forschungspiloten eingeführt und damit die Voraussetzungen für die zukünftige Massenproduktion geschaffen. Diese Faktoren fördern die Expansion spezialisierter Silizium (110)-Wafer-Technologien, was zu einem deutlichen Anstieg des weltweiten industriellen Wachstums und der Zusammenarbeit zwischen den Fertigungseinrichtungen führt.

Das steigende Interesse an solchen vielseitigen Substraten wird durch die Fortschritte in den Bereichen künstliche Intelligenz, Hochfrequenz-Kommunikationssysteme und photonische Geräte weiter angeheizt. Die Kompatibilität von Silizium(110)-Wafern mit vielen bestehenden Herstellungsverfahren ermöglicht es diesen Anwendungen, sich zu entfalten, ohne dass umfangreiche Umgestaltungen der Fertigungslinien erforderlich sind. Diese Anpassungsfähigkeit und die zahlreichen Möglichkeiten zur Produktverbesserung positionieren das Silizium (Si) Kristallsubstrat (110) Dia. 2 Zoll an der Spitze des sich schnell entwickelnden Weltmarktes und versprechen eine anhaltende Relevanz für die kommenden Jahre.