CY8543 Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 1 Zoll

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 1 Zoll Beschreibung

Unser Silizium-Kristallsubstrat (110) mit einem Durchmesser von 1 Zoll bietet eine hervorragende kristalline Qualität und eine außergewöhnliche strukturelle Einheitlichkeit. Die (110)-Orientierung bietet einzigartige atomare Anordnungen, die für Anwendungen in der fortschrittlichen Mikroelektronik, Photovoltaik und MEMS-Forschung äußerst vorteilhaft sind. Mit seiner hohen Reinheit und geringen Defektdichte unterstützt dieses Substrat eine präzise Dotierstoffkontrolle und minimale Gitterspannungen, was eine zuverlässige Leistung und reproduzierbare Ergebnisse sowohl in experimentellen als auch in Produktionsumgebungen gewährleistet.

Bei der Herstellung nach strengen Qualitätsstandards wird jedes Substrat einer strengen Prüfung unterzogen, um die Ebenheit der Oberfläche, die Gleichmäßigkeit der Dicke und die allgemeine Maßgenauigkeit zu überprüfen. Diese sorgfältige Überwachung garantiert eine optimale Oberflächenqualität, die für die Dünnschichtabscheidung, Fotolithografie und andere Herstellungsverfahren geeignet ist. Ganz gleich, ob Sie neue Bauelementekonzepte erforschen oder die Produktion hochfahren wollen, unser Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) bietet die gleichbleibenden Eigenschaften und die zuverlässige Leistung, die für technologische Fortschritte der Spitzenklasse unerlässlich sind.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 1 Zoll Anwendungen

Silizium(Si)-Kristallsubstrat (110) Ø. 1 Zoll ist eine vielseitige Grundlage für eine breite Palette anspruchsvoller Methoden. Mit seiner hohen Reinheit, seiner gleichmäßigen kristallinen Struktur und seiner präzisen Ausrichtung ermöglicht es gleichbleibende Leistungen in zahlreichen Bereichen. Die Nutzung dieser Eigenschaften führt zu einer hohen Wärmeleitfähigkeit, überlegenen elektrischen Eigenschaften und einer robusten mechanischen Festigkeit, die es für modernste Anwendungen unverzichtbar macht.

1. industrielle Anwendungen

-Leistungsstarke Elektronik: Die (110)-Ausrichtung gewährleistet einen effizienten Ladungsträgertransport, ideal für Leistungstransistoren.

-Wärmespreizer: Die außergewöhnliche Wärmeleitfähigkeit hilft bei der Ableitung von Wärme in anspruchsvollen industriellen Umgebungen.

2. forschungsanwendungen

-Halbleiter-Experimente: Stabile Kristallorientierung unterstützt fortgeschrittene Dotierungs- und Wachstumsstudien.

-Fortschritte in der Photonik: Gleichmäßige Substratdicke hilft bei der präzisen Entwicklung und Prüfung optischer Komponenten.

3. kommerzielle Anwendungen

-Herstellung von Konsumgütern: Gleichmäßigkeit und Robustheit tragen zu zuverlässigen und langlebigen Produkten bei.

-Sensortechnologien: Die hohe Reinheit gewährleistet eine genaue Signalerfassung und einen stabilen Betrieb über einen langen Zeitraum.

Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Durchm. 1 Zoll Verpackung

Jedes Siliziumkristallsubstrat (110) mit einem Durchmesser von 1 Zoll ist einzeln in einem für Reinräume geeigneten Polyethylenbeutel mit Schaumstoffeinlagen zur Stoßdämpfung versiegelt. Die besten Ergebnisse erzielen Sie, wenn Sie es in einer kontrollierten Umgebung bei 20-25°C und einer Luftfeuchtigkeit von unter 50% lagern. Zu den Maßnahmen zum Schutz vor Kontaminationen gehören das doppelte Einpacken und eine minimale Handhabung. Kundenspezifische Schutzverpackungen, wie z. B. Vakuumversiegelung und ESD-Schutzhüllen, können auf Anfrage angefertigt werden. Eine klare Etikettierung mit den Produktspezifikationen gewährleistet die Rückverfolgbarkeit und eine effiziente Bestandsverwaltung.

Verpackung: Vakuumversiegelt, Holzkiste, oder kundenspezifisch.

Silizium (Si) Kristallsubstrat (110) Durchm. 1 Zoll FAQs

Q1: Was sind die wichtigsten Materialeigenschaften von Silizium (Si) Kristallsubstrat (110) Ø. 1 Zoll?

A1: Das kristalline Silizium (Si)-Substrat (110) Ø. 1 Zoll weist in der Regel eine ausgezeichnete mechanische Festigkeit, eine präzise atomare Anordnung und konsistente Gitterparameter auf. Mit einer kristallographischen Ausrichtung von (110) wird es bevorzugt für mikroelektromechanische Systeme (MEMS) und spezielle elektronische Geräte verwendet, die ein gerichtetes Ätzen erfordern. Der typische spezifische Widerstand liegt je nach Dotierungsart zwischen 1 und 20 Ω-cm und gewährleistet eine stabile Leitfähigkeit. Die Oberfläche ist glatt und weist nur eine minimale Rauheit auf, was die Herstellung hochwertiger Geräte ermöglicht.

F2: Wie sollte dieses Produkt gehandhabt und gelagert werden?

A2: Die ordnungsgemäße Handhabung des Silizium (Si)-Kristallsubstrats (110) Dia. 1 Zoll erfordert das Tragen von Reinraumhandschuhen, um Verunreinigungen zu vermeiden, und das Halten des Substrats an seinen Kanten, um Kratzer zu vermeiden. Es sollte in einer sauberen, statikfreien Umgebung mit kontrollierter Luftfeuchtigkeit und Temperatur gelagert werden. Vermeiden Sie den direkten Kontakt mit harten Oberflächen und verwenden Sie für den Transport gepolsterte Behälter. Durch regelmäßige Inspektion und sorgfältige Reinigung mit zugelassenen Lösungsmitteln wird die Unversehrtheit der Oberfläche erhalten.

F3: Welche Qualitätsstandards und Zertifizierungen gelten für das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Dia. 1 Zoll?

A3: Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Ø. 1 Zoll erfüllt in der Regel die ISO 9001-Normen für das Qualitätsmanagement und gewährleistet so eine konsistente Produktion und Rückverfolgbarkeit. Darüber hinaus halten sich viele Lieferanten an die SEMI-Spezifikationen für Wafergeometrie, Ebenheit und kristallografische Orientierungsgenauigkeit. Die Einhaltung der RoHS-Richtlinien wird häufig zertifiziert, um zu bestätigen, dass nur wenige gefährliche Stoffe enthalten sind. Regelmäßige Qualitätskontrollen und Messverfahren werden durchgeführt, um die Gleichmäßigkeit der Dicke, den Widerstand und die Fehlerdichte vor dem Versand des Produkts zu überprüfen.

Verwandte Informationen

1. Herstellungsprozess

Für die Herstellung des Silizium (Si)-Kristallsubstrats (110) Ø werden sorgfältige Wachstumsmethoden eingesetzt. 1 Zoll, um eine einheitliche Gitterstruktur und stabile Ausrichtung zu gewährleisten. Diese Substrate beginnen oft als hochreine Siliziumkristalle, die durch Techniken wie das Czochralski-Verfahren gezüchtet werden, bei dem Silizium geschmolzen und dann vorsichtig gezogen wird, um einen Barren zu bilden. Die (110)-Ausrichtung wird während dieses Verfahrens präzise beibehalten, was zu den gleichmäßigen Eigenschaften und der Maßgenauigkeit des Substrats beiträgt.

Es folgen fortschrittliche Schneid- und Polierverfahren, bei denen die Wafer aus dem Ingot geschnitten und maschinell poliert werden, um eine optimale Glätte zu erzielen. Beim Polieren werden alle Unregelmäßigkeiten und Verunreinigungen gründlich entfernt, um eine spiegelglatte Oberfläche mit strengen Ebenheitsanforderungen zu erhalten. Diese Detailgenauigkeit ist entscheidend, um minimale Defekte zu erzielen, was entscheidend ist, wenn das Substrat anschließend in der Forschung und im kommerziellen Umfeld für die Herstellung von Bauelementen verwendet wird.

2. Anwendungen in fortschrittlichen Industrien

Die robuste Leistung bei mikroelektromechanischen Systemen (MEMS), Halbleiterlasern und der Herstellung von Mikroprozessoren macht das Siliziumkristallsubstrat (110) Dia. 1 Zoll von unschätzbarem Wert. Seine gut definierte kristalline Ausrichtung sorgt für gleichbleibende Eigenschaften in Bezug auf Wärmemanagement, elektrische Leitfähigkeit und Spannungsverteilung, die alle für empfindliche elektronische Geräte unerlässlich sind. Mit einem Durchmesser von einem Zoll eignet sich das Substrat besonders gut für spezielle Fertigungsumgebungen oder Experimente im Pilotmaßstab, die sich auf innovative Gerätetechnik konzentrieren.

Der gezielte Einsatz in Spitzensektoren wie der Optoelektronik und der Sensorentwicklung ergibt sich aus der hohen Zuverlässigkeit und Maßhaltigkeit dieses Substrats. Seine Fähigkeit, die kristalline Stabilität unter einer Reihe von Bedingungen aufrechtzuerhalten, hilft Forschern und Herstellern, ihre Produktionsprozesse zu rationalisieren, den Materialabfall zu reduzieren und die Qualität der Ergebnisse zu erhöhen. Diese Vielseitigkeit macht das Silizium (Si)-Kristallsubstrat (110) Dia. 1 Zoll zu einer entscheidenden Komponente für die Entwicklung von Technologien der nächsten Generation in verschiedenen High-Tech-Bereichen.